GENERIS PECVD 适用于PERC太阳能电池 AlOx和SiNy层的 在线PECVD设备
GENERIS PECVD 适用于PERC太阳能电池AlOx和SiNy层的在线PECVD设备
溅射技术概览 德国新格拉斯科技集团自1995年成立后已售出超过 8000台涂层设备，既可用于光盘复制，也可作为超高 真空涂层设备用于半导体和MRAM芯片生产所需的约 0.2nm的超薄层处理。此外，真空薄膜技术被运用到 医学和汽车行业的现代传感技术，还可当作移动电话 技术的压电材料。
PERC太阳能电池两面均为介质钝化层。通过AlOx覆盖 SiN叠层薄膜沉积实现背面钝化。正面的SiNx层既可用 于钝化，也可用于抗反射涂层(ARC)。该设备非常适合
GENERIS PECVD 适用于PERC太阳能电池AlOx和SiNy层的在线 PECVD设备
GENERIS PECVD设备可在全真空不间断环境下对晶 圆的两面进行沉积。AlOx和SINy两种工艺由气体分离 腔室实现。因此，GENERIS PECVD可根据客户需求 进行配置：
电池生产的重点在于平均生产成本。PERC技术能在将 电池效率提高到近22%的同时降低生产成本。新研发 的GENERIS PECVD设备是专为太阳能大批量生产的 特殊需求而设计的水平式在线工具。
经济高效的大批量生产，具有高稼动率和清洁时间短 的优点，能最大化利用原材料。整个工艺可控制基板 温度在450 °C左右，以保证最佳的薄膜层性能。
→→ 完整PERC工艺：背面AlOx + SiNy ，正面SiNx →→ AlOx + SiNy用于PERC背面钝化 →→ 正面SiNx和/或背面ARC和/或背面只有覆盖层
PERC 示意图
正面触点 防反射涂层和正 面钝化 发射极 (n)
制绒表面
AIOx + SINy 背面钝化层堆 基底
p型
本地AI-BSF p+
背面触点
激光烧蚀线 (点)
GENERIS PECVD总结: 其中第一种配置能够在同一工具中对所有PECVD层进 行沉积，为新安装的PERC工厂提供了一种更优惠更具 吸引力的解决方案。 该设备使用一种在线工艺，将基板放在特别为晶圆(最 大尺寸可达M4)而设计的承载器上进行运输。该传输系 统位于设备下方，处于洁净的环境条件。装载和卸载 可选择不同的自动选项。 今后，GENERIS PECVD还将为更多先进和超高效电 池结构如 PERT，IBC，TOPCon/POLO电池等提供掺 杂a-Si层的单面沉积工艺。
电感耦合线性等离子体源 (ICP) →→ 温和的涂层工艺，不会对发射极或界面造成损坏 →→ AlOx和SiNy高效动态沉积，从而减少等离子体源的 数量，降低功耗 →→ 合理有效地使用气体 →→ 最短清洁和维护时间
装载
装载锁
工艺模块AIOx
气体隔离
→→ 适用于每一种太阳能电池结构 →→ 可调节生产量，可配置工艺模块的数量和顺序 →→ IC-PECVD保证温和的涂层工艺，不会对发射极或 界面造成损坏 →→ 工艺全程晶圆温度可控 →→ 全真空不间断PECVD →→ 合理高效地使用气体 →→ 晶圆尺寸：最大为M4 →→ 腔室和托盘设计能减少寄生沉积 →→ 洁净空气中的托盘往返传输系统 →→ 8000 晶圆/小时，稼动率 ≈ 97 % →→ 为今后的电池架构做好准备，例如钝化触点
GENERIS PECVD 标准性能特征 晶圆/托盘
64 (8 × 8)
周期
28.8 s/tray
总生产量
8000 wafer/h
稼动率
≈ 97 %
计划停机时间
≈ 2.5 %
MTBM
240 h
MTTM
4-8 h
工艺模块SiNy
卸载锁
卸载
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