湿法工艺系统
适用于300毫米半导体晶圆
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湿法工艺系统 适用于300毫米半导体晶圆
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创新技术
适用于300毫米半导体晶圆的湿法处理系统
德国新格拉斯科技集团在合理利用资源的基础上为高 效生产流程开发创新技术。新的生产技术将可持续工 艺与创新材料相结合，在确保长期经济增长的同时减 少资源的消耗。随着新的技术开发，集团的创新能力 和竞争力得到进一步的提高。
半导体领域的各种高端产品（晶片、微机电系 统、MRAM存储器、通讯系统）。产品范围包括研发 用的手动湿式设备、半自动设备和用于清洁、蚀刻和 干燥等化学方法表面处理的全自动化工具。
集团在光盘领域是CD、DVD和蓝光光盘生产设备领域 的市场领导者。在太阳能领域是公认的新型光伏设备 概念和晶硅及薄膜太阳能电池生产工艺的供应商，致 力于在减少生产成本的同时提高太阳能电池的效率。 在半导体领域集团专注在适用于生产MRAM存储器、 薄膜读/写头和其它半导体应用的超薄层晶片镀膜技术 的领域。
湿法工艺系统
适用于300毫米半 导体晶圆
→→ 手动湿法工艺站 →→ 半自动及全自动湿法工艺站 →→ 石英管和部件清洗站 →→ 完全无金属的工艺站 →→ 根据客户规格制造的特殊装置 →→ 化学供应系统 泵或压力系统
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半自动湿法处理站 →→ 适用于Bipolar IC‘s, Metal GateCMOS, MOSAIC的半自动湿式设备，最多可同时处理2片 6寸晶圆
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手动湿法工艺站 →→ 湿式设备，最多2片6寸晶圆 →→ 应用： →→ 包括湿式站在内的全套设备（共49台湿式设 备），用于清洗、蚀刻、开发、抗旋转、聚合 工艺和溶剂工艺。 →→ 例如Si-TMAH蚀刻、KOH蚀刻、去除NMP、 石英管清洗器 →→ 集成旋干机、电炉、烤箱、旋转镀膜机等第三 方设备
适用于传感器应用的湿式设备 →→ 适用于传感器应用的湿式设备，最多每次两片6寸 晶圆 →→ 全自动湿式站、手动湿式站和化学供应设备的组合 →→ 应用： →→ RCA（含兆声波清洗）、Au和TiW蚀刻、Cr蚀 刻、氮化物蚀刻、KOH蚀刻、膜蚀刻（TMAH 全自动设备）、膜清洗和后金属灰除渣 →→ 化学供应设备，包括管道和POU试剂盒（含
→→ 应用： →→ 半自动化设备，每个工艺槽和冲洗器都配有旋 转机械臂装置用于装载、卸载以及搅动工艺 槽。 →→ 总共6种半自动化设备的组合用于不同的清洗与 蚀刻应用。 →→ 根据FM 4910设计和建造
化学供药设备 →→ 用于不同应用的化学供药设备 →→ 涵盖混药、调剂、分布和监控高纯度化学品在 内的化学设备。 →→ 专为不同规格设计的设备，可配备不同的输送 引擎。 →→ 传送酸、碱和溶剂等化学品输送的最佳解决 方案。 →→ 化学供药设备可做成单桶装设备(60-1000升) 或双桶装设备(2x200 or 2x1000升) →→ 保证不间断供应化学品。设备可用泵或压力系 统输送。 →→ 如果作为整套设备供货的话，化学管道设备 (双柱) 和POU盒可以作为选项供货。
NH4OH, H2O2, HCl, H3PO4, KOH, H2SO4, TMAH, HF, HNO3和BHF） 全自动湿法工艺站 →→ 适用于清洗掩罩（干进干出）的全自动设备，可最 多同时清洗2片6寸晶圆 →→ NMP清洗设备（含级联型NMP工艺槽和冲洗器） →→ 应用： →→ 使用NMP溶剂清洗掩罩 →→ 带缓冲的全自动设备 →→ 与linear相比更有效的空间利用
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全自动湿法工艺 手动湿法工艺 适用于传感器应用的湿式设备 半自动湿法工艺 化学供药系统
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德国新格拉斯科技集团——技术创新 德国新格拉斯科技集团在合理利用资源的基础上为高效生产流程开发创新 技术。集团旨在巩固现有核心竞争力的同时拓展其他业务，包括将工艺技 术和科学解决方案与机械和设备工程相结合。集团目前掌握真空薄膜和等 离子体技术、湿法化学处理和热加工等专业技术。 德国新格拉斯科技集团将持续发展其核心业务，并将其专有的技术运用到 消耗品、娱乐、能源、移动设备和半导体等新的领域。
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