Press for perfection! Initialâ„¢ LiSi Press van GC NEXT LEVEL STRENGTH & AESTHETICS
Lithiumdisilicaat glaskeramiek Y
M
G
H
D
TEC
HN
O OL
GC Initial™ LiSi Press – de REVOLUTIONAIRE PERSKERAMIEK Stelt u zich een perskeramiek voor dat alle bestaande producten overtreft. Stelt u zich een perskeramiek voor dat sterker en duurzamer is, esthetischer resultaten oplevert en u aanzienlijke laboratoriumtijd bespaart. Welnu, u hoeft het zich niet meer voor te stellen, want de GC Initial™ LiSi Press is het revolutionaire nieuwe perskeramiek dat een ongeëvenaarde sterkte en een uitzonderlijke esthetiek koppelt aan het grote voordeel van een sneller, gebruiksvriendelijker proces. Er zijn minder stappen, met een meer flexibele procedure, en u zult minstens 15 minuten per restauratie besparen.
HET EERSTE LITHIUMDISILICAAT KERAMIEK MET HDM-TECHNOLOGIE (High Density Micronization) GC Initial LiSi Press is de eerste lithiumdisilicaat ingot met High Density Micronization (HDM), een unieke technologie van GC met ongeëvenaarde fysische eigenschappen en de meest natuurlijke esthetiek van alle mogelijke perskeramiek op de huidige markt. HDM gebruikt gelijk verdeelde lithiumdisilicaat micro D M LO TEC O kristallen om de gehele glasmatrix te vullen in plaats HN van traditionele grotere kristallen te gebruiken die de matrixstructuur niet volledig benutten. Het resultaat is de ultieme combinatie van sterkte en esthetiek, waardoor GC Initial LiSi Press uitermate geschikt is voor alle soorten restauraties met alle niveaus van doorzichtigheid. De cruciale HDM-technologie zorgt ervoor dat het product uiterst stabiel blijft, zonder vervorming of degeneratie, na meermaals bakken.
GC Initial™ LiSi Press heeft een buitgenwoon hoge dichtheid dankzij • geoptimaliseerde componenten • een gepatenteerde innovatieve nieuwe fabricagetechnologie (HDM-technologie)
G
H
Kristal grootte
Y
NEXT LEVEL STRENGTH & AESTHETICS
Matrixviscositeit Optimalisatie Matrix stabiliteit Kristal dichtheid
HDM - High Density Micronization
Eindelijk! Een lithiumdisilicaat keramiek met de esthetiek en sterkte die tandtechnici eisen en die hoogwaardig is
Kristalvorm
GC Initial™ LiSi Press
LiSi Press voor een prachtige glimlach GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod, met inbegrip van de reeds bewezen GC Initial™ LiSi verblend keramiek en GC Initial™ Lustre Pastes NF – onze universele 3D paint-on keramiek, waardoor de esthetiek verder wordt verbeterd in de ruimst mogelijke indicaties. Denk eraan om GC Initial™ LiSi Press met ons tweevoudig hardend hechtend kunstharscement, G-CEM LinkForce™, te gebruiken voor een buitengewoon sterke en duurzame hechting.
Voordelen van Initial™ LiSi Press: • Onovertroffen buigsterkte (450 MPa) • Ongeëvenaarde esthetiek - Rijkere, warmere, helderdere meer heldere kleuren met een uitstekende fluorescentie - Voorspelbare materiaal- en kleurstabiliteit na herhaald bakken - Geoptimaliseerd voor gebruik met GC Initial LiSi verblendkeramiek en GC Lustre Pastes NF • Naadloze korte leercurve • Echte tijdwinst • Vrijwel geen reactielaag bij afstoting uitbedden – schoner persen - Eenvoudige laagverwijdering met glasparelstralen – geen fluorwaterstofzuur • Lagere oplosbaarheid dan andere toonaangevende merken – permanente glans • Antagonistvriendelijk en slijtvast
Afbeelding met dank aan tandtechnicus Dino Li, Dr. Rousselet, J-C. Allègre, Frankrijk
Fysische Eigenschappen Lower solubility than other leading brands Oplosbaarheid voor elk monster onder 4 wt% azijnzuur
5 0
5.4 GC Initial™ LiSi Press
Conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek
SLECHT
15 10 5 0
Tegen GC Initial LiSi Press
Tegen conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek
Niet-gepubliceerde gegevens.
Conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek
10
20
20
GOED
GC Initial™ LiSi Press
15
25
Slijtagediepte van HAp na 400.000 abrasieve cycli 35 30
SLECHT
0
24.2
28 LAGE SLIJTAGE
28
LAGE SLIJTAGE
25 20
11
15 10 5 0
GOED
100
1/5 de oplosbaarheid van conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek
Slijtagediepte (μm)
200
20
30
Slijtagediepte (μm)
300
Hoge sterkte
Slijtagediepte van het materiaal na 400.000 abrasieve cycli 35
Niet-gepubliceerde gegevens.
400
25
GOED
442
Oplosbaarheid (μg/cm²)
508
500
Niet-gepubliceerde gegevens.
Biaxiale sterkte (MPa)
30
SLECHT
Biaxiale buigsterkte van perskeramiek 600
Antagonist friendly and wear resistant
GC Initial™ LiSi Press
Conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek
GCC R&D Interne testresultaten volgens ISO6872:2015 (niet-gepubliceerde gegevens)
Niet-gepubliceerde gegevens.
Unsurpassed Flexural Strength
GC Initial™ LiSi Press
Ongeëvenaarde Esthetiek
Verkrijgbaar In 4 Translucenties HT (glazuurvervanging)
HOOG
Kleurkeuze • Eenvoudige kleurreeks • Vermindering van de voorraad en de kosten • Voldoende aanpasbaar voor een uiterst esthetische opbouw Bleach
HT
HT-EXW HT-BLE
A1
A2
A3
A3.5
MT (pers en stain)
TRANSPARANTIE
Afbeelding met dank aan tandtechnicus M. Picone, België
Transparantie niveau
Transparantie die het beste aansluit bij natuurlijk tandglazuur
A4
B1
B2
HT-E60
HT-E57
B3
Vita*-kleurreeks met warme kleuren van het GC Initial-aanbod van keramische materialen.
LT (one-bodyconcept A, B, C, D of layering techniek) Compacte kleurreeks volgens het one-bodyconcept.
MO (laagsgewijze opbouw) Dankzij de sterke fluorescentie kan een levensechte kleur worden gereproduceerd bij verblending van GC Initial LiSi-porselein.
LAAG
B4
C1
C2
C3
C4
D2
D3
D4 GC Initial™ LiSi Press – High Translucency
HT-E58
HT-E59
HT-E59
HT-E60
HT-E59
HT-E60
HT-E59 HT-EXW
HT-BLE
HT-E57
HT-E58
HT-E59
HT-E60
GC Initial™ LiSi Press – Medium Translucency
MT-B00
MT-B0
MT-A1
MT-A2
MT-A3
MT-B1
MT-B2
MT-C1
MT-C2
MT-D2 MT-B00
MT-B0
MT-A1
MT-A2
MT-A3
GC Initial™ LiSi Press – Low Translucency
LT
LT-A
LT-B
LT-C
LT-D LT-A
LT-B
LT-C
LT-D
GC Initial™ LiSi Press – Medium Opacity
MO
MO-0
MO-1
MO-2
MO-1
MO-2
MO-1
MO-2
MO-0
MO-1
MO-2
MT-B1
MT-B2
MT-C1
MT-C2
MT-D2
This chart is intended as a reference guide only
MT
Verwerking En Indicaties
Afbeelding met dank aan tandtechnicus G. Quini, Spanje
VERWERKINGSTECHNIEK Staining techniek HT
MT
LT MO
Cut-back techniek
INDICATIES
Laagsgewijze opbouwtechniek
Kronen
3-delige bruggen
Veneers
Inlays
Onlays
Afbeelding met dank aan tandtechnicus D. Ibraimi, Zwitserland
GC Initial™ LiSi Press
Natuurlijke lichtdynamiek GC Initial™ LiSi Press
Conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek
Fluorescentie begint vanaf het interne frame MO-O-gelaagd met GC Initial LiSi MO-0
HT-BLE
HT-Bleach 1
CLF + FD-91
FD-93 IN-44
CL-F
D-A2 + EOP + E-58 + TO
Afbeelding met dank aan Simone Maffei, Italië
Natuurlijke opalescentie Gereflecteerde licht
HT-E57
Doorgelaten licht
HT-Bleach 2
Levendige en lichtere kleurtinten Conventional lithium disilicate press ceramic MT-A2
HT-E58
HT -Bleach 3
HT-E59
HT -Bleach
Afbeelding met dank aan tandtechnicus S. Roosen, Oostenrijk
GC Initial™ LiSi Press MT-A2
OngeĂŤvenaarde Esthetische Systeembenadering Geoptimaliseerd voor gebruik met GC Initial LiSi verblendkeramiek en GC Lustre Pastes NF, voor sterkere geperste kronen!
Afbeeldingen met dank aan tandtechnicus M. BrĂźsch, Duitsland
GC Initial™ LiSi Press
Stabiliteit Gedurende Meerdere Bakcycli GC Initial™ LiSi Press Vóór het bakken
Superieure Polijstbaarheid
GC Initial™ LiSi Press Na het bakken 0.15mm
0.50mm
Vergelijking van de glans na het polijsten met diamantpasta
0.30mm
100 90 80
1.00mm
200µm
200µm
Om de marge te simuleren, werd een exemplaar met rand herhaaldelijk gebakken. Perfecte stabiliteit zonder barsten na meermaals bakken.
Glans (%)
70 60 50 40 30 20
Conventional ceramic
lithium
disilicate
press
10 0
NaF 30 min
GC Initial™ LiSi Press
1e keer polijsten
Conventioneel lithiumdisilicaat perskeramiek
GC Initial™ LiSi Press Gepolijst oppervlak (2e keer polijsten) Resultaten na 5 bakcycli (770° C 1 min, hechting). Test uitgevoerd door Masayuki Hoshi, RDT
2e keer polijsten
Werkwijze: Het oppervlak van elk product polijsten na het NaF-etsen met behulp van een zacht Robinsonpenseel* met Zirkon Brite* onder dezelfde omstandigheden (8.000 tpm).
Conventioneel lithiumdisilicaat perskeramiek Gepolijst oppervlak (2e keer polijsten)
Niet-gepubliceerde gegevens.
GC Initial™ LiSi Press
Inbedden & Persen Moeiteloos inbedden • Eenvoudige verwijdering van de reactielaag – geen fluorwaterstofzuur • Hoge vloeibaarheid • Lange verwerkingstijd. • Stabiele uithardingstijd - Meer flexibele oventijd - Tijdbesparingen – ideaal voor laboratorium workflow - Bredere perscapaciteit door robuustere inbedmassa - Betere interne aanpassing
Afbeelding met dank aan tandtechnicus M. Brüsch, Duitsland
Het is gewoon eenvoudiger te gebruiken
Reactielaag op de inbedmassa
Gc Initial™ Lisi Press-SYSTEEM
Conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek
Er is slechts een minimale reactielaag bij GC LiSi PressVest en deze kan eenvoudig worden verwijderd met door het wegstralen met glasparels. Er is geen gevaarlijk fluorwaterstofzuur of aluminiumoxide nodig. Een belangrijk element in de inhibitie van de reactielaag is GC LiSi PressVest SR-vloeistof (oppervlaktebehandeling), die lichtjes licht verneveld wordt in de diepdruk aan de binnenkant van de kronen wordt gesproeid vóór het inbedden.
GC Initial™ LiSi Press
Het Geheim Van Gc Lisi Pressvest MINDER ONTSTAAN VAN DE REACTIELAAG EN GEMAKKELIJKER TE VERWIJDEREN -
GC Initial™ LiSi Press Inbedmassa
Gladde, schone pers
Hybride laag bestaande uit inbedmassa en persmateriaal
Alleen glasparel stralen
Gc Lisi Pressvest Sr-Vloeistof
wordt verneveld aan de binnenkant van de kroon, waarin er gewoonlijk een sterkere reactielaag is.
Conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek Inbedmassa
Reactielaag:
Persmateriaal Stralen
Creëert een “afscheurlijn”
Door het gebruik van een uniek oplosmiddel in het inbedmassapoeder en de GC LiSi PressVest SR-vloeistof wordt een opening of “afscheurlijn” gecreëerd, waardoor de reactielaag gemakkelijk wordt voorkomen.
-
Persmateriaal
Persmateriaal Reactielaag
Persmateriaal Reaction Layer
Stralen
Hoge Vloeibaarheid En Lange Verwerkingstijd GC LiSi PressVest
1 min na het mengen
5 min na het mengen
Conventionele inbedmassa voor conventioneel lithiumdisilicaat perskeramiek
1 min na het mengen
3 min na het mengen
TIJD TOT HET DE INGEBEDDE STRUCTUUR IN DE UITBRANDOVEN WORDT GEPLAATST
20 min tot 180 min
30 min tot 45 min
De inbedmassa kan in de oven worden geplaatst met een marge van wel 160 minuten.
De inbedmassa kan in de oven worden geplaatst met slechts een marge van 15 minuten.
GC Initial™ LiSi Press
Tijdbesparing
GC Initial™ LiSi Press PERSEN
UITBEDDEN
GLASPARELSTRALEN
Conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek PERSEN
UITBEDDEN
GLASPARELSTRALEN
AFWERKEN Bespaarde tijd: 15-20 minuten. Geen fluorwaterstofzuur nodig.
FLUORWATERSTOFZUUR
STRALEN MET ALUMINIUMOXIDE
AFWERKEN
Afbeelding met dank aan tandtechnicus M. Brüsch, Duitsland
Onovertroffen Randaansluiting Conventioneel lithiumdisilicaat perskeramiek
Perfecte randaansluiting
Zwakste punt, gevoelig voor chipping
Afbeelding met dank aan tandtechnicus A. Hodges, VS
Sterke en duurzame hechting THERMISCHE CYCLUS n T.C. 0 n T.C. 5,000 45 40 35 30 25 20
41.9 40.8
15
33.8 22.1
10 5 0
Afbeelding met dank aan tandtechnicus S. Maffei, Italië
Initial™ LiSi Press/G-CEM LinkForce
Conventioneel lithiumdisilicaat perskeramiek met speciaal bevestigingscement
Data on file.
Hechtsterkte (MPa)
GC Initial™ LiSi Press
GC Initial™ LiSi Press
Casussen met Initial™ LiSi, keramiekgamma
Casus van tandtechnicus C. De Gracia, Spanje
Casus van tandtechnicus J-C Allègre en dr. Rousselet, Frankrijk
Casus van tandtechnicus S. Maffei, Italië
Casus van tandtechnicus P. Llobell, Frankrijk
Casus van tandtechnicus C. Fischer, Duitsland
Casus van tandtechnicus B. Marais, VS
Casus van tandtechnicus P. Brito, Portugal
Casus van tandtechnicus M. Bladen, VK
Casus van tandtechnicus O. Yildirim en dr. S. Tavas, Turkije
Casus van tandtechnicus Mirko Picone, België
GC Initial™ LiSi Press – Verpakking
901428 GC Initial™ LiSi Press, HT-EXW, 3g x 5
901434 GC Initial™ LiSi Press, MT-B00, 3g x 5
901444 GC Initial™ LiSi Press, LT-A, 3g x 5
901448 GC Initial™ LiSi Press, MO-0, 3g x 5
901429 GC Initial™ LiSi Press, HT-BLE, 3g x 5
901435 GC Initial™ LiSi Press, MT-B0, 3g x 5
901445 GC Initial™ LiSi Press, LT-B, 3g x 5
901449 GC Initial™ LiSi Press, MO-1, 3g x 5
901430 GC Initial™ LiSi Press, HT-E57, 3g x 5
901436 GC Initial™ LiSi Press, MT-A1, 3g x 5
901446 GC Initial™ LiSi Press, LT-C, 3g x 5
901450 GC Initial™ LiSi Press, MO-2, 3g x 5
901431 GC Initial™ LiSi Press, HT-E58, 3g x 5
901437 GC Initial™ LiSi Press, MT-A2, 3g x 5
901447 GC Initial™ LiSi Press, LT-D, 3g x 5
901432 GC Initial™ LiSi Press, HT-E59, 3g x 5
901438 GC Initial™ LiSi Press, MT-A3, 3g x 5
901433 GC Initial™ LiSi Press, HT-E60, 3g x 5
901439 GC Initial™ LiSi Press, MT-B1, 3g x 5 901440 GC Initial™ LiSi Press, MT-B2, 3g x 5 901441 GC Initial™ LiSi Press, MT-C1, 3g x 5 901442 GC Initial™ LiSi Press, MT-C2, 3g x 5
GC EUROPE N.V. Head Office Researchpark Haasrode-Leuven 1240 Interleuvenlaan 33 B-3001 Leuven Tel. +32.16.74.10.00 Fax. +32.16.40.48.32 info@gceurope.com http://www.gceurope.com
GC BENELUX B.V. Edisonbaan 12 NL-3439 MN Nieuwegein Tel. +31.30.630.85.00 Fax. +31.30.605.59.86 info@benelux.gceurope.com http://benelux.gceurope.com
z L LF NL 7 69 03/17
901443 GC Initial™ LiSi Press, MT-D2, 3g x 5