SILEX II
适用于太阳能电池生产的 槽式湿法处理设备
SILEX II 适用于太阳能电池槽式清洁和蚀刻工艺的模块化自动湿法处理设备
德国新格拉斯科技集团为标准及高效电池生产线中的 硅晶片湿法化学处理提供完整的自动干进/干出解决 方案。 模块化SILEX II槽式设备提供多种工艺选项。为了实现 设计的最大灵活性，新一代SILEX II设备采用透明模块 化设计，占地空间紧凑。
SILEX II
湿法处理设备
该设备满足了目前和未来大规模生产对于产能、灵活性 和稳定性的需求。
SILEX II 8000能达到8000wph的产量。工艺槽尺寸更 小的SILEX II 4000则适用更低的生产要求，产量可达 4000wph。 这两台SILEX II设备都拥有极高的工艺良 率和低至0.01%的破损率。
传统和先进工艺应用 → 有机清洁 → 金属清洁 → 表面清洁
清洁
→ 垂直冲洗 → 喷雾冲洗
冲洗
蚀刻
干燥
→ 组合冲洗
→ 热/冷水处理 → 热空气，氮气干燥
→ 碱性制绒 → 酸性制绒 → 化学抛光/稀释 → 金属和氧化蚀刻
SILEX II 槽式湿法处理设备
标准特征
SILEX II ALTEX设备使用无异丙醇制绒工艺，较之传
→→ 高达8000 wph的产量 →→ 稼动率可达95 % →→ 破损率低至0.01 % →→ 硅片厚度低至120μm (根据要求<120 µm) →→ 个性化灵活工艺排序 →→ 机载调节产能的调度软件 →→ 机载性能分析软件 →→ 臭氧强化清洁和蚀刻工艺 →→ 迅速、稳定的无异丙醇制绒工艺 →→ 合理有效的冲洗和干燥
统蚀刻设备能显著节省成本。该制绒工艺可根据标准 和先进电池技术各自的需求进行调整。
SILEX II CLEANTEX 将传统的单晶硅蚀刻和清洁步 骤与先进清洁和调试工艺相互结合。高效清洁步骤会 是今后电池生产线中不可或缺的一部分，是进一步改 进电池性能和降低成本的关键。基于臭氧工艺的清洁 操作在SILEX II湿台架上进行，在进行表面修整的同时 能有效去除有机和金属。由于化学品的成本和消耗量 较低，工艺控制简单且金属去除效率较高，臭氧化酸 洗已成为半导体行业公认的替代传统、昂贵的多步骤 RCA清洁的理想解决方案。 SILEX II CLEAN 适用于沉积工艺前/后的清洗步 骤。根据电池工艺流程和需求，可针对RCA、臭氧清 洁或轻微蚀刻工艺单独进行配置。
SILEX II 技术数据 应用
太阳能/IC 晶圆蚀刻和清洁
产能
高达 8000/4000 wph
尺寸（长/宽/高）
8800 x 2150/26002 x 2600 mm SILEX II CLEAN3 1 SILEX II ALTEX 13600 x 2150/26002 x 2600 mm SILEX II CLEANTEX1 18400 x 2150/26002 x 2600 mm
工艺
预清洁 SDE/制绒 清洁 冲洗 干燥
碱、酸 碱 (CellTex®) 碱、酸 DIW 冲洗 热空气、热氮气
晶圆
尺寸 厚度
M1-M4 工艺后 <120 μm
设施
液体 气体 废水 电力
DI 水，化学药剂 压缩气体，氮气、氧气
可选
DI 水加热器 冷却剂 扩展装载/卸载缓冲器 加药装置 废水泵 SINGULUS 工艺承载器（100 片晶圆） 臭氧系统
1 2 3
CellTex® 工艺标准配置 (BKM SINGULUS) 200/400 晶圆/槽 标准配置2步清洁
400 VAC
SILEX II 先进湿法工艺 Pyramid Rounding with Ozone
HIGH THROUGHPUT
HIGH UPTIME
Slight Etch-back
LOW BREAKAGE
BKM SINGULUS – CellTex®
CellTex® ULTRA 1-3 µm
CellTex® ULTRA M 2-5 µm
碱性制绒 目前与未来槽式工艺应用的核心在于单晶硅片的碱性 制绒，通过优化工艺生成具有良好陷光性、钝化和接 触性的角锥形蚀刻表面。
臭氧清洁 臭氧是最有效的氧化剂之一。有效的臭氧注入、低化 学药剂浓度和适当的工艺温度能确保稳定高效的氧 化、清洁和蚀刻工艺效果。
最先进的制绒添加剂 → 支持全球市场的产品 → 多角锥尺寸可选 → 快速有力的蚀刻工艺，大型工艺窗和良好的均匀性 → 结构稳定、工艺槽使用寿命长 → 无害、不易燃、安全 → 易生物降解
→ 相比RCA清洁（化学药剂消耗大）成本更低 → 小型承载器的使用寿命更长（结合硅回蚀和先进清 洁工艺） → 占地面积更小（工艺槽减少） → 更先进的表面钝化 → 使用环保的绿色化学药剂臭氧
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