VISTARIS HISTARIS 适用于垂直和水平大尺寸 基板运输的在线溅射设备
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适用于研发和生产的溅射设备 在PVD领域拥有20年以上的专有技术
德国新格拉斯科技集团 溅射竞争力 德国新格拉斯科技集团自1995年成立后已售出超过 8000台涂层设备，既可用于标准溅射工艺也可作为超 高真空沉积设备用于半导体、数据存储、装饰性涂层 和其它应用所需的约0.2 nm超薄层处理。 此外，真空薄膜技术被运用到医学和汽车行业的现代 传感技术，还可当作移动电话技术的压电材料。 德国新格拉斯科技集团在合理利用资源的基础上为高 效生产流程开发创新技术，其核心竞争力在于真空薄 膜技术、湿法化学工艺、表面技术和热加工等专业技 术。集团旨在巩固现有核心竞争力的同时开发新的解 决方案，并借此拓展新的业务。
德国新格拉斯科技集团将其掌握的自动化技术、工艺 技术和工艺步骤整合技术运用到新的应用领域。 德国新格拉斯科技集团作为先进薄膜沉积设备领域的 著名生产商，是业界值得信赖的合作伙伴，并将持续 巩固其在半导体薄膜沉积技术方面的领先地位。集团 作为技术创新方面的中坚力量，拥有很大的成长潜力。
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VISTARIS溅射设备 适用于垂直基板运输的在线生产设备
VISTARIS溅射设备
标准性能特征
德国新格拉斯科技集团为满足光伏产业的需求研发了 VISTARIS设备，这类在线溅射设备对如今的CIGS & CdTe薄膜电池生产起着重要的作用。凭借先进的工艺 技术，设备能够在提高薄膜电池效率的同时降低生产 成本。在光伏技术方面，集团开发并制造的镀膜设备 可以镀特殊膜以及不同材料的多层膜。
>> 集成供电设计 >> 不需来回运输 >> 完全垂直定向运输 >> 独特的运送系统 >> 在设备同一侧装载和卸载基板 >> 通过使用旋转圆柱形磁电管实现最大程度使用靶材 >> 沉积前和沉积中可控制温度 >> 通过动态阀和/或独立闸室分离气体 >> 通过改变腔室方向达到最小占地面积 >> 简易维护，低运行成本 >> 快速更换靶材，适用于各供应商的靶材 >> 易于扩大生产 >> 真空底压：< 1 x 10-6 mbar >> 标准工艺压力：2 - 5 x10-3 mbar
以正面透明或背面金属导电层以及各种材料组成的多 层前驱体涂层为例，该设备的主要优势在于，它可以 用来对玻璃衬底进行真空立式镀膜。德国新格拉斯科 技集团将生产CIGS/CIS电池的工艺设备提升到新的生 产阶段。
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VISTARIS垂直基板运输的在线溅射设备 适用于不同应用的模块化溅射设备 VISTARIS垂直基板运输的在线溅射设备 德国新格拉斯科技集团为满足光伏产业的需求，尤其 是CIGS & CIS薄膜电池的生产研发了VISTARIS设备。 凭借先进的工艺技术，设备能够在提高薄膜电池效率 的同时降低生产成本。在光伏技术方面，集团开发并 制造的镀膜设备可以镀特殊膜以及不同材料的多层 膜。在线溅射设备在如今的薄膜太阳能电池生产中起 着重要作用。 以正面透明或背面金属导电层以及各种材料组成的多 层前驱体涂层为例，该设备的主要优势在于，它可以 用来对玻璃衬底进行真空立式镀膜。德国新格拉斯科 技集团将生产CIGS/CIS电池的工艺设备提升到新的生 产阶段。
适用于PV应用的标准靶材 >> 溅射材料：ITO, AZO, CuGa, Cu, In, AZO, i-ZnO等
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设备配置示例
装载
自动化装卸载基板
缓冲1
减少压力
扩展1
工艺
多功能溅射腔室
扩展2
缓冲2
增加压力
出口
卸载
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HISTARIS
适用于水平基板运输的在线溅射设备 适用于不同应用的模块化溅射设备
HISTARIS 水平基板运输的在线溅射设备 德国新格拉斯科技集团旗下的HISTARIS设备是为满足 光伏产业要求而开发的，同时也适用于建筑玻璃、燃料 电池和移动设备等大面积溅射应用。在线溅射设备在当 今光伏行业CIGS&CdTe薄膜太阳能电池生产中占有重 要的地位。 凭借先进的技术，HISTARIS设备能够在提高电池效率 的同时降低生产成本。模块化设计包括配备旋转磁控 管的工艺腔室，可对高性能TCO层或其它几种材料如金
属和金属氧化物进行溅射沉积。预处理模块可添加清 洗或蚀刻工艺。凭借其独特的模块化设计，HISTARIS 设备非常适合具有挑战性的层叠和灵活的混合产品。 以正面透明或背面金属导电层以及各种材料组成的多 层前驱体涂层为例，该设备的主要优势在于它可应用 于太阳能和显示器行业，对玻璃衬底进行真空水平式 镀膜。标准应用包括减反射层、阻挡层、前驱体层和 Al, Cu, NiV等不同金属层。
Lab system for R&D applications
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Histaris设备的模块化实现高度的灵活性 HISTARIS LAB 装载 卸载
装载腔 TMP
工艺1
TMP
扩展腔
HISTARIS STANDARD 装载
装载腔
扩展腔
TMP
工艺1
TMP 气体分离 TMP
工艺2
TMP
扩展腔
装载腔
卸载
HISTARIS SPEED 装载
装载腔
缓冲腔
扩展腔
TMP
工艺1
TMP
工艺2
TMP 气体分离 TMP
工艺3
TMP
工艺4
TMP
扩展腔
缓冲腔
装载腔
卸载
HISTARIS主要特征 在光伏技术方面，德国新格拉斯科技集团开发并制造的 薄膜沉积设备可以镀特殊膜以及不同材料的多层膜。集 团将生产CIGS& CdTe薄膜太阳能电池的工艺设备提升 到新的生产阶段。
HISTARIS设备采用在线式工艺，通过专门设计的承载 器或直接在定制的滚筒驱动系统上传输基板。装载和 卸载可选不同的自动化模式。
>> 模块化机械概念 >> 集成供电设计 >> 水平基板运输 —— 配备/不配备承载器 >> 通过使用旋转圆柱形磁电管实现最大程度使用靶材 >> 高沉积率 >> 沉积前和沉积中可对温度进行控制 >> 通过动态阀和/或独立闸室分离气体 >> 维护简单，低生产成本 >> 快速更换靶材，适用于各供应商的靶材 >> 真空底压：‹ 1 x 10-6 mbar >> 标准工艺压力：2 - 5 x10-3 mbar
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