Industrial Instruments General Catalogue DE by Nikon

Messinstrumente für industrielle Anwendungen – Allgemeiner Katalog 2014

Messinstrumente für industrielle Anwendungen – Allgemeiner Katalog

2014

INHALT

Stereomikroskope Paralleloptik Greenough-Typ

– SMZ25 / SMZ18 / SMZ1000 / SMZ800 – SMZ745 / SMZ745T / SMZ660 / SMZ445 / SMZ460 / SMZ / SM-5 / SM-6

Industrielle Mikroskope Aufrechtmikroskope Inverse Mikroskope für die Metallurgie Polarisationsmikroskope Vielseitig einsetzbare Zoom-Mikroskope

– LV150N / LV150NA / LV100ND / LV100DA-U / L300N / L300ND / L200N / L200ND – MA200 / MA100 / MA100L – LV100NPOL / Ci POL – AZ100 / AZ100M

4-5 6

Digitalkameras für Mikroskope Kameraköpfe für Digitalkameras Separate Steuerung – DS-L3

– DS-Vi1 / DS-Fi2 / DS-Ri1

PC-basierte Steuerung – DS-U3

Digitalmikroskope/Berührungslose 3D-Oberflächenprofilometer mit extrem hoher Vertikalauflösung Digitalmikroskope – ShuttlePix P-400Rv

3D-Oberflächenprofilometer – BW-D500 Serie / BW-S500 Serie

Objektive Objektive – CFI60-2 / CFI60 / CF&IC

Nah-Infrarotobjektive – NIR / NIR-C

Für die Bestückung von Mikroskopen/Waferloadern Modulare Fokussiereinheiten Dynamische Autofokus-Einheit

– IM-4 / LV-IM / LV-FM / LV-FMA – LV-DAF

Kompakte Auflichtmikroskope Waferloader

– CM Serie – NWL200 Serie

– NEXIV VMA / VMR / VMZ-R / VMZ-H Serie – NEXIV VMZ-K Modelle

Messmikroskope Messmikroskope – MM-200 / MM-400 / MM-800

Profilprojektoren / Datenverarbeitungssystem Profilprofjektoren – V-12B / V-20B / V-24B Datenverarbeitungssoftware – E-MAX

Datenprozessor Messsoftware

– DP-E1 – U-DP

Autokollimatoren / DIGIMICRO Autokollimatoren – 6B-LED / 6D-LED

DIGIMICRO – MF-1001 / MF-501 / MH-15M

Optisches Ebenheitsmaß / Optisches Parallellitätsmaß / 300 mm Standardmaßband

10-11

CNC Videomesssysteme CNC Videomesssysteme Konfokale CNC Videomesssysteme

13 14 15

SMZ Serie

Stereomikroskope

Die besonders preisgünstigen Modelle der SMZ Serie bestechen durch herausragende optische Leistung, beeindruckende Erweiterungsmöglichkeiten und höchste Ergonomie.

Paralleloptik

SMZ25 Zoomverhältnis Zoombereich Gesamtvergrößerung*1

SMZ18

SMZ1000

SMZ800

25 : 1

18 : 1

10 : 1

6,3 : 1

0,63 – 15,75x

0,75 – 13,5x

0,8 – 8x

1 – 6,3x

3,15 – 945x (6,3 – 157,5x)

3,75 – 810x

4 – 480x

5 – 378x

(Standardkombination*2)

Arbeitsabstand*3

60 mm

70 mm

78 mm

(7,5 – 135x)

(8 – 80x)

(10 – 63x)

Kamera : Verfügbar*

: Nicht verfügbar

Greenough-Typ

Zoomverhältnis Zoombereich Gesamtvergrößerung*1

SMZ745 SMZ745T

SMZ660

SMZ445 SMZ460

SMZ

7,5 : 1

6,3 : 1

4,4 : 1 4,3 : 1

5:1

0,67 – 5×

0,8 – 5×

0,8 – 3,5×

0,7 – 3×

SM-5 SM-6

0,8 – 4×

3,35 – 300× (6,7 – 50×)

4 – 300×

4 – 70× 3,5 – 60×

4 – 120×

10 – 60×

(Standardkombination*2)

Arbeitsabstand*3

115 mm

100 mm

77,5 mm

100 mm

Kamera

(nur SMZ745T)

(8 – 50×)

(8 – 35×) (7 – 30×)

(8 – 40×)

: Verfügbar*

(20×)

: Nicht verfügbar

*1: Abhängig davon, welches Okular in Verbindung mit welchem Objektiv verwendet wird. *2: 10× Okular in Verbindung mit 10× Objektiv. *3: 1× Objektiv bzw. ohne Vorsatzobjektiv.

Nähere Einzelheiten erfahren Sie in unseren Prospekten.

Mikroskope für industrielle Anwendungen Bei den industriellen Mikroskopen von Nikon kommt die CFI60-2-Optik zum Einsatz, die sich aufgrund ihres einzigartigen Konzepts großer Anerkennung erfreut: Sie gewährleistet hohe numerische Aperturen und große Arbeitsabstände.

Aufrechtmikroskope (Standardmodelle)

LV150N LV150NA LV150NL

LV100ND LV100DA-U Dieses Modell bietet verschiedene Beobachtungsmethoden mit Auflicht- bzw. Durchlicht.

Je nach Beobachtungsmethode und Einsatzzweck stehen unterschiedliche Stative und Beleuchtungssysteme zur Auswahl.

Beobachtungsmethode

DIC

LV150N

POL

LV100ND

2-Strahl

EPI

DIC

POL

Ph-C 2-Strahl

EPI : Verfügbar*

: Nicht verfügbar

DURCHM

: Verfügbar*

: Nicht verfügbar

Beleuchtung

• Auflicht

• Auflicht/Durchlicht

Objekttisch

• 3 × 2 Objekttisch (Verfahrweg 75 × 50 mm) • 6 × 6 Objekttisch (Verfahrweg 150 × 150 mm)

• 3 × 2 Objekttisch (Verfahrweg 75 × 50 mm) • 6 × 4 Objekttisch (Verfahrweg 150 × 100 mm)

*Informationen zu weiteren passenden Objekttischen finden Sie im Prospekt „LV-N Series“.

HF: Hellfeld DF: Dunkelfeld DIC: Differentialinterferenzkontrast FL: Fluoreszenz POL: Polarisation 2-Strahl: Zweistrahl-Interferometrie Ph-C: Phasenkontrast

Aufrechtmikroskope (Modelle mit größerem Objekttisch)

Beobachtungsmethode

L300N L300ND

L200N L200ND

Erhältlich mit einem Objekttisch mit 350 × 300 mm Verfahrweg. Geeignet für die Prüfung von Wafern bis 300 mm ø.

Erhältlich mit einem Objekttisch mit 200 × 200 mm Verfahrweg. Geeignet für die Prüfung von Wafern bis 200 mm ø.

L300ND

DIC

S-POL

EPI DURCHM

DIC

S-POL

EPI *

*nur L300ND

DURCHM

: Verfügbar*

: Nicht verfügbar

* *

*nur L200ND

: Verfügbar*

: Nicht verfügbar

Beleuchtung

• L300N : Auflicht • L300ND : Auflicht/Durchlicht

• L200N : Auflicht • L200ND : Auflicht/Durchlicht

Objekttisch

• 14×12 Objekttisch (Verfahrweg: 350 × 300 mm)

• 8 × 8 Objekttisch (Verfahrweg: 200 × 200 mm)

HF: Hellfeld DF: Dunkelfeld DIC: Differentialinterferenzkontrast S-POL: Vereinfachte Polarisation FL: Fluoreszenz

L200ND

Nähere Einzelheiten erfahren Sie in unseren Prospekten.

ECLIPSE Serie Inverse Mikroskope für die Metallurgie

MA200

MA100 MA100L

Dank seines einzigartigen Baukörpers in Kastenform ist das MA200 sehr robust, langlebig und platzsparender als herkömmliche Modelle.

Beobachtungsmethode Beleuchtung Objekttisch

EPI

Die MA100 und MA100L Modelle sind kompakte Umkehrmikroskope, die für die Hellfeld- und vereinfachte Polarisationsbeobachtungen entwickelt wurden.

DIC

S-POL

EPI

DURCHM

DIC

MA100L

S-POL

: Verfügbar* : Verfügbar*

: Nicht verfügbar

• Auflicht/Durchlicht

• Auflicht

• MA2-SR Kreuztisch (Verfahrweg 50 × 50 mm)

• MA-SR 3-Plattentisch (Verfahrweg 50 × 50 mm) • MA-SP Objekttisch • Ti-SM Anschließbarer Kreuztisch CH (Verfahrweg 126 × 80 mm)

HF: Hellfeld DF: Dunkelfeld DIC: Differentialinterferenzkontrast S-POL: Vereinfachte Polarisation FL: Fluoreszenz

Polarisationsmikroskope

Vielseitig einsetzbare Zoom-Mikroskope

LV100NPOL Ci POL

AZ100 AZ100M

Hochklassige Polarisationsmikroskope mit herausragender optischer Leistung für vielfältige Einsatzbereiche

Das Multizoom AZ100 und das AZ100M kombinieren die Stärken der Stereomikroskopie mit den Vorteilen von Mikroskopen für die Metallurgie. LV100NPOL

Beobachtungsmethode

AZ100

POL

EPI

DURCHM

: Verfügbar*

: Nicht verfügbar

DIC

S-POL

: Verfügbar*

: Nicht verfügbar

Beleuchtung

• Auflicht/Durchlicht

Objekttisch

• LV100NPOL : Präzisionsdrehtisch für die Polarisationsbeobachtung • Ci POL : Drehtisch mit Aufspannung

• 6 × 6 Objekttisch (150 × 150 mm Verfahrweg) für Auflicht • 6 × 4 Objekttisch (150 × 100 mm Verfahrweg) für Durchlicht

HF: Hellfeld POL: Polarisation DF: Dunkelfeld DIC: Differentialinterferenzkontrast S-POL: Vereinfachte Polarisation FL: Fluoreszenz

Digitalkamerasystem für Mikroskope

„Digital Sight“ (DS) Serie

Das Kamerasystem ist in verschiedenen Konfigurationen für den individuellen Bedarf erhältlich, wie beispielsweise Farbe/ monochrom, mit/ohne Kühlung, mit 5,0/2,0 Megapixel. Das DS Kamerasystem lässt sich auf vielerlei Weise mit Kameraköpfen und eigenständigen oder PC-basierten Steuerungen kombinieren.

Kameraköpfe

Frame-Rate (Bildfrequenz)

Schnelligkeit: Farbkamerakopf

Hochauflösender Farbkamerakopf mit Kühlung

Extrem hochauflösender Farbkamerakopf mit Kühlung

DS-Vi1

DS-Fi2

DS-Ri1

27 fps (800 × 600 /

Max. aufzeichenbare Pixelzahl

21 fps (1280 × 960 /

)

1600 × 1200

)

2560 × 1920

19 fps (1280 × 1024 /

)

4076 × 3116 (Pixelverschiebungsmodus)

*Angaben zu weiteren Kameraköpfen finden Sie im Katalog „Digital Sight Series“.

Steuereinheiten Eigenständige Steuereinheit

PC-basierte Steuereinheit

DS-L3

DS-U3

Mit dem komfortablen Touchscreen und ihren zahlreichen Funktionen ermöglicht die bedienerfreundliche Steuereinheit DS-L3 schnelle Bildaufnahmen ohne PC oder Computerbildschirm.

Die Steuereinheit DS-U3 bietet Kontrolle über alle Funktionen vom PC aus – von der Anzeige und Aufnahme von Live-Bildern bis hin zur fortgeschrittenen Bildbearbeitung und -analyse – und eignet sich für vielfältige Einsatzbereiche.

Szenenmodus

Bildgebungssoftware „NIS-Elements“

Die für jeden Messobjekttyp optimalen Parameter für die Bildgebung und Beobachtungsverfahren können einfach über Icons eingestellt werden.

Wafer/IC Metall, Keramik/Kunststoff Leiterplatte Flachbildschirm

Stitching-Funktion Setzt Bildaufnahmen aus mehreren Sichtfeldern zu einem Einzelbild zusammen

Vielfältige Bearbeitungsfunktionen Zahlreiche Bearbeitungsfunktionen stehen zur Verfügung, deren Ergebnisse mit den Bildern zusammen gespeichert werden können. Die Ausgabe von Messdaten ist unkompliziert. Messfunktionen

EDF (Extended Depth of Focus) Erstellt ein tiefenscharfes Einzelbild aus mehreren Bildern, die auf verschiedenen Fokusebenen aufgenommen wurden.

Messung (Zweipunkteabstand)

Funktionen für Positions- und Größenvergleiche Zeichenfunktionen

Nähere Einzelheiten erfahren Sie in unseren Prospekten.

ShuttlePix P-400Rv

Digitale Mikroskope

Ein innovatives, einzigartiges Digitalmikroskop, das mobil und angedockt an einem Stativ eingesetzt werden kann. Es eignet sich sowohl zur Prüfung von Proben jeder Größenordnung als auch zur Aufnahme hochauflösender Bilder und Ausführung unterschiedlichster Messaufgaben.

Motorisiertes Fokussierstativ + Touchscreen Die intuitive Bedienung über Icons oder per Touchscreen-Stift ermöglicht präzise Bildaufnahmen und einfache Messungen.

Erweiterte Tiefenschärfe mit nur einem Klick Bilder mit erweiterter Tiefenschärfe (Extended depth of Field - EDF) lassen sich einfach durch Auswahl der Start- und Endposition einer Probe erfassen.

Handgeführte Variante

Einfaches Stativ

Der leichte, ergonomische Kamerakopf lässt sich einfach bedienen.

Diese Komplettausstattung umfasst einen akkubetriebenen Zoom-Kamerakopf und ein platzsparendes einfaches Auflichtstativ. Beide Einheiten sind überall einsetzbar für die Aufnahme hochauflösender Bilder.

Berührungslose 3D-Oberflächenprofilometer mit extrem hoher Vertikalauflösung

BW-D500 Serie/ BW-S500 Serie

Die von Nikon entwickelte optische Interferenzmesstechnik mit Scanningfunktion erzielt eine Höhenauflösung von 1 pm. Diese Technik eignet sich für verschiedenste Anwendungen bei glänzenden Oberflächen, wie beispielsweise Siliziumwafern, Glas und Metallfilmen. Hochauflösende Variante BW-S500 Serie

High-Speed-Variante BW-D500 Serie Höhenauflösung (Algorithmus)

1 pm

Stufenhöhenmessung Wiederholgenauigkeit

σ: 8 nm (8 µm Stufenhöhenmessung)

Pixelanzahl Höhenmessung Dauer Sichtfeld (FOV)

510 × 510

2.046 × 2.046

1.022 × 1.022

4s (10 µm Scannen)

38 s (10 µm Scannen)

16 s (10 µm Scannen)

< 2,015 × 2,015 µm*

< 4,458 × 4,448 µm*

BW-S507

*Der Anzeigebereich kann durch Änderung der Relaisoptik oder Nutzung der Stitching-Funktion erweitert werden.

Polierte Keramikoberfläche

Metallätzung

Nähere Einzelheiten erfahren Sie in unseren Prospekten.

Linsen

Glas

Glanzpapier

Objektive

CFI60-2 / CFI60 / CF&IC

Die legendären Optiksysteme CFI60-2/CFI60/CF&IC verbinden in einmaliger Weise hohes Auflösungsvermögen mit großen Arbeitsabständen. Diese Objektive wurden weiterentwickelt und erzielen nun in jeder Hinsicht – bei Arbeitsabständen, chromatischer Aberationskorrektur und Gewichtseinsparung – optimale Ergebnisse. HF: Hellfeld DF: Dunkelfeld POL: Polarisation S-POL: Vereinfachte Polarisation DIC: Differentialinterferenzkontrast UV-FL: UV-Fluoreszenz FL: Epifluoreszenz

Modell T Plan EPI Plan (Halb-Apochromat) TU Plan Fluor EPI Universalobjektiv Plan Fluor (Halb-Apochromat)

TU Plan Apo EPI Universalobjektiv Plan Apo (Apochromat) TU Plan Fluor EPI P Plan Fluor, polarisierend (Halb-Apochromat)

TU Plan BD ELWD Langer Arbeitsabstand Universalobjektiv Plan (Halb-Apochromat)

T Plan EPI SLWD Extra langer Arbeitsabstand Plan

(Halb-Apochromat)

TU Plan Fluor BD Universal Plan Fluor (Halb-Apochromat)

TU Plan Apo BD Universalobjektiv Plan Apo (Apochromat) TU Plan BD ELWD Langer Arbeitsabstand Universalobjektiv Plan (Halb-Apochromat)

L Plan EPI (Achromat) LU Plan Apo EPI/Universalobjektiv Plan Apo (Apochromat) CFI LU Plan Apo BD Universalobjektiv Plan Apo (Apochromat) L Plan EPI CR LCD Substrate Inspection Plan (Achromat) *Angebot solange Vorrat reicht

CF IC EPI Plan TI Plan (Achromat)

CF IC EPI Plan Apo Plan Apo (Apochromat) CF IC EPI Plan ELWD Langer Arbeitsabstand Plan (Achromat) CF IC EPI Plan SLWD Extralanger Arbeitsabstand Plan (Achromat) CF IC EPI Plan TI DIC Plan CF IC EPI Plan DI DIC Plan

Vergrößerung

1× 2,5× 5× 10× 20× 50× 100× 50× 100× 150× 5× 10× 20× 50× 100× 20× 50× 100× 10× 20× 50× 100× 5× 10× 20× 50× 100× 50× 100× 150× 20× 50× 100× 40× 150× 100× 150× 20× 50× 100× 100× 2,5× 5× 10× 20× 50× 100× 50× 100× 150× 20× 50× 100× 10× 20× 50× 100× 2,5× 5× 10× 20× 50× 100×

0,03 0,075 0,15 0,3 0,45 0,8 0,9 0,8 0,9 0,9 0,15 0,3 0,45 0,8 0,9 0,4 0,6 0,8 0,2 0,3 0,4 0,6 0,15 0,3 0,45 0,8 0,9 0,8 0,9 0,9 0,4 0,6 0,8 0,65 0,95 0,9 0,9 0,45 0,7 0,85 0,85 0,075 0,13 0,3 0,46 0,8 0,95 0,95 0,95 0,95 0,4 0,55 0,8 0,21 0,35 0,45 0,73 0,075 0,13 0,3 0,4 0,55 0,7

Arbeitsabstand (mm) 3,8 6,5 23,5 17,5 4,5 1,0 1,0 2,0 2,0 1,5 23,5 17,5 4,5 1,0 1,0 19,0 11,0 4,5 37,0 30,0 22,0 10,0 18,0 15,0 4,5 1,0 1,0 2,0 2,0 1,5 19,0 11,0 4,5 1,0 0,3 0,51 0,42 10,9-10,0 3,9-3,0 1,2-0,85 1,3-0,95 8,8 22,5 16,5 3,1 0,54 0,3 0,4 0,3 0,2 11 8,7 2 20,3 20,5 13,8 4,7 10,3 9,3 7,4 4,7 3,4 2,0

: Verfügbar/

POL

S-POL

DIC

UV-FL

A A A A A A A A A A A A A B B B

A A A A A A A A B B B A A A

: Nicht verfügbar

*A: Prismenposition bei A/B: Prismenposition bei B

NIR/NIR-C

Nah-Infrarotobjektive

Erzielt einen hohen Transmissionsgrad von 90 % oder mehr im sichtbaren Lichtspektrum und 1.064 nm. Erheblich verbesserte Bearbeitungsgenauigkeit bei kleiner Größe und niedrigem Energieverbrauch. Geeignet für Laserreparaturen an Halbleitern und flachen Anzeigetafeln. Modell NIR,*1 Nahinfrarot Plan NIR-C,*1 Nah-Infrarot Plan (Glasstärken-Korrekturbereich 0,3 – 1,1 mm)

Vergrößerung

20× 50× 20× 50×

N.A.

0,40 0,42 0,40 0,42

Arbeitsabstand (mm) 25,0 20,0 24,0 *2 19,0 *2

Wellenlänge (n.m) 1.064/532 1.064/532 1.064/532 1.064/532

Parfokaler Abstand (mm) 95 95 95 *3 95 *3

*1: Bitte wenden Sie sich an uns, wenn Sie einen Transmissionsgrad außerhalb des sichtbaren Bereichs und von 1.064 nm benötigen. *2: Die Messung des Arbeitsabstands erfolgt ab Oberseite des Messobjekts mit 1,1 mm starkem Deckglas. *3: Da eine Verschiebung in der Abgleichposition auftritt, wenn Objektive ohne Deckglas zwischen Objekt und Linse verwendet werden, wird die Abgleichlänge durch Korrekturringe angepasst.

Nähere Einzelheiten erfahren Sie in unseren Prospekten.

Für die Bestückung von Mikroskopen Modulare Fokussiereinheiten

IM-4, LV-IM/LV-IMA, LV-FM/LV-FMA

LV-FMA

Diese Fokussiereinheiten, die als Erweiterungsmöglichkeit für Gesamtsysteme geeignet sind, ermöglichen die Anbringung einer vielseitig einsetzbaren Beleuchtung und eines motorisierten Objektivrevolvers. Typ Vertikaler Verfahrweg

IM-4

LV-IM/LV-IMA

LV-FM/LV-FMA

Manuell 30 mm

Manuell / Motorisiert 30/20 mm

LV-IMA

Dynamische Autofokus-Einheit

LV-DAF Der hybride Autofokus zeichnet sich durch einen großen Fokusbereich und eine schnelle Zielverfolgung aus. Verschiedenste Beobachtungsmethoden, einschließlich Hellfeld, Dunkelfeld und DIC, sind möglich. Sowohl reflektierende als auch transparente Messobjekte können beobachtet werden. Erkennungssystem AF Lichtquelle Fokussiergeschwindigkeit Beobachtung

Schnittbildprojektion/Kontrasterkennung Nah-Infrarot-LED (λ=770 nm) innerhalb von 0,7 s (Objektiv: 20×, Abstand von Brennfleck: 200 μm) Hellfeld, Dunkelfeld, Polarisation, DIC

Kompakte Auflichtmikroskope

CM Serie Äußerst platzsparende Auflichtmikroskope, die für die Integration in Fertigungslinien und Beobachtung über den Bildschirm entwickelt wurden.

CM-5A

Kompatible Objektive Optiksystem-Beleuchtung

CM-20A/CM-20L

CM-30A/CM-30L

C-Mount (ENG-Mount optional möglich)

Kameraaufnahme Tubuslinsen Vergrößerung

CM-10A/CM-10L

1× 0,5× 1× A-Serie: CF IC EPI Plan Objektive/ L-Serie: CFI60-2/ CFI60 EPI Plan Objektive Köhlersche Beleuchtung (erstklassige telezentrische Lichtführung)

Aufsatzflächen

NWL200-Reihe

Waferloader Die im Hause Nikon entwickelte Technologie ermöglicht die zuverlässige Aufnahme extrem dünner 100 μm Wafer. Die Geräte der NWL 200-Reihe gewährleisten zuverlässige Ladevorgänge und eignen sich für die Prüfung von Halbleitern der nächsten Generation.

Durchmesser.

Wafer

Stärke (Standard)

Stärke (Option) Makro-Prüfung der Oberfläche und rückseitigen Peripherie

Nähere Einzelheiten erfahren Sie in unseren Prospekten.

ø 200 mm/ø 150 mm/ø 125 mm 300 μm 300 – 100 μm

NEXIV Serie

CNC Videomesssysteme

Zur Auswahl stehen verschiedenste Tischausführungen und Vergrößerungen für individuelle Kundenanforderungen.

Grundgerät (Typ/Objekttisch-Verfahrweg) Variante mit großem Sichtfeld

Standardausführung

Variante mit hoher Genauigkeit

VMA

VMR/VMZ-R

VMR-H

Modell

VMA-4540 Serie VMA-2520 Serie

Modell

iNEXIV VMA-4540

VMR: VMR-1515/VMR-3020/VMR-6555/VMR-10080/VMR-12072 VMZ-R: VMZ-R3020/VMZ-R4540/VMZ-R6555

NEXIV VMZ-R3020

Typ

Modell

NEXIV VMZ-R4540

VMR-H3030

NEXIV VMR-H3030

Hohe Genauigkeit Weites Sichtfeld Standard 250 × 200 450 × 400 150 × 150 300 × 200 450 × 400 650 × 550 1000 × 800 1200 × 720 300 × 300

Verfahrweg in XY (mm) Zoomkopf für weites Sichtfeld Standardkopf Hochauflösender Zoomkopf

200 15

Verfahrweg in Z (mm) Max. garantierte Tragfähigkeit (kg)

200 20

150 20

200 20

200 40

200 50

150 40

150 30

1,5 + L/150

0,9 + L/150

Max. zulässige Abweichungen (μm) EUX, MPE: 1,5 + 4L/1000 2 + 6L/1000 1,5 + 4L/1000 1,2 + 4L/1000 1,2 + 4L/1000 1,2 + 4L/1000 2 + 4L/1000 2,2 + 4L/1000 0,6 + 2L/1000 Max. zulässige Abweichungen in der Z-Achse (μm) EUZ, MPE:*1 1,5 + L/150

3 + L/100

1,5 + L/150 1,2 + 5L/1000 1,2 + 5L/1000 1,2 + 5L/1000 1,5 + L/150

L = Länge in mm *1: mit Laser AF oder Messtaster

Zoomköpfe Variante A

Variante 1 – 4

Ein weites Sichtfeld und ein großer Arbeitsabstand sorgen für eine bequeme Bedienung. Ein Laser AF und ein Messtaster sind als optionales Zubehör erhältlich. *Die Messtasteroption gilt nur für die VMA Serie.

Sichtfeld

B(mm)× T(mm)

Stardandkopf

Variante 1

Variante 2

Variante 3

13,3 10,0

9,33 7,01

Zoomkopf mit weitem Sichtfeld variante A

Hochauflösender Zoomkopf

7,8 5,8

Variante TZ

Ausgestattet mit ober-, unterseitiger und geneigter Ringbeleuchtung mit einstellbaren Winkeln. Der TTL (Through The Lens) Laser-Autofokus ist eine Standardfunktion, die Oberflächen mit bis zu 1000 Punkten/ Sekunde messen kann. 4,7 3,5

2,6 2,33 1,9 1,75

1,33 1,00

1,165 0,622 0,582 0,875 0,467 0,437

Ausgestattet mit 8-stufigem Zoom mit extrem hohem 1 – 120-fachen Brennweitenfaktor Geeignet für die Messung kleiner Muster im Bereich mehrerer Mikrometer.

0,311 0,291 0,155 0,146 0,070 0,073 0,039 0,233 0,218 0,117 0,109 0,068 0,055 0,029 Arbeitsabstand 73,5 mm 50 mm

Variante 4

30 mm

Variante TZ

9,8 mm

Nähere Einzelheiten erfahren Sie in unseren Prospekten.

Konfokale NEXIV Serie Möglichkeit der gleichzeitigen Weitfeld-Höhenmessung mit konfokaler Optik und 2D-Messung mit Hellfeld-Zoomoptik in 15-facher Vergrößerung.

Grundgerät (Typ/Objekttisch-Verfahrweg)

VMZ-K3040

VMZ-K6555

300 × 400 1,5× / 3× / 7,5× 15× / 30× 150 20 1.5 + 2.5L / 1000 1 + L / 1000

Verfahrweg in XY (mm) Vergrößerung (Typ S) Vergrößerung (Typ H) Verfahrweg in Z (mm) Max. garantierte Tragfähigkeit (kg) MPE (zulässige Messabweichung) U1X, U1Y (μm) Zulässige Messabweichung in Z (μm)

650 × 550 1,5× / 3× / 7,5× 15× / 30× 150 30 1.5 + 2.5L / 1000 1 + L / 1000

Zoomköpfe Sichtfeld

B(mm)× T(mm) 1,5×

24 mm

3×

24 mm

7,5×

5 mm

Typ H

15×

20 mm

30×

Typ S

8 6

4 3

2,0 1,5

1,6 1,2

1,26 0,95

1,00 0,75

0,8 0,6

0,63 0,47

0,53 0,40

0,4 0,3

0,30 0,23

0,27 0,20

0,20 0,15

0,11 0,100 0,08 0,074

0,05 0,04 Arbeitsabstand

5 mm Konfokale Optiken

Hellfeld-Optiken

Sowohl Hellfeld- als auch 3D-Bilder stehen zur Verfügung

Die konfokale NEXIV Serie umfasst konfokale Optiken für die schnelle und genaue Auswertung feiner dreidimensionaler Geometrien. Die konfokalen Optiken wurden für Höhenmessungen mit weitem Sichtfeld entwickelt. Hellfeld

Kontur

3D-Ansicht

Kontrastreiches, mehrschichtiges Messobjekt (PCB)

Dünne, transparente Messobjekte (Metallflächenbeschichtung/Halbleiterschutzschicht)

Aufgrund verzeichneter Linien in der Objektstruktur ist die Hellfeldbeobachtung manchmal schwierig. Die konfokale Optik ermöglicht eine genaue Betrachtung und Messung dieser Linien.

Außerdem lassen sich die oberen Schichten sowohl dünner, transparenter Beschichtungen als auch die von Metalloberflächen einfach mit dieser Optik erkennen.

Hellfeldbild

REM-Bild

Dünne Schicht Metalloberfläche

Hellfeldbild Schwer erkennbare Layer mit dünner Beschichtung

Konfokales Bild

Konfokales Bild Die oberen und unteren Layer werden genau erkannt

Erkannte Oberseite

Erkannte Unterseite

Nähere Einzelheiten erfahren Sie in unseren Prospekten.

Messmikroskope Verschiedenste Messmikroskope steht zur Auswahl, die sich durch hohe Präzision und Bedienkomfort auszeichnen.

50 × 50 mm / Objekttischgröße/ Tragkraft

Kompaktes Modell

Grundmodell

Modell mit großem Objekttisch

MM-200

MM-400

MM-800

5 kg

100 × 100 mm / 15 kg 150 × 100 mm / 15 kg 200 × 150 mm / 20 kg 250 × 150 mm / 20 kg 300 × 200 mm / 20 kg

110 mm

Max. Werkstückhöhe Optischer Messkopf X-Y-Z

150 mm

200 mm

Monokular Binokular 2 Achsen 3 Achsen

* 1×/3×/5×/10×

CCD Objektiv vergrößerung

1×/3×/5×/10×/20×/50×/100×

*Nur für einfachen Videokopf

MM-Typ

: Nicht verfügbar

Universelle Variante

Die optische Technologie von Nikon und die weiterentwickelten Messtische ermöglichen äußerst präzise Messungen.

: Verfügbar*

Zur Auswahl steht ein Sortiment, das für die dimensionale Messung und zahlreiche Beobachtungsmethoden geeignet ist.

Neu entwickelte Präzisionsmesstische

Fokussierassistent (FA)

Der Grob-/Feintriebwechsler und die RESET und SEND Tasten befinden sich neben Einstellknöpfen für die Xund Y-Achse.

Das neu entwickelte FA Teilungsprisma liefert gestochen scharfe Muster für die Fokussierung von Messungen in der X-Achse. FA Matrixmuster sind klar erkennbar, da der Schnitt durch die Vertikale geht.

Einstellknopf für X-Achse

Vorderer Fokus

Einstellknopf für Y-Achse

Nähere Einzelheiten erfahren Sie in unseren Prospekten.

Fokussiert

Objektiv

Hinterer Fokus

Profilprojektoren Die Profilprojektoren von Nikon wenden das optische Prüfprinzip auf die Inspektion von Werkstücken an. Dabei wird die vergrößerte Abbildung des Prüflings auf die Mattscheibe projiziert.

50 × 50 mm / Objekttischgröße/ Tragkraft

Tischmodell

Modell mit großer Mattscheibe

V-12B

V-20B

V-24B

5kg

100 × 100 mm / 15 kg 150 × 100 mm / 15 kg 200 × 150 mm / 20 kg 250 × 150 mm / 20 kg 225 × 100 mm / 30 kg

100 mm*2

Max. Werkstückhöhe Bildschirm

Bild

Objektiv

Vergrößerung Projektion

Sichtfeld (mit 10×

305 mm Aufrecht

5×/10×/20×/25×/50×/100×/200×

Objektiv)*1 Digitaler Winkelmesser

30,5 mm

150 mm 500 mm Invers 5×/10×/20×/50×/100× 50 mm

250 mm 600 mm Invers 5×/10×/20×/50×/100× 60 mm (Extern)

Digitaler Zähler : Verfügbar*

*1: Tatsächliches Sichtfeld = Effektiver Bildschirmdurchmesser / Objektivvergrößerung *2: Die maximale Objekthöhe beträgt 70 mm, wenn ein 200 × 150 mm Objekttisch installiert ist.

: Nicht verfügbar

Datenverarbeitungssystem für Messmikroskope und Profilprojektoren Datenverarbeitungssoftware

Datenprozessor

Messsoftware

E-MAX

DP-E1

U-DP

Diese Einstellhilfe bietet dem Bediener vielfältige fortgeschrittene Mess- und Datenverarbeitungsfunktionen. Die automatische Kantenerkennung und die Bildverarbeitung im Sub-Pixel-Bereich ermöglichen präzisere und wiederholbare Messungen.

Bei Anschluss an einem Profilprojektor sind nur Datenverarbeitungsfunktionen verfügbar

Nähere Einzelheiten erfahren Sie in unseren Prospekten.

In Kombination mit einem Messmikroskop/ Profilprojektor ist er besonders effektiv: Messdaten werden schnell berechnet und verarbeitet. Der merkmalsorientierte Betrieb des DP-E1 bietet dem Bediener die Möglichkeit, grafikbasierte Messungen auszuführen und eine nahtlose Messumgebung herzustellen.

Bei Anschluss an einem Profilprojektor sind ein Retrofit Counter und DP-Einheiten erforderlich.

Die browser-basierte Geometriemesssoftware kann unkompliziert über LAN oder WLAN mit anderen Geräten verbunden werden. Die interaktive Navigation ermöglicht ein direktes Arbeiten und Messergebnisse lassen sich einfach auf der übersichtlich gestalteten Anzeige bestätigen.

[Systemvoraussetzungen] Betriebssystem: Windows®XP, Windows®7 Speicherbedarf: 2 GB (mind.) Empfohlene Browser: Windows® Internet Explorer V 6.0.2.9 oder höher

Autokollimatoren Ein Autokollimator ist ein einfach bedienbares, aber präzises Instrument, das für die Messung und Überprüfung der Neigung, der Parallelität, der Rechtwinkligkeit, der Geradlinigkeit von Präzisionsteile an beweglichen Maschinenkomponenten und für vieles mehr eingesetzt wird.

Hellfeldausführung

Dunkelfeldausführung

6B-LED

6D-LED

0 20

20 10 30

30 0

1div = 1min

0 20

1div = 1min 0

Bedient sich der legendären Nikon Optik, um Oberflächendetails zu beleuchten.

20 10 30

Perfekt geeignet zum Messen kleiner, flacher Spiegel

6B-LED: Hellfeld, 6D-LED: Dunkelfeld Anpassung im Sichtfeld und Ablesung auf Mikrometer 30 Bogenminuten (in vertikalen und horizontalen Achsen) 0,5 Bogensekunden

Beobachtungsmethode Auflösung des Messsystems Messbereich Kleinste Anzeige

Planspiegel C

LED-Beleuchtung AC-L1

Beide Seiten sind genau parallel und ermöglichen die Verwendung des Spiegels als Referenz für nichtreflektierende Flächen. Auch hilfreich zum Messen extrem kleiner Winkel, wo ein kleinerer Spiegel wünschenswert ist.

LED-Beleuchtungssystem zur Nachrüstung der Autokollimator 6B/6DBeleuchtung.

*Holzbox im Lieferumfang enthalten

Außendurchmesser Stärke Parallelität

30 mm 12 mm 2 Bogensekunden

Stromversorgung

2 St. AA Batterien, AC Adapter

DIGIMICRO DIGIMICRO, das fotoelektronische Mikrometer mit eingebautem Digitalzähler, wird für die fehlerfreie Kontaktmessung und Prüfung von Abmessungen, Breite und Tiefe eingesetzt.

Grundgerät Messbereich Genauigkeit (bei 20 °C) Messkraft

MF-1001 0 – 100 mm 3 μm

Grundgerät MF-501 + Zähler MFC-101 + Ständer MS-11C

MF-501 0 – 50 mm 1 μm

Abwärts 1,127 bis Abwärts 1,225 bis 1,813 N (variabel bis ca. 0,441 N), seitlich 1,617 N (variabel bis ca. 0,294 N), seitlich 0,637 bis 1,225 N 0,637 bis 1,225 N

Betriebstemperatur

Grundgerät MF-1001 + Zähler MFC-101 + Ständer MS-21

Nähere Einzelheiten erfahren Sie in unseren Prospekten.

0 bis 40 ˚C

MH-15M 0 – 15 mm 0,7 μm Aufwärts 0,245 N, Abwärts 0,637 N, seitlich 0,441 *Mit Höhenverstellung

Optisches Ebenheitsmaß / Optisches Parallellitätsmaß / 300 mm Standardmaßband Optisches Ebenheitsmaß

Optisches Parallelitätsmaß

Das optische Ebenheitsmaß wird verwendet, um die Ebenheit von spiegelglatten endbearbeiteten Oberflächen zu prüfen. Der Ebenheitsgrad kann anhand der Interferenzen beobachtet werden, die auftreten, wenn das optische Ebenheitsmaß am Werkstück angelegt b wird. a

Durchmesser. Stärke Ebenheit

Glas (ø 60 mm) 15 mm 0,1 μm

Beide Ebenen des optischen Parallelitätsmaßes sind genau eben und parallel. Es dient dazu, den Ebenheits- und Parallelitätsgrad eines Werkstücks anhand der Interferenzen zu prüfen, die auftreten, wenn das optische Parallelitätsmaß am Werkstück angelegt wird.

Durchmesser.

Glas (ø 130 mm) 27 mm 0,1 μm

Stärke Ebenheit Parallelität

30 mm 12 mm / 12,12 mm / 12,25 mm / 12,37 mm innerhalb von 0,1 μm innerhalb von 0,2 μm

*Präzisere optische Ebenheits- und Parallelitätsmaße sind auf Anfrage erhältlich.

300 mm Standardmaßband Misst die lineare Verfahrgenauigkeit des Messtischs auf bis zu 300 mm Länge. 10 mm-Sensorkreuz und Kalibriermaße im Lieferumfang enthalten. Hergestellt aus Glas mit niedrigem Wärmeausdehnungskoeffizienten, um Temperatureinflüsse zu minimieren. *Im Bereich von 1 µm gegenüber Kompensationswerten

Nähere Einzelheiten erfahren Sie in unseren Prospekten.

Hinweis: Der Export der in diesem Prospekt aufgeführten Produkte unterliegt der Kontrolle durch das das japanische Devisen- und Außenhandelsgesetz. Das entsprechende Exportverfahren ist bei einem Export aus Japan einzuhalten. *Produkte: Hardware und die entsprechenden technischen Daten (einschließlich Software) • Bildschirmanzeigen sind simuliert.. Die in dieser Broschüre aufgeführten Firmen- und Produktnamen entsprechen ihren eingetragenen Warenzeichen.

Nikon Metrology NV

Nikon Corporation

Geldenaaksebaan 329 B-3001 Leuven, Belgien Telefon: +32 16 74 01 00 Fax: +32 16 74 01 03 Sales.NM@nikon.com

Shin-Yurakucho Bldg., 12-1, Yurakucho 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 Japan Telefon: +81-3-3216-2384 Fax: +81-3-3216-2388 www.nikon-instruments.jp/eng/

Nikon Metrology Europe NV Tel.: +32 16 74 01 01 Sales.Europe.NM@nikon.com

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Nikon Metrology GmbH Tel.: +49 6023 91733-0 Sales.Germany.NM@nikon.com

Nikon Metrology UK Ltd. Tel.: +44 1332 811349 Sales.UK.NM@nikon.com

Nikon Metrology SARL Tel.: +33 1 60 86 09 76 Sales.France.NM@nikon.com

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