GENERIS PVD
适用于异质结电池的在线 溅射设备
GENERIS PVD 适用于异质结电池的在线溅射设备
溅射技术 德国新格拉斯科技集团自1995年成立后已售出超过
异质结电池两面为PVD（物理气相沉积）沉积的透明
8000台涂层设备，既可用于标准溅射工艺也可作为超
导电氧化层(TCO)。该设备适用于非传统性的层堆，例
高真空沉积设备用于半导体、数据存储、装饰性涂层
如ITO, AZO等透明导电氧化层。这些薄膜拥有极低的
和其它应用所需的约0.2nm超薄层处理。
吸光率和极强的导电性，是异质结电池技术不可或缺 的重要组成部分。非晶硅层堆不存在溅射损伤。整个
德国新格拉斯科技集团在合理利用资源的基础上为高
工艺过程基材温度控制在200 °C以内，保证层堆性能
效生产流程开发创新技术。集团掌握包括真空薄膜技
最优化。
术、湿法化学处理、表面技术和热加工等专业技术， 旨在巩固现有核心竞争力的同时拓展其它业务。
GENERIS PVD溅射设备能在全真空不间断且硅片无需 翻面的情况下对其正反两面的接触层进行沉积。可选
集团将运用其掌握的自动化技术和工艺技术研发创新
择性集成溅射层退火工艺。金属(如Ag)镀膜也在同一
产品，开拓其它具有潜力的业务领域。
设备中完成。通过使用圆柱形磁电管溅射，可在降低 生产成本的同时最大程度使用靶材。
电池生产的重点在于效率。异质结电池技术(HJT)能在 将电池效率提高到22 %的同时降低生产成本。新研发
其它标准应用包括减反射层、阻挡层、前驱体层和Al,
的GENERIS PVD设备是专为光伏高效电池生产而设计
Cu, NiV等不同金属层。设备采用在线式工艺，通过专
的水平式在线溅射工具。
门设计的承载器传输基板并隔离边缘。传送装置位于 设备下方，确保其干净不受污染。装载和卸载可选不 同的自动化模式。
GENERIS PVD
适用于异质结电池的在线 溅射设备
GENERIS PVD标准性能
GENERIS PVD设备适用于异质结太阳能电池的 ITO溅射
适用于ITO, AZO等透明导电氧化层，如HJT →→ 可同时对多个基板进行工艺 →→ 三种可选模式：
→→ GENERIS LAB →→ GENERIS PVD 3000，效率约2600片/小时 →→ GENERIS PVD 5000，效率约5200片/小时 →→ 模块化配置 →→ 低生产成本和高稼动率 →→ 溅射方向可选自上而下/自下而上 →→ 可配置溅射序列 →→ 对整个工艺过程进行温度控制 →→ 通过旋转式圆柱形磁电管最大程度使用靶材 溅射材质：ITO, AZO和Ag, NiV, Cu, Al等金属 →→ 可选单边/双边模式 →→ 可根据客户要求定制手动或半自动式实验室版本
GENERIS PVD设备凭借模块化实现高度灵活性
GENERIS Lab LOADING UNLOADING
LOAD TMP PROCESS 1 TMP PROCESS 2 1TMP PROCESS CHAMBER
EXTENSION CHAMBER
GENERIS PVD 3000 LOADING UNLOADING
LOAD CHAMBER
BUFFER CHAMBER
EXTENSION CHAMBER
TMP PROCESS 1 TMP
GAS TMP PROCESS 2 TMP SEPARARTION
LOAD CHAMBER
BUFFER CHAMBER
EXTENSION CHAMBER
TMP PROCESS 1 TMP PROCESS 2 TMP
EXTENSION CHAMBER
LOAD CHAMBER
LIFT
GENERIS PVD 5000 LOADING UNLOADING
GAS TMP PROCESS 3 TMP PROCESS 4 TMP SEPARARTION
EXTENSION CHAMBER
BUFFER CHAMBER
LOAD CHAMBER
LIFT
GENERIS PVD设备对异质结太阳能电池进行ITO 溅射的IV数据
通过旋转磁控管实现快速冷却和高材料/靶材利 用率
GENERIS PVD 技术参数
→→ 旋转式靶材利用率高达 80 %，平面阴极仅30 %
周期
45-75秒/回，根据配置
→→ 旋转阴极形成喷嘴较少，工艺更稳定
传送带尺寸
~ 1400 mm x 1200 mm 64或56片/回，根据硅片尺寸
产能
2600-5200 w/h（总共），根据配置
溅射材料
ITO, AZO, Ag, NiV, Cu, Al, etc.
→→ 旋转密封圈使用寿命长 →→ 在客户场所进行维护 →→ 先进的注水和排水能力 →→ 灵活的靶材连接方法，对靶材无特定要求
溅射方向 自上而下/自下而上溅射 真空压力
1 x 10-6 mbar
标准工艺压力
2 - 5 x 10-3 mbar
←
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薄膜沉积
表面工程
热处理
湿法化学
德国新格拉斯科技集团 – 技术创新 德国新格拉斯科技集团在合理利用资源的基础上制造高效的生产设备,旨在 巩固并进一步拓宽其现有的核心竞争力。 德国新格拉斯科技集团核心竞争力包括涂层技术、表面工艺、湿法化学处 理和热加工技术，为全球太阳能、半导体、医学技术、消费品和光盘行业 提供生产设备。集团将其掌握的自动化和工艺技术运用到所有设备、工艺 和应用领域。
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