溅射设备
适用于光盘、半导体、 太阳能和3D基材
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在PVD领域拥有20年以上的专有技术 溅射·PECVD·蒸发
溅射竞争力 德国新格拉斯科技集团自1995年成立后已售出超过 8000台涂层设备，既可用于标准溅射工艺也可作为超 高真空沉积设备用于半导体、数据存储、装饰性涂层 和其它应用所需的约0.2nm超薄层处理。 此外，真空薄膜技术被运用到医学和汽车行业的现代 传感技术，还可当作移动电话技术的压电材料。 德国新格拉斯科技集团在合理利用资源的基础上为高 效生产流程开发创新技术，其核心竞争力在于真空薄 膜技术、湿法化学工艺、表面技术和热加工等专业技 术。集团旨在巩固现有核心竞争力的同时开发新的解 决方案，并借此拓展新的业务。
德国新格拉斯科技集团将其掌握的自动化技术、工艺 技术和工艺步骤整合技术运用到新的应用领域。 德国新格拉斯科技集团作为先进薄膜沉积设备领域的 著名生产商，是业界值得信赖的合作伙伴，并将持续 巩固其在半导体薄膜沉积技术方面的领先地位。集团 作为技术创新方面的中坚力量，拥有很大的成长潜力。
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德国新格拉斯科技集团 溅射技术主要特征
新市场定位
>> 超过20年以上的溅射经验 >> 全球范围内出售超过8000台溅射设备 >> 设备拥有高产量和高稼动率 >> 内部阴极设计，带磁控管 >> 通过实验室设备模拟溅射工艺 >> 内部软件开发 >> 与科学机构合同，如Fraunhofer, Inplas, 瑞士电 子中心, 康斯坦茨大学及美国、中国、新加坡的研 究所等 >> 垂直和水平基板运输系统 >> 不同模式下的磁控溅射，如直流、脉冲直流、双击 和射频 >> 模块化工艺腔室配置
德国新格拉斯科技集团在合理利用资源的基础上为太 阳能、半导体、医学技术、消费品和娱乐行业制造高 效的生产设备。集团旨在巩固并进一步拓宽其现有的 核心竞争力，包括涂层技术、表面工艺、湿法化学应 用和其它相关的化学和物理工艺步骤。
市场
医药科技
能量
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太阳能 LED E存储 电池 玻璃
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光学 OLED 装饰 电子 RFID 玻璃 显示器
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隐形眼镜 3D包装 种植牙 脊椎植入 膝关节 仪器
半导体
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髋关节 MRAM 磁学 Piezo MEMS 传感器 汽车
消费品
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汽车 装饰 功能性 医疗
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VISTARIS 垂直基板运输的在线溅射设备 适用于不同应用的模块化溅射设备
VISTARIS溅射设备
标准性能特征
德国新格拉斯科技集团为满足光伏产业的需求研发了 VISTARIS和GENERIS PVD设备，这类在线溅射设备对 如今的CIGS & CdTe薄膜电池生产起着重要的作用。 凭借先进的工艺技术，这些设备能够在提高薄膜电池 效率的同时降低生产成本。在光伏技术方面，集团开 发并制造的镀膜设备可以镀特殊膜以及不同材料的多 层膜。
>> 模块化配置 >> 适合晶圆和大型基板 >> 多种基板平行加工 >> 多种运输方式，包括无运送带运输 >> 低生产成本 >> 沉积前和沉积中可对温度进行控制 >> 真空底压：< 1 x 10-6 mbar >> 标准工艺压力: 2 - 5 x10-3 mbar >> 沉积温度：可高达200 °C >> 通过使用旋转圆柱形磁电管实现最大程度使用靶材 >> 溅射材料：ITO, AZO和Mo, Al, Cu, Ag, NiV等金属层
以正面透明或背面金属导电层以及各种材料组成的多层 前驱体涂层为例，该设备的主要优势在于，它可以用来 对玻璃衬底进行真空立式镀膜。
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GENERIS PVD
水平基板运输的在线溅射设备 适用于异质结电池技术的模块化溅射设备
GENERIS PVD在线溅射设备
标准性能特征
电池生产的重点在于效率。异质结电池技术(HJT) 能在将电池效率提高到23 %的同时降低生产成本。 GENERIS PVD设备是专为光伏高效电池生产而设计 的水平式在线溅射工具。
>> 溅射材料：ITO, AZO和Ag, NiV, Cu, Al等金属层 >> 可同时对多个基板进行工艺（硅晶片） >> 三种可选模式：
异质结电池两面为PVD（物理气相沉积）沉积的透明 导电氧化层(TCO)。该设备适用于非传统性的层堆，例 如ITO, AZO等透明导电氧化层。这些薄膜拥有极低的 吸光率和极强的导电性，是异质结电池技术不可或缺 的重要组成部分。非晶硅层堆不存在溅射损伤。整个 工艺过程基材温度控制在200 °C以内，保证层堆性能 最优化。
GENERIS PVD溅射设备能在全真空不间断且硅片无需 翻面的情况下对其正反两面的接触层进行沉积。可选 择性集成溅射层退火工艺。金属(如Ag)镀膜也在同一 设备中完成。通过使用圆柱形磁电管溅射，可在降低 生产成本的同时最大程度使用靶材。 其它标准应用包括减反射层、阻挡层、前驱体层和Al, Cu, NiV等不同金属层。设备采用在线式工艺，通过专 门设计的承载器传输基板并隔离边缘。传送装置位于 设备下方，确保其干净不受污染。装载和卸载可选不 同的自动化模式。
>> GENERIS LAB >> GENERIS PVD 3000，效率约3000片/小时 >> GENERIS PVD 6000，效率约6000片/小时 >> >> >> >> >> >> >> >>
模块化配置 低生产成本和高稼动率 溅射方向可选自上而下/自下而上 可配置溅射序列 对整个工艺过程进行温度控制 通过旋转式圆柱形磁电管最大程度使用靶材 可选单边/双边模式 可根据客户要求定制手动或半自动式实验室版本
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HISTARIS
水平基板运输的在线溅射设备 适用于不同应用的模块化设备 HISTARIS适用于水平基板运输的在线溅射设备 德国新格拉斯科技集团旗下的HISTARIS设备是为满足 光伏产业要求而开发的，同时也适用于建筑玻璃、燃料 电池和移动设备等大面积溅射应用。 凭借先进的技术，HISTARIS设备能够在提高电池效率 的同时降低生产成本。模块化设计包括配备旋转磁控 管的工艺腔室，可对高性能TCO层或其它几种材料如金 属和金属氧化物进行溅射沉积。预处理模块可添加清 洗或蚀刻工艺。凭借其独特的模块化设计，HISTARIS 设备非常适合具有挑战性的层叠和灵活的混合产品。
HISTARIS主要特征
以正面透明或背面金属导电层以及各种材料组成的多 层前驱体涂层为例，该设备的主要优势在于它可应用 于太阳能和显示器行业，对玻璃衬底进行真空水平式 镀膜。标准应用包括减反射层、阻挡层、前驱体层和 Al, Cu, NiV等不同金属层。
>> M模块化机械概念 >> 水平基板运输 —— 配备/不配备承载器 >> 通过使用旋转圆柱形磁电管实现最大程度使用靶材 >> 高沉积率 >> 沉积前和沉积中可对温度进行控制 >> 通过动态阀和/或独立闸室分离气体 >> 维护简单，低生产成本 >> 快速更换靶材，适用于各供应商的靶材 >> 真空底压：‹ 1 x 10-6 mbar >> 标准工艺压力：2 - 5 x10-3 mbar
HISTARIS设备采用在线式工艺，通过专门设计的承载 器或直接在定制的滚筒驱动系统上传输基板。装载和 卸载可选不同的自动化模式。
HISTARIS设备的模块化实现高度的灵活性
适用于研发应用的Lab设备
HISTARIS LAB 装载 卸载
装载腔 TMP
工艺1
TMP
扩展腔
HISTARIS STANDARD 装载
装载腔
扩展腔
TMP
工艺1
TMP 气体分离 TMP
工艺2
TMP
扩展腔
装载腔
卸载
HISTARIS SPEED 装载
装载腔
缓冲腔
扩展腔
TMP
工艺1
TMP
工艺2
TMP 气体分离 TMP
工艺3
TMP
工艺4
TMP
扩展腔
缓冲腔
装载腔
卸载
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POLYCOATER 多用途三维零件在线溅射
设备适用于装饰性和功能性层叠，包括抗菌涂 层、EMV屏蔽、导电层（例如在实际电镀前的电镀组 件）或天线。每一个导电金属和非磁性金属及其合金 都可用作金属层。与间歇式工艺相比，该设备的涂层 材料选择更加灵活不受限制。
POLYCOATER设备具有稳定的层均匀度和高沉积速 率，通过永久控制溅射工艺过程实现高质量涂层和 稼动率。每个承载器最多可放18个零件，周期时间 低至6 s。
POLYCOATER特征
POLYCOATER静态溅射设备 POLYCOATER溅射生产设备适用于三维塑料零件的全 自动涂层。溅射模块可以与不同的创新工艺相关联， 为集成其它生产模块（如漆器模块、机器人处理系 统）提供可能性。该设备是以生产为目的而设计。 该设备可集成到现有的生产线中。集成的交换处理系 统可装载新的部件并将金属化部件卸载到接口位置。 POLYCOATER是具有革命性意义的零件三维涂层设 备，结合了成熟的涂层技术、高性能的专业知识和独 特的行业经验。
>> 周期低至6秒 >> 溅射过程中旋转零件 >> 靶材如：Al, Cu, Cr, Zr, CuAl, Ag, Au, 不锈钢和TCO >> 配备两个SINGULUS TECHNOLOGIES设计的高速 率阴极 >> 即使是复杂的三维部件，依然保持稳定的层均匀度 和高沉积速率 >> 可靠清洁的溅射工艺 >> 高效独特的集成设计 >> 高质量涂层和高性价比技术 >> 占地面积小 >> 优良的维护和服务 >> POLYCOATER配备远程支持接口。通过网络连接和 支持软件进行软件支持。
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DECOLINE II 适用于装饰性和功能性应用的在线式3D零件镀膜
3D零件的强化金属层 德国新格拉斯科技集团的第二代在线式镀膜设备为3D 零件的全自动处理和镀膜提供解决方案，该技术可用 于汽车行业，如室内照明、车头尾灯、汽车后视镜或 移动业务，以及化妆品的包装产业。镀膜后的3D零件 通常由塑料（注射成型）、玻璃或金属制成。 新型DECOLINE II在线式镀膜设备是真空镀膜和产品 工艺的最新发展水平：
>> 3D零件的优质涂层 >> 个性化设计 >> 无需间歇式工艺 >> 去UV，形成保护层 >> 在线喷镀和金属化 >> 全自动化工艺 >> 高生产率和高灵活性 >> 低生产成本 >> 环保
底部镀膜喷漆设备（可选） >> UV底喷漆设备 >> 溶剂量达20 % >> 喷漆材料的回收 >> 通过最有效的使用材料显著减低成本
3D溅射 >> 工艺周期：减少至6秒 >> 一个载体上最多有18个零件，周期< 0.5秒 >> 溅射过程中旋转部件 >> 配备两个专门设计的高率阴极 >> 靶材如铝、铜、铬、锆、铝化铜、银、金、 不锈钢等 >> 即使基材为复杂的3D形状，依然能保证完美 的均匀性和高沉积率， >> 可靠和清洁的溅射工艺 >> 最高的镀膜质量，高稼动率和环保
顶部镀膜喷漆设备 多样的喷镀模块和真空溅射模块体现了DECOLINE II 灵活创新的理念。区别于传统的间歇式工艺， DECOLINE II在考虑所有先决条件的基础上改变 3D零件原有的生产工艺。凭借优质的涂层技术， 成品的装饰性和功能性都会得到明显的提高。
DECOLINE II自动化生产过程大大降低了生产成本、 后勤工作和人力资源，并且只需很短的工艺时间。
>> UV底喷漆设备 >> 清洁喷漆应用 >> 彩色喷漆应用 >> 溶剂量达20 % >> 最高稼动率和生产率
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溅射技术概览 单基板沉积设备研发和工艺开发
PTM溅射装置 德国新格拉斯科技集团将进一步致力于PVD设备面向 新应用的开发。集团的核心竞争力为适用于大规模生 产、试生产和实验室应用的新型真空涂层设备。个性 化的客户需求将在研发和试生产中进行测试，并将其 成果应用到在线批量生产中。比如单基板沉积设备适 用于新应用的研发和测试，显示器和触摸屏设备则是 ITO涂层、AR涂层、EMI屏蔽和单玻璃涂层的技术应 用。从研发到在线溅射设备的转移可同时确保其层堆 及其它金属涂层的高导电性和透明性。
标准性能特征 >> 3个独立的工艺站s >> DC和RF工艺可选 >> 智能阴极技术，170 mm直径 >> 垂直溅射 >> 承载器运输 >> 标准溅射材料如Cu, Ag, Si层, Al, Cr等 >> 即插即用安装 >> 真空低压：< 5 x 10-6 mbar >> 手动水平装卸载
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ROTARIS 适用于半导体和其它先进研发应用以及实验室生产的真空沉积设备
ROTARIS先进溅射设备 ROTARIS超高真空设备是用于快速、精确和全自动 薄膜溅射沉积的模块化平台。它是基于200 mm和 300 mm晶圆工艺的桥式系统。其主沉积室RSM（旋 转基板模块）可容纳多达12个带直径为100 mm的靶 材的物理气相沉积（PVD）阴极。 ROTARIS的设计重点为旋转基板沉积技术，此外还有将 基板倾斜的附加功能。其它功能还包括与最多四个阴 极的“共溅射”、DC溅射、脉冲直流溅射、RF溅射、 晶片加热以及原位取向磁场。使用离子源的可选项设 备可完成表面处理和磨光，离子束刻蚀和侧壁清洗。
ROTARIS设备可配置另外四种附加的不同的工 艺模块，以应对客户对所有研发应用的需求。 这些模块包括氧化处理模块（OPM），预清洁 模块（PCM），复合处理模块（CPM）和静态 PVD模块（sPVD-M）。
适用于不同应用的ROTARIS配置
1
1. ROTARIS 基础版 ROTARIS基础版溅射设备适用于生产200 mm的晶片。 配置示范： →→ 1台旋转基材模块RSM →→ 一台手动晶片装载器 2. ROTARIS先进版 ROTARIS先进版溅射设备包含附加模块，适用于处理200 mm晶片。 配置示范： →→ 1台旋转基材模块RSM →→ 1台复合处理模块CMP →→ 1台MX400中央运输模块CTM 3. ROTARIS综合版 ROTARIS综合版溅射设备配有6个先进工艺模块，适用于生产 200 mm晶片。配置示范： →→ 3台旋转基材模块RSM →→ 1台复合处理模块CMP →→ 1台小型热加工模块TPM →→ 1台MX700中央运输模块CTM
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TIMARIS 对超薄金属和绝缘薄膜层进行厚度为1纳米以下的沉积并保证精确的材 料厚度和高均匀度 TIMARIS 集群工具 德国新格拉斯科技集团已研发并完善第二代TIMARIS PVD组合平台，并为不同的应用晶片提供完整的工艺 模块组合。
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2
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1. 适用于生产300 mm晶片的全量设备TIMARIS II 2. 适用于大规模生产MRAM和其他半导体应用的TIMARIS II高产量沉积设备 3. 适用于生产200 mm和300 mm晶片的TIMARIS II，包括一台研发用和/或小 产量生产的RSM设备 4. PVD集群工具 – 研发用和生产用沉积设备
目前一个TIMARIS系统可根据客户需求配置出超过 十种的工艺模块。这些模块包括多靶材模块、氧化 处理模块、预清洁模块、复合处理模块、四靶材模 块、静态沉积模块和基材旋转模块。其中，基材旋 转模块是专为研发而设计的ROTARIS平台的核心组 件。TIMARIS PVD模块包含了所有的溅射技术： DC磁控溅射、脉冲直流磁控溅射、RF磁控溅射以及 上述几种方式的组合。
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