1.პროექტის ამოცანებისა და მიზნების შესახებ 2. გამოსხივების ინფრაწითელი დიაპაზონის თავისებერებების შესახებ 3. გამოსაყენებელი მასალების ანალიზი და შერჩევა (SiGe) 4.დეტექტორების ტიპების (ПЗС , КМОП) ანალიზი და შერჩევა 5.ინფრაწითელი დიაპაზონის ოპტიკური სისტემების ანალიზი და შერჩევა 6.ნანოსტრუქტურების ანალიზი და შერჩევა 7.წამკითხავი მოწყობილობის (ROIS) ტიპების და არქიტექტურის ანალიზი და შერჩევა 8. Flip-Chip ტექნოლოგიის შესახებ 9. სასიგნალო პროცესორების არქიტექტურების ანალიზი და შერჩევა 10.დეტექტორების გამოყენების სფეროების ანალიზი და შერჩევა ღამის
ხედვის ხელსაწყოები
თბომხედველი
ხელსაწყოები
11. ტექნოლოგიური მოწყობილობა -დანადგარები და საწარმოო ხაზები
1
1.პროექტის ამოცანებისა და მიზნების შესახებ
proeqtis mizani Kproeqtis mizania iw diapazonis fotomimRebis sacdeli nimuSis damzadeba Ramis xedvis mowyobilobisaTvis. aRniSnuli miznis misaRwevad saWiroa: •Si da SiGe safenebze epitaqsiuri heterostruqturebis miReba; •fotomimRebis konstruqciis (dizaini) damuSaveba; •fotomimRebis sacdeli nimuSis damzadeba da kvleva. miznis misaRwevad minimaluri danaxarjebiT gamoyenebuli iqneba arsebuli Tanamedrove teqnologiuri baza, wina samuSaoebis gamocdileba da Semsrulebeli organizaciebis “nouhau”
3
proeqtis ZiriTadi amocanebi • fosforiT legirebuli monokristaluri Si1-xGex (x≤0,01) nimuSebis miReba; • miRebuli kristalebisagan safenebis damzadeba da maTi zedapiris struqturisa da eleqtrofizikuri Tvisebebis maxasiaTeblebis Seswavla; • molekulur-sxivuri epitaqsiis meTodiT epitaqsiuri SiGe heterostruqturebis Seqmna; • masalis struqturuli, optikuri da eleqtrofizikuri Tvisebebis Seswavla; • matricis (an “savarcxeli-savarcxelze”) tipis Cipis konstruqciis damuSaveba; • damuSavebuli marSrutis safuZvelze fotomimRebis damzadebis teqnologiuri procesebis ganxorcieleba, maT Soris: -fotoliTografia, -metalebis da dieleqtrikebis dafena, -ionuri implantacia, -firebis qimiuri damuSaveba, -skraibireba da korpusireba. • fotomimRebis eleqtruli da optikuri Tvisebebis gamokvleva, • misi efeqturobis dadgena talRis sxvadasxva sigrZeze iw diapazonSi; • marTvis eleqtronuli sqemis damuSaveba, • fotomimRebis sacdeli nimuSis gamocda .
mosalodneli Sedegebi damzadebuli iqneba infrawiTeli diapazonis fotomimRebis sacdeli nimuSi Semdegi ZiriTadi maxasiaTeblebiT: • speqtruli mgrZnobiarobis diapazoni- (1÷2) μm; • fotomgrZnobiare elementebis raodenoba- 1024
(32X32) cali;
• fotomgrZnobiare elementis farTobi-100X100 μm; • 1024 elementiani matricis zomebi-5.06X5.06 mm2; • elementebsSorisi biji-60±5 μm; • samuSao temperatura-25±50C; • maqsimaluri speqtruli mgrZnobiaroba-0,5÷0.7 A/W (optikuri signalis gamoZaxili); • fonuri denis simkvrive (Cabnelebisas)-0.5-0.8 μA/ mm2.
2. გამოსხივების ინფრაწითელი დიაპაზონის თავისებერებების შესახებ
7
The Range of Infrared Light Infrared light lies just beyond the red portion of the visible spectrum ("below red“). Infrared wavelengths are about 0.7 to 350 microns. (a micron is one-millionth of one meter, or about 1/50th the width of a human hair). SPECTRAL REGION
WAVELENGTH RANGE (microns)
TEMPERATURE RANGE (degrees Kelvin)
WHAT WE SEE Cooler red stars
Near-Infrared
0.7 – 5
740 – 5,200
Red giants Dust is transparent Planets, comets and asteroids
Mid-Infrared
5 – 40
93 – 740
Dust warmed by starlight Protoplanetary disks Emission from cold dust
Far-Infrared
40 – 350
11 – 93
Central regions of galaxies Very cold molecular clouds
9
10
მასალ ა PbSe InSb InAs PtSi HgCdTe HgZnTe InGaAs
დასახელება
დიაპაზონი
ტყვიის სელენიდი ინდიუმის ანტიმონიდი ინდიუმის არსენიდი პლატინიუმის სილიციდი
1,5-5,2 1-6,7 1-3,8 1-5
ტყვიისა და-კადმიუმის ტელურიდი
0,8-25
ვერცხლისწყლისა და ტყვიისა ტელურიდი ინდიუმისა და გალიუმის არსენიდი
0,7-2,6
PbS Ge Si
ტყვიის სულფიდი გერმანიუმი კრემნიუმი
1-3,2 0,8-1,7
SiGe
სილიციუმ-კრემნიუმი
0,4-1,6
SiGe-ტექნოლოგიის უპირატესობები 1.
მოთხოვნილების არსებობა მაღალი სიხშირის მქონე ნახევარგამტარული ხელსაწყოებში ( 30 ჰჰც-ზე მაღალი);
2.A3B5 ჯგუფის (განსაკუთრებით გალიუმის არსენიდი) მასალების კრემნიუმის ტექნოლოგიასთან თავსებადობის სირთულე; 3. ამოსავალი ფირების 1კვ. მეტრის ღირებულების სიმცირე: SiGe-0,01$, GaAs-2$, InP-10$ ; 4.კარგად არის დამუშავებული 200მმ-იანი იაფი კრემნიუმის ფირების წარმოება (ძვირად ღირებული 100 და 150 მმ -იანი GaAs_ის ფირებს მწარმოებლების რაოდენობა შეზღუდულია); 5. ვარგისი კრემნიუმის ხელსაწყოების გამოსავლიანობა ბევრად მაღალია, ვიდრე არსენიდ გალიუმის ხელსაწყოებისა; 6.კრემნიუმის ბაზაზე ხელსაწყოების დასამზადებლად, დამატებითი კაპიტალდაბანდებების გარეშე არსებული საწარმოო ბაზის გამოყენების შესაძლებლობა (ცნობილია, რომ, ყოველი ახალი თაობის ხელსაწყოების საწარმოებლად საჭიროა ასობითი მილიონი დოლარი); 7. გერმანიუმის დამატების ხარჯზე, კრემნიუმის აკრძალული ზონის სიგანის ცვლილებისა და საინტერესო ნახევარ გამტარული თვისებების მატარებელი, ახალი მასალის მისაღებად, მისი განაწილების წინასწარ განსაზღვრული პროფილის უზრუნველყოფის შესაზლებლობა ( შესწავლის სტადიაშია აგრეთვე SiC da SiGe); 8. კრემნიუმთან შედარებით ნაკლები აკრძალული ზონის სიგანის გამო, ბიპოლარული ტრანზისტორის ბაზის დამზადებისას SiGe-საგან, იზრდება ელექტრონების ინჟექცია ბაზაში და შესაბამისად გაძლიერების კოეფიციენტი; 9. SiGe-ხელსაწყოს ბაზის ლეგირების დონე უფრო მაღალია, ვიდრე ”წმინდა” კრემნიუმისა; 10.კრემნიუმში გერმანიუმის განაწილების პროფილის კონტროლის გზით შესაძლებელი ხდება SiGe-ტრანზისტორების სიხშირული მახასიათებლების მნიშვნელოვანი გაუმჯობესება. (მაქსიმალური სიხშირე 65 ჰჰც); 11. SiGe-ტექნოლოგია ნახევარგამტარული სქემების არა მხოლოდ სწრაფქმედების ამაღლების საშუალებას იძლევა, არამედ მნიშვნელოვნად ამცირებს მოხმარებულ სიმძლავრეს; 12. SiGe-სქემებში ელემენტების განთავსების სიმკვრივე მნიშვნელოვნად უფრო მაღალია, ვიდრე A3B5 ჯგუფის უფრო ეგზოტიკურ მასალებში; 13. SiGe-ტექნოლოგიის დანერგვა საშვალებას იძლევა განვითარებული კრემნიუმის ტექნოლოგიისა და ჰეტეროსტრუქტურების ბაზაზე აგებული ბიპოლარული ტრანზისტორების უპირატესობების გაერთიანებისა, რომლეთა დამზადება უკანასკნელ პერიოდამდე ხდებოდა მხოლოდ A3B5 შენაერთების საფუძველზე.
12
13
14
15
17
18
19
23
24
25
3. გამოსაყენებელი მასალების ანალიზი და შერჩევა (SiGe)
26
4.დეტექტორების ტიპების CCD(ПЗС) და CMOS (КМОП) ანალიზი და შერჩევა
ПЗС-მატრიცის მუშაობის პრინციპი
35
36
37
CCD და CMOS დეტექტორების აგების ზოგადი კონცეფცია CCD Approach Photodiode
CMOS Approach Photodiode
Amplifier
+ Pixel Charge generation & charge integration
Array Readout Charge transfer from pixel to pixel
Charge generation, charge integration & charge-tovoltage conversion Multiplexing of pixel voltages: Successively connect amplifiers to common bus Various options possible:
Sensor Output
Output amplifier performs charge-to-voltage conversion
- no further circuitry (analog out) - add. amplifiers (analog output) - A/D conversion (digital output)
CCD და CMOS მატრიცებისათვის დამახასიათებელი ძირითადი მახასიათებლები -გარჩევადობა -ქვანტური ეფექტურობა -სიბნელის დენი -პიქსელის ზომა -გამოსახულების ზომა -მატრიცის გვერდებს შორის თანაფარდობა -წაკითხვის მაქსიმალური სიხშირე -პიქსელების წაკითხვის სიჩქარე -თანრიგიანობა -დინამიური დიაპაზონი -სიგნალი /ხმაური თანაფარდობა -მგრძნობიარობა -კვების ძაბვა -მოხმარებული ენერგია -კორპუსის ტიპი -სიგნალების დამუშავების მეთოდები
CCD და CMOS სენსორების შედარება
42
43
46
CMOS-ტექნოლოგიის უპირატესობები და ნაკლოვანებები
უპირატესობები
1.წარმოების დაბალი ფასები
2.დაბალი ელექტრო მოხმარება (ТТЛ და ЭСЛ_ლოგიკა)
3. როგორც n-ტიპის, ასევე p-ტიპის ტრანზისტორების არსებობა
3.მაღალი სწრაფქმედება (500-მდე კადრი/წმ)
4.ტექნოლოგიის პერსპექტიულობა- ერთ კრისტალზე ყველა საჭირო სქემების (ანალოგურ-ციფრული მოწყობილობა, პროცესორი, მეხსიერება და სხვ.) განთავსების შესაძლებლობა
5.ინტეგრაციის მაღალი დონე
6.შერჩევითი წაკითხვის შესაძლებლობა
ნაკლოვანება
1.მაღალი ხმაურიანობა
2.პიქსელების შევსების დაბალი დონე
3. მაღაალი ხმაურიანობა
4.დაბალი დინამიური დიაპაზონი
5.პიქსელი დიდი ზომა
6. პიქსელების არაერთგვაროვნება
7. სქემის სირთულე
CCD(ПЗС)-ტექნოლოგიის უპირატესობები და ნაკლოვანებები
უპირატესობები:
1. ხმაურიანობის დაბალი დონე
2.მაღალი ეფექტურობა
3. პიქსელების შევსების მაღალი კოეფიციენტი
4. მაღალი მგრძნობიარობა-მცირე და დინამიური ობიექტების გარჩევადობის მაღალი დონე
5.პიქსელები მცირე ზომები
6.მატრიცების დიდი ზომები
7. გამოსასვლელი სიგნალის ერთგვაროვნება
ნაკლოვანებები:
1. წარმოების მაღალი ფასები
2. მაღალი ენერგომოხმარება
3. ინფორმაციის წაკითხვის რთული პრინციპი, შესაბამისად რთული ტექნოლოგია
4.მაღალუი დინამიური დიაპაზონი
49
50
52
სისტემა კრისტალზე
Control & Timing Logic (opt.)
Vertical Scanner for Row Selection
General Architecture of CMOS-Based Image Sensors
Pixel Array
Bias Generation & DACs (optional)
A/D conversion (optional) Horizontal Scanner / Column Buffers
Analog Amplification
Digital Output
Analog Output
64
გამოსახულების CMOS დეტექტორის ინტეგრალური სქემის არქიტექტურა
66
5.ინფრაწითელი დიაპაზონის ოპტიკური სისტემების ანალიზი და შერჩევა
73
74
75
76
77
78
79
6.ნანოსტრუქტურების ანალიზი და შერჩევა
7.წამკითხავი მოწყობილობის (ROIS) ტიპების და არქიტექტურის ანალიზი და შერჩევა
87
88
8. Flip-Chip ტექნოლოგიის შესახებ
90
წამკითხავი სქემა
91
92
ჰიბრიდული მიკროსქემის სტრუქტურა
95
96
97
http://www.vision-systems.com/articles/print/volume-15/issue11/Features/color-camera-cubes.html
102
9. სასიგნალო პროცესორების არქიტექტურების ანალიზი და შერჩევა
Indigo Systems-ADSP 2181
106
107
108
109
110
111
112
113
114
წამკითხავი სქემის ტიპიური მახასიათებლები
115
116
10.დეტექტორების გამოყენების სფეროების ანალიზი და შერჩევა -ღამის ხედვის ხელსაწყოები -თბომხედველი ხელსაწყოები
fotomimRebis gamoyenebis sferoebi -temperaturis
distanciuri gazomva,
-siTburi procesebis kontroli da avtomatizacia, -aalebis aRmomCeni mowyobilobebi (gadamwodebi), -Ramis xedvis mowyobilobebi, -deda足miwis zedapiris zondirebis -saaviacio da kosmosuri aparatura, -roboto足teqnika, -speqtrometria, -garemos monitoringi, -gamonabolqvi gazebis kont足roli, -telesakomunikacio sistemebi, -optikuri kavSirgabmuloba, -lazeruli teqnika, Optikur-boWkovani sakabelo sistemebi,
მახასიათებლები -შემჩნევადობის კოეფიციენტი -სიგნალი-ხმაური ფარდობა -ზღვრული მგრძნობიარობა -ხმაურის ექვივალენტური შემჩნევადი ტემპერატურების სხვაობა და მათი დამოკიდებულება სივრცულ მახასიათებლებზე (ტემპერატურულ-სიხშირულ მახასიათებლებზე) -ხმაურის ექვივალენტური გარჩევადი ტემპერატურების სხვაობა და მათი დამოკიდებულება სივრცულ მახასიათებლებზე (ტემპერატურულ-სიხშირულ მახასიათებლებზე) -მისაღები ან დასარეგისტრირებელი სიგნალების დინამიკური დიაპაზონი -სპექტრის მუშა დიაპაზონი -კადრების სიხშირე -კუთხური ველები (დათვალიერების და მყისიერი) -ვიდეო-კადრის ფორმატი -გარჩევადობის ელემენტების რაოდენობა -გარჩევადობის ერთგვაროვნება -მგრძნობიარობა კადრის მიხედვით
119
124
125
126
127
128
ღამის ხედვის ხელსაწყოები
129
130
131
ღამის ბუნებრივი განათება ლაზერით მინათება
ოპტიკური სისტემა
ანოდი ფოტო-მგრძნობიარე ელემენტების მატრიცა
ელექტრონულოპტიკური გამაძლიერებელი
ფოტომიმღები ხელსაწყო
ელექტრონული ტრაქტი
ფ რ ა წ ი თ ე ლ ი
ვიზუალიზაციის მოწყობილობა (დისპლეი, კომპიუტერი)
ნ
ი
დღის სინათლე
ოპტიკური ფილტრების სისტემა
ლინზების სისტემა
კათოდი
მიკროარხებიან ი ფირფიტა
მულტიპლექს ორი
განათების სახეობა
დიაპაზონი
ხელსაწყო
მგრძნობიარე ე ლემენტი
დღის შუქი
0,4-1,1
ფოტო კამერა
CCD
ღამის ბუნებრივი განათება
0,75-2
ღხხ
ЭОП
ლაზერით მინათება
1,6
ღხხ
ЭОП
ინფრაწითელი გამოსხივება
3-5
სმხ
თერმომხედველი ხელსაწყო
8-14
ეოპ
იწ-ობიექტივი
კათოდი
მიკროარხებიანი ფირფიტა
ანოდი
ნ/გ იწ მიმღები
ელექტრონიკა
მყარტანიანი კათოდი
დამკვირვებე ლი
დაბალი ძაბვა ლიუმენესცენ ტური ეკრანი
მაღალი ძაბვა იწ მიმღები
ო ბიექტი ვ ი
ეოპ
1000
1500
წამკითხავი
ვიზუალიზაცია
დიაპაზონი
ელექტრონიკ ა ღამის ხედვა
0,7-2
4000
4000
სითბური ხედვა
3-5
4000
4000
სითბური
8-1
135
136
137
143
144
145
თბომხედველი ხელსაწყოები
147
148
149
150
151
152
153
154
ფოკალურ-მატრიციანი თბომხედველის განზოგადოებული ფუნქციონალური სქემა
1. ოპტიკური სისტემა 2. ფოკალური მატრიცა წინასწარი გამაძლიერებლებით 3. მულტიპლექსორი 4. გაცივების სისტემა 5. მგრძნობიარე ელემენტების მახასიათებლების არაერთგვაროვნების მაკორექტირებელი მოწყობილობა 6. ანალოგურ ციფრული გარდამქმნელი 7. არაერთგვაროვნების ციფრული კორექტორი 8. არამუშა უჯრედების კორექტორი 9. გამოსახულების მაფორმირებელი 10. დისპლეი 11. ციფრული გამოსასვლელი
თერმომხედველი კამერა
კონტროლერი
სითბომხედველი კამერის ბლოკ სქემა 1-ობიექტივი, 2-მაკალიბრებელი მოწყობილობა , 3-ცივი დიაფრაგმა , 4-მატრიცული ფოტომიმღები ხელსაწყო , 5ვაკუუმური კრეოსტატი, 6- იმპულსური და მუდმივი მმართველიძაბვების გენერატორი , 7-გამაძლიერებელი დიფერენციალური გამოსასვლელით, 8-ფმხ-ს ტემპერატურის გამზომი და საფენზე წანაცვლების ძაბვის მიმწოდებელივტომატი, 9,14-მართვისა და სინქრონიზაციის ბლოკები , 10-ციფრულ -ანალოგური გარდამქმნელი , 11ამჯამავი მოწყობილობა, 12-მეხსიერების დისპეტჩერი, 13,16-მეხსიერების ბანკები , 15-პერსონალურ კომპიუტერთან კავშირის ბლოკი, 17 პერსონალური კომპიუტერი
157
159
160
161
სენსორების ძირითადი მახასიათებლების შედარება
Современные тепловизоры «смотрящего» типа.
Модель Тепловиз ора
Страна/Фирм а производите ль
Диллер/пост авщик
Thermo Vision 2000
СШАШвеция/FLIR
ThermoVi sion A40M
Поле зрения
Частота кадров
Число разрядов АЦП
Раб Темпер ат.
Спект р. Диапа зон
0,99° ´ 0,74 °; 6,0° ´ 4,5 °; 25° ´ 19 °
50/60 Гц
14 бит
От 32°С до + 55°С
8-9 мкм
-40+500°С
24° х 18°
50/60 Гц
8/16 бит
От 15°С до + 50°С
0,08°С
от -40 до 2000°С
29 ° x 22°
60 Гц
14 бит
-15 до 50°С
8-14 мкм
320 x 240
от 0,03 до 0,15°С
-40+500°С
21.7° x 16.4°
60 Гц
14 бит
-15 до 50°С
8-14 мкм
54000
320 x 240
0,035˚С
-65˚С до +55˚С
14˚x10˚
-65˚С до +55˚С
7.513.5 мкм
10700
9° х 6,75°
От 20°С до + 45°С
8-12 мкм
-10° С +50° С
8 - 13 мкм
Тип Детектора
Кол-во ячеек в матрице
Темпер. Разреш.
Пергам
FPA
320 x 240
0,03°С
СШАШвеция/FLIR
Пергам
FPA
320 x 240
0,08°С
TS7302
Япония/NEC
ЗАО "НТЦ ПОЛИКИТ"
UFPA
320 x 240
TS9100
Япония/NEC
ЗАО "НТЦ ПОЛИКИТ"
UFPA
Титан
Россия/Перг ам
Пергам
UFPA
Сыч-2
Россия/Цикл он
ТН4604МП100
Россия/Спек тр
VarioCAM ™ Head
Германия/JE NOPTIK INFRATEC
Иртис 2000
Россия/Ирти с
микроболомет р
ЗАО "Мир Диагностики " Иртис
микроболомет р
InSb(HgKdTe)
Темпер. Диап.
0,1°С
320 x 240
0,10° С
30°С+500 °С
320 x 240
0,08°С
40+1200° С
60 Гц
-40+200°С
Время сканиро вания 1,5 сек.
1x1
0,05°С
9° х7°
25 х 20°
30 Гц
16 бит
Цена, euro
33500 От 20°С до + 45°С
3-5(812)
165
166
167
169
170
Ед ин иц а Спектральная чувствительность
мкм
Λ мах
(мкм)
Русский
Английски
NEP ЭМШ
Вт*Гц1/2
Эквивалентная мощность шума
(Noise Equivalent Power) NETD
ЭШРТ
мК0
эквивалентна Noise я шуму Equivalent разница Temperature температур
Difference
Токовая чувствительность
Квантовая эффективность Обнаружительная способность D* l max
PbS
PbSe
InGaAs
KRT
Ge
1-3
3-5
0,9-1,7
1,0-2,5
0,5-1,8
1*10 -16 -1*1015
эквивалентная шуму сила света (количество света с SNR = 1); эквивалентная шуму разница температур,— показатель чувствительност и, разрешения и достижимой точности датчика;
0,97 1,5MKM 0,71,55MKM
А/Вт % (при Λ мах=… ) см*Вт1гц0,5r 10-10
Шумовой ток-lШ
Темновой ток- lТ (u)
Определение
= uq [qh Ффон AG2 + Iт (V) + kT/qR] ∆f
A
Коэффициент фотоэлектрического усиления Токовая чувствительность Спектральная зависимость удельной обнаружительной способности Коэффициент фотоэлектрического усиления- G Плотность потока фотонов- Ф
A/Bт
171
SI
11. ტექნოლოგიური მოწყობილობა-დანადგარები და საწარმოო ხაზები
http://elinform.ru/articles_57.htm#Flip_p3
174
175
176
177
178
179
Flip-Chip-ის სამონტაჯო ხაზის 1-უბანი
Flip-Chip ტექნოლოგიის მე-2 უბანი
Flip-Chip ტექნოლოგიის მე-3 უბანი
http://youtu.be/J8ZPIDNaijs http://www.youtube.com/watch? v=v7J_snw0Eng&feature=player_detailp age
185
186
187
188
189
190
191