บทที่ 1 ความรูพื้นฐานเกี่ยวกับ เซลลแสงอาทิตย เซลลแสงอาทิตยเปนสิ่งประดิษฐอิเล็กทรอนิกสที่สามารถแปลงพลังงานแสงใหเปนพลังงานไฟฟาได ดวยปรากฏการณโฟโตโวลทาอิก เซลลแสงอาทิตยชนิดแรกไดแกเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกซิลิคอนซึ่งไดรับ การพัฒนาขึ้นใน ค.ศ. 1954 การใชงานเซลลแสงอาทิตยเริ่มจากการใชงานในยานอวกาศใน ค.ศ. 1958 และเมื่อเกิดเหตุการณวิกฤตน้ํามันในตนทศวรรษที่ 1970 เซลลแสงอาทิตยจึงเริ่มไดรับความ สนใจ ในการใช งานเปนแหลงพลังงานทดแทนบนพื้นโลก ปจจุบันเซลลแสงอาทิตยไดเขามามีบทบาทตอชีวิตความเปนอยูของ มนุษยอยางใกลชิด ความตองการเซลลแสงอาทิตยในแตละปก็เพิ่มขึ้นเรื่อยๆ อัตราการเติบโตการใชงานเซลล แสงอาทิตยในชวง ค.ศ. 2002 – 2003 สูงถึง 30-40% เฉพาะใน ค.ศ. 2002 มีการติดตั้งใชงานเซลล แสงอาทิตยสูงถึง 540 MW ทางดานตนทุนการผลิตก็ไดลดลงเหลือประมาณ 2-3 ดอลลารสหรัฐตอวัตตแลว สําหรับในประเทศไทยจนถึง ค.ศ. 2003 มีการติดตั้งใชงานเซลลแสงอาทิตยรวมแลวประมาณ 6 MW และกําลังเพิ่มขึ้นเรื่อยๆ ทุกป ในบทนี้จะกลาวถึง ความรูพื้นฐานเกี่ยวกับเซลลแสงอาทิตย ซึ่งไดแกโครงสรางและหลักการทํางาน ของเซลลแสงอาทิตย หลักการใชงานพื้นฐานเซลลแสงอาทิตย และประโยชนของเซลลแสงอาทิตย
1.1 ความสําคัญของเซลลแสงอาทิตย เซลลแสงอาทิตย (solar cell) เปนสิ่งประดิษฐออปโตอิเล็กทรอนิกสที่สรางจากสารกึ่งตัวนํา สามารถเปลี่ยนพลังงานแสงอาทิตย (หรือแสงจากหลอดไฟ) ใหเปนพลังงานไฟฟาไดโดยตรง ทันทีที่มีแสงตก กระทบ เซลลแสงอาทิตยก็จะผลิตไฟฟาไดทันที และไฟฟาที่ไดนั้นจะเปนไฟฟากระแสตรง (DC current) เซลลแสงอาทิตยเปนแหลงพลังงานทดแทนชนิดหนึ่ง (renewable energy) ที่เปนที่ยอมรับกันทั่วไปวา สะอาด และไมสรางมลภาวะเปนพิษใดๆ ขณะใชงาน ไมทําลายสภาพแวดลอม เพียงแตติดตั้งเซลลแสงอาทิตยไวกลาง แสงอาทิตย ก็สามารถใชงานไดทันที เซลลแสงอาทิตยทํางานไดโดยไมสรางเสียงรบกวนหรือการเคลื่อนไหว และไมเคยปรากฏวามีการคัดคานการผลิตกระแสไฟฟาดวยเซลลแสงอาทิตย เนื่องจากเซลลแสงอาทิตยทํางาน โดยใชพลังงานแสงอาทิตยเทานั้น จึงเปนการประหยัดน้ํามัน และสามารถผลิตกระแสไฟฟาไดจากแสงอาทิตย ซึ่งเปนพลังงานที่มนุษยไดมาฟรีและมีไมสิ้นสุด อายุการใชงานของเซลลแสงอาทิตยยาวนานกวา 20 ป ดังนั้น เมื่อลงทุนติดตั้งเซลลแสงอาทิตยในครั้งแรก ก็แทบจะไมมีคาใชจายเพิ่มขึ้นอีกตอไป การผลิตกระแสไฟฟาดวยเซลลแสงอาทิตยเปนหนึ่งในนโยบายการผลิตพลังงานทดแทนของประเทศ ไทย และเมื่อเปรียบเทียบกับพลังงานทดแทนอื่นๆ ที่มีการคนควาในประเทศไทย เชน พลังงานลม พลังงาน ความรอนใตพิภพ ปรากฏเปนที่เดนชัดวา เทคโนโลยีเซลลแสงอาทิตยถูกนํามาใชงานไดอยางประสบ ความสําเร็จมากที่สุด เชน มีการใชในหมูบานชนบทหางไกลที่สายไฟฟาไปไมถึง ใชสูบน้ําบาดาลในพื้นที่ ทุรกันดาร ใชในระบบสื่อสารถายทอดสัญญาณโทรศัพท ใชในการทหาร ฯลฯ ใน ค.ศ. 1998 ไดมีโครงการ สาธิตการติดตั้งเซลลแสงอาทิตยบนหลังคาบานในเขตกรุงเทพมหานคร (solar houses) จํานวน 10 หลังอีก ดวย เซลล-แสงอาทิตยที่ติดตั้งแลวในประเทศไทยทั้งหมดในขณะนี้มีกําลังไฟฟาเอาตพุตรวมประมาณ 3.7
1-1
MW หรือประมาณ 92,500 แผง (กําลังไฟฟาที่เซลลแสงอาทิตยหนึ่งแผงผลิตไดมีคาประมาณ 40-50 W พลังงานแสงอาทิตยที่ตกกระทบพื้นโลกเรามีมากมหาศาล รอยละ 99.98 ของพลังงานที่โลกเรา ไดรับมาจากดวงอาทิตย สวนที่เหลือรอยละ 0.02 เปนพลังงานความรอนใตพิภพ ปริมาณพลังงานของ แสงอาทิตยที่เดินทางมาสูโลกมีมากถึง 1.77×1014 kW ซึ่งมีมากกวาปริมาณพลังงานที่มนุษยตองการ (3.8×108 kW) ถึงกวาลานเทา ดังนั้นถามนุษยใชพลังงานแสงอาทิตยโดยตรงนี้ใหเปนประโยชน ก็จะชวย ประหยัดน้ํามันไปไดมาก สําหรับในประเทศไทย บนพื้นที่ 1 ตารางเมตร เราไดรับพลังงานแสงอาทิตยประมาณ 1,000 W หรือเฉลี่ย 4-5 กิโลวัตต-ชั่วโมงตอตารางเมตรตอวัน (kWh/m2/day) ซึ่งมีความหมายวา ในวันหนึ่งๆ บน พื้นที่เพียง 1 ตารางเมตรนั้น เราไดรับพลังงานแสงอาทิตย 1 kW เปนเวลานานถึง 4-5 ชั่วโมงนั่นเอง ถา เซลลแสงอาทิตยมีประสิทธิภาพในการแปลงพลังงานเทากับ 15% ก็แสดงวา เซลลแสงอาทิตยที่มีพื้นที่ 1 ตารางเมตร จะสามารถผลิตพลังงานไฟฟาได 150 W หรือเฉลี่ย 600-750 kWh/m2/day นั่นเอง ในเชิงเปรียบเทียบ ในวันหนึ่งๆ ประเทศไทยเรามีความตองการพลังงานไฟฟาประมาณ 250 ลาน kWh/day ดังนั้นถาเรามีพื้นที่ประมาณ 1,500 ตารางกิโลเมตร (0.3% ของประเทศไทย) เราก็จะสามารถผลิต พลังงานไฟฟาจากเซลลแสงอาทิตยไดเพียงพอกับความตองการทั้งประเทศ
1.2 หลักการทํางานพื้นฐานของเซลลแสงอาทิตย รูปที่ 1.1 แสดงโครงสรางและหลักการทํางานพื้นฐานของเซลลแสงอาทิตย โครงสรางของเซลล แสงอาทิตยที่นิยมใชกันมากที่สุดไดแก รอยตอพีเอ็น (p-n) ของสารกึ่งตัวนํา และวัสดุสารกึ่งตัวนําที่ราคาถูก ที่สุดและมีมากที่สุดบนพื้นโลกไดแก ซิลิคอน ซึ่งถลุงไดจากแรควอตไซตหรือทราย และผานขั้นตอนการทําให บริสุทธิ์ตลอดจนการทําใหเปนผลึก เซลลแสงอาทิตยหนึ่งแผนอาจมีรูปรางเปนแผนวงกลม (เสนผาน ศูนยกลาง 5 นิ้ว) หรือแผนสี่เหลี่ยมจัตุรัส (ดานละ 5 นิ้ว) มีความหนา 200-400 μm (0.2-0.4 mm) และ ตองนํามาแพรซึมสารเจือปนในเตาอุณหภูมิสูง (ประมาณ 1,000 °C) เพื่อสรางรอยตอ p-n ที่มีความลึก ประมาณ 0.3-0.5 μm ขั้วไฟฟาดานหลังเปนผิวสัมผัสโลหะเต็มแผน สวนขั้วไฟฟาดานหนาที่รับแสงมีลักษณะ เปนลายเสนคลายกางปลา เมื่อมีแสงอาทิตยตกกระทบเซลลแสงอาทิตย จะเกิดการสรางพาหะนําไฟฟาชนิดประจุลบและประจุ บวกขึ้นซึ่งไดแก อิเล็กตรอน และ โฮล โครงสรางรอยตอ p-n จะทําหนาที่สรางสนามไฟฟาภายในเซลล แสงอาทิตยเพื่อแยกอิเล็กตรอนใหไหลไปที่ขั้วลบและแยกโฮลไหลไปที่ขั้วบวก ดวยเหตุนี้ทําใหเกิด แรงดันไฟฟาแบบกระแสตรงขึ้นที่ขั้วทั้งสอง เมื่อเราตอเซลลแสงอาทิตยเขากับเครื่องใชไฟฟาชนิดกระแสตรง (เชน หลอดแสงสวาง มอเตอรกระแสตรง ฯลฯ) ก็จะมีกระแสไฟฟาไหลในวงจร
รูปที่ 1.1 โครงสรางและหลักการทํางานพื้นฐานของเซลลแสงอาทิตย
1-2
เซลลแสงอาทิตยที่มีเสนผานศูนยกลาง 5 นิ้ว จะใหกระแสไฟฟาลัดวงจรประมาณ 3 A และให แรงดันไฟฟาวงจรเปดประมาณ 0.5 V ถาตองการใหไดกระแสไฟฟามากๆ ทําไดโดยการนําเซลลแสงอาทิตย หลายเซลลมาตอขนานกัน หรือถาตองการใหไดแรงดันไฟฟาสูงๆ ก็ทําไดโดยการนําเซลลแสงอาทิตยหลาย เซลลมาตออนุกรมกัน เซลลแสงอาทิตยที่มีขายทั่วไปจะถูกออกแบบใหอยูในกรอบอะลูมิเนียมสี่เหลี่ยมผืนผาซึ่ง เรียกวา แผง หรือมอดูล (module) แผงเซลลแสงอาทิตยมีขนาดประมาณ 1.2 × 0.5 ตารางเมตร ภายใน 1 แผงจะมีเซลลแสงอาทิตยจํานวนมากตออนุกรมกัน (เชน 32-40 เซลล) เซลลแสงอาทิตยหนึ่งแผงให แรงดันไฟฟาวงจรเปดประมาณ 16-20 V กระแสไฟฟาลัดวงจรประมาณ 3-4 A และใหกําลังไฟฟาประมาณ 40-50 W ในกรอบอะลูมิเนียมนี้จะออกแบบปดผนึกดานหนาดวยแผนกระจกใส และดานหลังปดผนึกดวย วัสดุกันความชื้นและฝุนละอองไมใหเขาไปสูเซลลแสงอาทิตย เนื่องจากกระแสไฟฟาที่ไหลออกจากเซลลแสงอาทิตยเปนชนิดกระแสตรง ดังนั้นถาผูใชตองการนํา เซลลแสงอาทิตยไปจายพลังงานไฟฟาใหกับอุปกรณไฟฟาชนิดกระแสสลับ ตองตอเซลลแสงอาทิตยเขากับ อินเวอรเตอร (inverter) ซึ่งเปนอุปกรณแปลงกระแสไฟฟาจากกระแสตรงใหเปนกระแสสลับกอนที่จะตอเซลล แสงอาทิตยเขากับอุปกรณไฟฟากระแสสลับดังกลาว ปจจุบันเซลลแสงอาทิตยที่นิยมใชงานบนพื้นโลกมากที่สุดมี 3 ชนิดซึ่งไดแก เซลลแสงอาทิตยชนิด ผลึกเดี่ยวซิลิคอน เซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกโพลีซิลิคอน และเซลลแสงอาทิตยชนิดฟลมบางอะมอรฟสซิลิคอน รูปที่ 1.2 แสดงภาพถายตัวอยางเซลลแสงอาทิตยทั้ง 3 ชนิดนี้
รูปที่ 1.2
ภาพถายตัวอยางเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอน เซลลแสงอาทิตยชนิด ผลึกโพลีซิลิคอน และเซลลแสงอาทิตยชนิดฟลมบางอะมอรฟสซิลิคอน
1-3
1.3 ทฤษฎีพื้นฐานและหลักการทํางานของเซลลแสงอาทิตย 1.3.1 ผลตอบสนองเชิงสเปกตรัมและประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะ เมื่อสองแสงอาทิตยเขาสูเซลลแสงอาทิตย คากระแสไฟฟาโฟโต (photocurrent) ที่เซลลแสงอาทิตย จะผลิตได จะขึ้นกับลักษณะของสเปกตรัมของแสงอาทิตยและผลตอบสนองเชิงสเปกตรัมของเซลลแสงอาทิตย ผลตอบสนองเชิงสเปกตรัม (spectral response) หมายถึง อัตราสวนของกระแสไฟฟาโฟโตลัดวงจร Jsc(λ) ตอพลังงานแสง P(λ) ที่เซลลแสงอาทิตยไดรับ ซึ่งทั้ง Jsc(λ) และ P(λ) เปนฟงกชันของความยาวคลื่น ของแสงอาทิตย ผลตอบสนองเชิงสเปกตรัมมีหนวยเปนแอมแปร/วัตต (A/W) คําวา ประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะ (collection efficiency) หมายถึงอัตราสวนของจํานวน อิเล็กตรอนที่เซลลแสงอาทิตยผลิตตอจํานวนโฟตอนที่ตกกระทบเซลลแสงอาทิตย ประสิทธิภาพการรวบรวม พาหะเปนฟงกชันของความยาวคลื่นแสงและมีนิยามอีก 2 ชนิดดังนี้ ประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะภายใน (internal collection efficiency: ηin) หมายถึง ประสิทธิภาพ การรวบรวมพาหะในกรณีที่สมมติวาผิวดานรับแสงของเซลลแสงอาทิตยไมมีการสะทอนแสง ประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะภายนอก (external collection efficiency: ηext) หมายถึง ประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะในกรณีที่ผิวดานรับแสงของเซลลแสงอาทิตยมีการสะทอนแสง ประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะภายในและภายนอกดังกลาวเขียนเปนสูตรไดดังนี้ [1] J (λ) J sc ( λ) = ηin ( λ) = sc P( λ ) qF ( λ)[1 − R( λ)]
η ext ( λ) = η in ( λ)[1 − R ( λ)] =
โดยที่
J sc ( λ) qF ( λ)
(1.1)
(1.2)
R(λ)
คือสัมประสิทธิ์การสะทอนแสงที่ผิวของเซลลแสงอาทิตย F(λ) คือโฟตอนฟลักซ ซึ่งหมายถึงจํานวนโฟตอนตอหนวยพื้นที่และหนวยเวลาที่ตกกระทบ เซลลแสงอาทิตย q คือประจุอิเล็กตรอน
โดยทั่วไป ประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะภายในจะมีคามากกวาประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะ ภายนอกเสมอ และประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะทั้ง 2 ชนิดนี้จะมีคานอยกวาหนึ่งเสมอ ผลรวมทั้งหมดของ ηext สามารถคํานวณไดจากสมการที่ (1.2) คือ
∑ J sc ( λ) q ∑ F ( λ) ประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะของเซลลแสงอาทิตยรอยตอ p-n η ext =
(1.3)
เราจะลองพิจารณาประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะของเซลลแสงอาทิตยที่มีรอยตอ p-n โดย กําหนดใหวาความหนาแนนของสารเจือปนในชั้น p และ n เทากัน รูปที่ 1.3 แสดงโครงสรางของเซลล แสงอาทิตยและแผนภาพของแถบพลังงาน ประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะคํานวณไดโดยการแบงเซลล แสงอาทิตยออกเปนชั้น n ชั้นปลอดพาหะ และชั้น p และคํานวณกระแสไฟฟาลัดวงจรไดโดยการแกสมการ แพรกระจาย ซึ่งมีวิธีคํานวณดังตอไปนี้
1-4
ในสถานะคงตัว (steady state) สมการตอเนื่องของพาหะขางนอยชนิดโฮลที่ถูกผลิตโดยแสงในชั้น n แสดงไดดังนี้ dJ h p − p no + n − g( x ) = 0 dx qτ h dp J h = qμ h pn E − qDh n dx
(1.4) (1.5)
และสมการตอเนื่องของพาหะขางนอยชนิดอิเล็กตรอนที่ถูกผลิตโดยแสงในชั้น p แสดงไดดังนี้
รูปที่ 1.3 โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยและแผนภาพของแถบพลังงาน dJ e dx
−
n p − nno qτ e
+ g ( x) = 0
dn p J e = qμ e n p E + qDe dx
โดยที่
(1.6) (1.7)
: กระแสไฟฟาของอิเล็กตรอนตอหนวยพื้นที่ μe : ความคลองตัวของอิเล็กตรอน Jh : กระแสไฟฟาของโฮลตอหนวยพื้นที μh : ความคลองตัวของโฮล τe : อายุของอิเล็กตรอน τh : อายุของโฮล np : จํานวนอิเล็กตรอนตอพื้นที่ในชั้น p pn : จํานวนโฮลตอพื้นที่ในชั้น n De : สัมประสิทธิ์การแพรซึมของอิเล็กตรอน Dh : สัมประสิทธิ์การแพรซึมของโฮล g(x) : อัตราการผลิตพาหะในหนึ่งวินาที (generation rate) q : ประจุของอิเล็กตรอน 0 : สภาพสมดุลเชิงความรอน E : สนามไฟฟา x : ตําแหนง Je
1-5
ในการแกสมการที่ (1.4)~(1.7) นี้ เราจะกําหนดเงื่อนไขขอบ (boundary conditions) ดังนี้ pn = pno exp( qV / kT )
ณ
x = xj
(1.8)
n p = n po exp( qV / kT )
ณ
x = xj +w
(1.9)
ณ
x=0
(1.10)
ณ
x=H
(1.11)
S h ( p n − p no ) = Dh
dp n dx
− μ h pn E
dn p Se ( n p − n po ) = − De − μe n p E dx
โดยที่
Se Sh w
: ความเร็วในการรวมตัว (surface recombination velocity) ของอิเล็กตรอนที่ผิวของ เซลลแสงอาทิตย : ความเร็วในการรวมตัวของโฮลที่ผิวของเซลลแสงอาทิตย : ความกวางของชั้นปลอดพาหะ
ในชั้นปลอดพาหะ จะมีศักยไฟฟาภายใน (built-in potential) ซึ่งเกิดจากประจุปริภูมิ (space charge) แตในชั้น p และ n นั้นจะมีศักยไฟฟานอยมาก ถาเราไมพิจารณาศักยไฟฟาในชั้น p และ n เราจะ เขียนสมการตอเนื่องในชั้น n โดยใชสมการที่ (1.4) และ (1.5) ไดวา 2
Dh
d pn p − pno + g( x ) − n =0 2 τh dx
(1.12)
โดยที่อัตราการผลิตพาหะ g (x) มีคาเทากับ g ( x) = αF (1 − R) exp( −αx)
(1.13)
ผลเฉลยทั่วไปของสมการที่ (1.12) คือ αF (1 − R )τ h x x p n − p no = A cosh + B sinh − exp( −αx ) Lh Lh α 2 L2h − 1
โดยที่
Lh R
: ระยะทางแพรซึมของโฮล และ Lh : สัมประสิทธิ์การสะทอนแสง
= (Dh τh )
½
α
(1.14)
: สัมประสิทธิ์การดูดกลืนแสง
สําหรับ A และ B คือ คาคงตัวซึ่งสามารถคํานวณไดโดยการกําหนดเงื่อนไขขอบ 2 กรณีดังนี้ 1. ในบริเวณพรมแดนที่ขอบของชั้นปลอดพาหะ ณ x = xj พาหะสวนเกิน (excess carriers) มี จํานวนนอยมาก นั่นคือ pn − pno = 0
ณ
x = xj
2. ที่บริเวณผิวดานหนาของเซลลแสงอาทิตย พาหะมีการรวมตัวกัน ดังนั้นจึงไดวา
1-6
(1.15)
Dh
d ( pn − pno ) = Sh ( pn − pno ) dx
x=0
ณ
(1.16)
เมื่อกําหนดเงื่อนไขขอบ 2 ขอนี้ดังกลาวขางตนไดแลว เราจึงเขียนสมการที่ (1.14) ไดวา p n − p no = [
( ×[
S h Lh Dh
αF (1 − R )τ h α Lh − 1 2
2
]
xj − x
+ αLh ) sinh
Lh
+ exp( −αx j )(
S h Lh
Dh xj xj S h Lh sinh + cosh Dh Lh Lh
sinh
x
+ cosh
Lh
x Lh
) − exp( −αx )]
(1.17)
ดังนั้น ณ ตําแหนง x = xj ซึ่งเปนบริเวณขอบของชั้นปลอดพาหะนั้น กระแสไฟฟาโฟโตของโฮล (Jh) ที่ผลิตไดในชั้น n จะมีคาเทากับ J h = − qDh
S h Lh ×[
Dh
dp n dx
qF (1 − R )αLh
=[
α Lh − 1 2
2
+ αLh − exp( −αx j )( S h Lh Dh
sinh
]
S h Lh Dh
xj Lh
cosh
+ cosh
xj Lh
+ sinh
n p − n po = 0
2)
− De
J e = qDe
dn p
=
Je
− αLh exp( −αx j )]
(Je)
ที่ผลิตไดในชั้น p จะคํานวณไดจากสมการ
ณ
x = xj + w
(1.19)
ณ
x=H
(1.20)
2 2
α Le − 1
exp[ − α( x j + w)]
H′ Se Le H′ (cosh + αLe exp( −αH ′ ) − exp( −αH ′ )) + sinh Le De Le ×[αLe − ] Se Le H′ H′ sinh + cosh De Le Le
โดยที่
(1.18)
มีคาดังนี้
qF (1 − R) αLe
dx
)
Lh
d ( n p − n po ) = Se ( n p − n po ) dx
ผลการคํานวณจะไดวา
Lh
xj
ในทํานองเดียวกันกระแสไฟฟาโฟโตของอิเล็กตรอน ที่ (1.6) และ (1.7) โดยกําหนดเงื่อนไขขอบวา 1)
xj
H ′ = H − ( x j + w)
1-7
(1.21)
จากสมการที่ (1.18) และ (1.21) เราไดขอมูลวา “กระแสไฟฟาโฟโตของโฮล (Jh) และของ อิเล็กตรอน (Je ) มีคาแปรผันโดยตรงกับผลคูณของสัมประสิทธิ์การดูดกลืนแสง (α ) และระยะทางแพรซึมของ พาหะ (Le , Lh )” ตอไปเราจะคํานวณหาคากระแสไฟฟาโฟโตที่ผลิตในชั้นปลอดพาหะ พาหะที่ถูกแสงกระตุนในชั้น ปลอดพาหะนั้น จะถูกสนามไฟฟาภายในของรอยตอ p-n พัดพาใหไหลออกสูวงจรภายนอก พาหะเหลานี้จึง ไมมีการรวมตัวกันในชั้นปลอดพาหะหรือรวมตัวกันนอยมาก กระแสไฟฟาที่ไหลเชนนี้เรียกวา กระแสไฟฟาพัด พา (drift current: Jdr) และมีคาเทากับ J dr = qF (1 − R ) exp( −αx j )[1 − exp( −αw )]
โดยที่
w คือ
ความหนาของชั้นปลอดพาหะและมีคาเทากับ ⎡ 2ε Na + Nd s w=⎢ (Vd − V ) ⎢⎣ q Na Nd
โดยที่
εs
(1.22)
: Na , Nd : Vd : V :
⎤ ⎥ ⎥⎦
1/ 2
(1.23)
คาคงตัวไดอิเล็กทริกของสารกึ่งตัวนํา ความหนาแนนของแอกเซ็ปเตอรและโดเนอรตามลําดับ แรงดันไฟฟาภายในที่เกิดจากรอยตอ p-n แรงดันไฟฟาไบแอส (ถามี)
ทั้งหมดนี้เราสรุปไดวา กระแสไฟฟาโฟโตลัดวงจรที่ผลิตได ณ ความยาวคลื่นแสงใดๆ รอยตอ p-n จะเปนผลรวมของกระแสไฟฟาตางๆ ดังนี้ J sc ( λ ) = J h ( λ ) + J e ( λ ) + J dr ( λ )
(Jsc (λ))
ใน
(1.24)
ηin
และ ηext สามารถคํานวณไดจากสมการที่ (1.1) และ (1.2) การคํานวณที่กลาวมาทั้งหมดใชใน กรณีแสงอาทิตยสองเขาทางดานชั้น n ของเซลลแสงอาทิตย ถาแสงสองเขาทางดานชั้น p ก็คํานวณไดทํานอง เดียวกัน เพียงแตเปลี่ยนตัวอักษรหอยในสมการตางๆ ที่กลาวมาแลว รูปที่ 1.4 แสดงตัวอยางผลการคํานวณประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะของเซลลแสงอาทิตยชนิด Si รอยตอ p-n [2]
รูปที่ 1.4 ผลการคํานวณประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะของเซลลแสงอาทิตยชนิด Si รอยตอ p-n [2]
1-8
ประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะของเซลลแสงอาทิตยที่มีโครงสรางชอตตกีแบรเรียร MIS
และ
รูปที่ 1.5 (ก) และ (ข) แสดงโครงสรางและแผนภาพของแถบพลังงานของเซลลแสงอาทิตยที่มี โครงสรางชอตตกีแบรเรียร (Schottky barrier) และ MIS (Metal-Insulator-Semiconductor) ตามลําดับ ใน เซลลแสงอาทิตยทั้ง 2 ชนิดนี้ แสงอาทิตยสองเขาทางดานชั้นโลหะบางๆ และทะลุผานเขาสูชั้นสารกึ่งตัวนํา ดังนั้นพาหะที่ถูกแสงกระตุนจึงเกิดขึ้นในบริเวณชั้นปลอดพาหะและชั้นสารกึ่งตัวนํา กระแสไฟฟาโฟโตที่ผลิตในชั้นปลอดพาหะ จะมีคาเหมือนสมการที่ (1.22) คือ J dr = qT ( λ ) F ( λ )[1 − exp( − αw)]
โดยที่
(1.25)
T (λ) : w
สัมประสิทธิ์การทะลุผานของแสงในชั้นโลหะหรือชั้นโลหะ/ฉนวน : ความหนาของชั้นปลอดพาหะ และมีคาเทากับ ⎤ ⎡ 2ε s w=⎢ (Vd − V ) ⎥ ⎥⎦ ⎢⎣ qN d
1/ 2
(1.26)
สารกึ่งตัวนําที่อยูในชั้นถัดไป จะผลิตกระแสไฟฟาโฟโตของโฮลซึ่งมีคา
รูปที่ 1.5
โครงสรางและแผนภาพของแถบพลังงานของเซลลแสงอาทิตยที่มีโครงสราง (ก) ชอตตกีแบรเรียร และ (ข) MIS (Metal-Insulator-Semiconductor)
⎛ qFαL ⎞ h ⎟⎟T ( λ) exp( −αw) J h = ⎜⎜ L + α ⎝ h 1⎠
ทั้งนี้สมมติใหวา αLh >>1 ดังนั้นผลรวมของกระแสไฟฟาลัดวงจร Jsc (λ) จึงมีคาเทากับ
1-9
(1.27)
J sc ( λ) = J dr ( λ) + J h ( λ) = T ( λ) qF ( λ)[1 − exp( −αw) + exp( −αw)
αLh αL h + 1
]
(1.28)
ดังนั้น ประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะ ηin (λ) จึงมีคาดังนี้ η in ( λ) =
J sc ( λ) qF ( λ) T ( λ)
(1.29)
รูปที่ 1.6 แสดงผลการคํานวณประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะ (ηin) ของเซลลแสงอาทิตยที่มี โครง สรางชอตตกีแบรเรียร จะเห็นไดวาผลกระทบจากการรวมตัวของพาหะที่บริเวณผิวดานหนามีนอย ดังนั้น ประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะ (ηin) ของเซลลแสงอาทิตยชนิดชอตตกีแบรเรียรจึงมีคามากกวากรณีของเซลล แสงอาทิตยชนิดรอยตอ p-n [2]
รูปที่ 1.6
ผลการคํานวณประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะของเซลลแสงอาทิตยที่มีโครงสราง ชอตตกีแบรเรียร
ประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะของเซลลแสงอาทิตยรอยตอเฮเทโร เซลลแสงอาทิตยชนิดรอยตอเฮเทโร (heterojunction solar cell) ไดแก เซลลแสงอาทิตยซึ่ง ประกอบดวยสารกึ่งตัวนําที่มีชองวางพลังงานไมเทากันมาประกอบกันเปนรอยตอ p-n รูปที่ 1.7 แสดง ตัวอยางโครงสรางของเซลลแสงอาทิตยซึ่งชองวางพลังงานของชั้น n กวางกวาชั้น p และแสงอาทิตยตกกระทบ ดานชั้น n ในเซลลแสงอาทิตยชนิดนี้ พาหะที่ถูกผลิตในชั้นลึกคือชั้น p จะมีอิทธิพลตอประสิทธิภาพของเซลล แสงอาทิตยมาก ถาแผนภาพของแถบพลังงานของเซลลแสงอาทิตยมีลักษณะดังที่แสดงในรูปที่ 1.7 กระแสไฟฟาของอิเล็กตรอนที่ผลิตในชั้น p จะคํานวณไดจากสมการที่ (1.6), (1.7), (1.19) และ (1.20) โดยพิจารณาวาแสงบางสวนถูกดูดกลืนในชั้น n จึงไดวา J e (λ ) =
qF ( λ ) exp[ −α1 ( x i + w1 )] exp( −α 2 w 2 )α 2 Le 2 (1 − R )
α 22 Le 22 − 1
1-10
S e Le 2 H′ H′ (cosh − exp( −αH ′ )) + sinh + α 2 Le 2 exp( −αH ′ ) Le 2 De 2 Le 2 ×[α 2 Le 2 − ] Se Le 2 H′ H′ sinh + cosh De 2 Le 2 Le 2
(1.30)
ในที่นี้ ชั้นปลอดพาหะที่บริเวณรอยตอ p-n ถูกแบงเปนยาน w1 และ w2 และตัวเลขหอย 1 และ 2 หมายถึงปริมาณที่เกี่ยวของกับยานที่ 1 และ 2 ตามลําดับ สําหรับคากระแสไฟฟาของโฮลที่ถูกผลิตในชั้น n เหมือนกับสมการที่ (1.18) เชนเดิม สําหรับคากระแสไฟฟาพัดพา Jdr (λ) จะมีคาเทากับ Jw1 + Jw2 โดยที่ Jw1 มีรูปเหมือนสมการที่ (1.22) และ Jw 2 ก็มีรูปเหมือนสมการที่ (1.22) เชนกัน โดยแทนคา xj + w1 แทน xj
รูปที่ 1.7
รูปที่ 1.8
โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยที่ชั้น n มีชองวางพลังงานกวางกวาชั้น p และ แสงอาทิตยตกกระทบดานชั้น n
ตัวอยางผลการคํานวณประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะของเซลลแสงอาทิตยรอยตอเฮเทโร ของ GaP-Si [2]
รูปที่ 1.8 แสดงตัวอยางผลการคํานวณคาประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะของเซลลแสงอาทิตยรอยตอ เฮเทโรของ GaP-Si [2]
1-11
1.3.2 ลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตย พารามิเตอรที่สําคัญที่ใชอธิบายลักษณะสมบัติเอาตพุต (output characteristics) ของเซลลแสงอาทิตย มีดังนี้ 1) ประสิทธิภาพการแปลงพลังงาน (Energy conversion efficiency) คืออัตราสวนของกําลังไฟฟา เอาตพุตสูงสุดตอพลังงานของแสงที่ตกกระทบเซลลแสงอาทิตย อาจเรียกสั้นๆ วาประสิทธิภาพของเซลล แสงอาทิตยและใชสัญลักษณวา η เขียนเปนสูตรไดวา ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตย = กําลังไฟฟาเอาตพุตสูงสุด × 100% พื้นที่รับแสง × กําลังของแสงที่ตกกระทบเซลล η
=
Pmax (W ) Area (m 2 ) × Pin (W )
× 100%
(1.31)
2) กระแสไฟฟาลัดวงจร (Short Circuit Current) ถาเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยอยูในสภาพลัดวงจร เราเรียกกระแสไฟฟาที่ไหลในวงจรวา กระแสไฟฟาลัดวงจร (short circuit current: Isc) รูปที่ 1.9 แสดงวงจรสมมูลของเซลลแสงอาทิตยทั่วไป ถาเซลลแสงอาทิตยไมถูกสองดวยแสง ความสัมพันธระหวางกระแสไฟฟามืด I และแรงดันไฟฟา V ของเซลลแสงอาทิตยในสภาพมืดจะมีรูป เหมือนกับสมการของกระแสไฟฟาของไดโอด กลาวคือ I = I 0 [ exp(qV / nkT ) − 1]
โดยที่
⎛D p De n p h n I 0 = qA⎜⎜ + Le ⎝ Lh
⎞ ⎟⎟ ⎠
(1.32)
เรียกวา กระแสไฟฟายอนอิ่มตัว และ n คือคาแฟกเตอรอุดมคติของไดโอด
ดังนั้นกระแสไฟฟา Iout ที่ไหลออกสูวงจรภายนอกจะเทากับผลตางระหวางกระแสไฟฟามืด I และ กระแสไฟฟาโฟโต Iph (=Isc) ดังนี้ I out = I − I ph
(1.33)
ในที่นี้ Iph (=Isc) คํานวณไดจากสมการที่ (1.2) และถาให
A คือพื้นที่รับแสง
∫o
∞
I sc = qA F ( λ)η ext ( λ) dλ
จะไดวา (1.34)
ถาพิจารณาความตานทานภายในของเซลลแสงอาทิตยซึ่งไดแก ความตานทานอนุกรม Rs และความ ตานทานชันต Rsh ดวย จะทําใหกระแสไฟฟาเอาตพุต Iout มีคาดังนี้ ⎧ ⎡ q (V − IRs ) ⎤ ⎫ V − IRs I out = I 0 ⎨exp⎢ − 1⎬ + − I ph ⎣ nkT ⎥⎦ ⎭ Rsh ⎩
1-12
(1.33’)
รูปที่ 1.9 วงจรสมมูลของเซลลแสงอาทิตยทั่วไป 3) แรงดันไฟฟาวงจรเปด (Open Circuit Voltage) ถาเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยอยูในสภาพวงจรเปด (open circuit) แรงดันไฟฟาที่วัดไดเรียกวา แรงดันไฟฟาวงจรเปด (open circuit voltage: Voc) คา Voc คํานวณไดจากสมการที่ (1.33) โดยแทนคา Iout = 0 ดังนั้นจึงไดวา Voc =
nkT q
⎛ I sc
⎞ + 1⎟ ⎝ I0 ⎠
ln⎜
(1.35)
รูปที่ 1.10 แสดงตัวอยางลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตย จุดที่กราฟตัดแกน แรงดันไฟฟาคือแรงดันไฟฟาวงจรเปด จุดที่กราฟตัดแกนกระแสไฟฟาคือกระแสไฟฟาลัดวงจร ในการใชงาน เซลล-แสงอาทิตย กําลังไฟฟาสูงสุด Pmax (maximum power) ที่เราจะไดจากเซลลแสงอาทิตยจะเทากับพื้นที่ สี่เหลี่ยมผืนผาที่ใหญที่สุดภายในกราฟลักษณะสมบัตินี้ซึ่งแสดงดวยเสนไขปลาในรูปที่ 1.10 ถาให Vmax (maximum voltage) และ Imax (maximum current) คือแรงดันไฟฟาสูงสุดและกระแสไฟฟาสูงสุดตามลําดับที่ จะใหกําลังไฟฟาสูงสุด ดังนั้น Pmax = Vmax × Imax
เราสามารถคํานวณหาคา ∂Pmax ∂Vmax
=0
Vmax
ไดดวยการหาคาอนุพันธของ
(1.36) Pmax
เทียบกับ
ผลลัพธคือ
รูปที่ 1.10 ลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยทั่วไป
1-13
Vmax
และกําหนดให
exp(
qVmax nkT
ดวยวิธีการคํานวณในทํานองเดียวกัน
)(1 +
qVmax nkT
)=(
I sc I0
+ 1)
(1.37)
Imax จะมีคาเทากับ
I max =
( I sc + I 0 ) 1+
qVmax
nkT qVmax
(1.37’)
nkT
สมการที่ (1.37) และ (1.37’) ชี้ใหเราทราบวา Pmax จะมีคามากเมื่อ I0 มีคานอย (นั่นก็คือ ชองวาง พลังงานของสารกึ่งตัวนําควรมีคากวางพอสมควร) และ n มีคานอย 4) ฟลลแฟกเตอร (Fill Factor) เอาตพุตพารามิเตอรที่สําคัญอีกตัวหนึ่งคือ ฟลลแฟกเตอร (fill factor) เขียนยอวา FF นิยามของ FF คืออัตราสวนของพื้นที่ของ Vmax × Imax ตอพื้นที่ของ Voc × Isc และเขียนเปนสูตรไดวา FF =
=
Pmax Voc × I sc
V max Voc
[1 −
=
V max × I max
(1.38)
Voc × I sc
exp( qV max / nkT − 1 exp( qVoc / nkT ) − 1
]
(1.39)
ถาความตานทานอนุกรม Rs ในเซลลแสงอาทิตยมีคานอย จะทําใหฟลลแฟกเตอร FF มีคามาก ถาเราทราบคาพารามิเตอรตางๆ ดังกลาวขางตน เราจะสามารถคํานวณคาประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยไดดังนี้ η =
Pmax V m ax × I m ax V oc × I sc × FF × 100% = = × 100% Pin Pin Pin
(1.40)
∞
∫ F ( λ)η ext ( λ)dλ 0
= FF × (nkT / q ) ln[ I sc / I 0 ) + 1] × q × ∞
∫ F ( λ)(hc / λ)dλ
(1.41)
0
ในปจจุบัน คาประมาณ 12~19% สูญเสีย
ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกซิลิคอนที่ผลิตในภาคอุตสาหกรรมมี พลังงานแสงที่ตกกระทบเซลลแสงอาทิตยบางสวนถูกนําไปใชประโยฃน บางสวน
1-14
รูปที่ 1.11 แผนภูมิการสูญเสียพลังงานในเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอน ไมไดใชเปนประโยชน เชน แสงบางสวนสะทอนกลับ รูปที่ 1.11 แสดงแผนภูมิการสูญเสียพลังงานในเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอนทั่วไป เนื่องจากผลึกเดี่ยวซิลิคอนมีชองวางพลังงานเทากับ 1.1 eV ดังนั้น แสงที่มีพลังงานโฟตอนมากกวา 1.1 eV จึงจะถูกดูดกลืนและเกิดการผลิตคูของอิเล็กตรอนและโฮล ผลการ คํานวณประสิทธิภาพสูงสุดของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอนคือ 25 %
ตัวอยางที่ 1 เซลลแสงอาทิตยชนิด Si รอยตอ p-n มีพื้นที่ 4 cm2 และมีพารามิเตอรตอไปนี้ ความเขมขนของสารเจือปนในชั้น n Nd = 1018 cm-3 ความเขมขนของสารเจือปนในชั้น p Na = 3 × 1017 cm-3 สัมประสิทธิ์การแพรซึมของอิเล็กตรอน De = 15 cm2/sec สัมประสิทธิ์การแพรซึมของโฮล Dh = 7.5 cm2/sec เวลาอายุพาหะขางนอยชนิดอิเล็กตรอน τe = 10-7 sec -7 เวลาอายุพาหะขางนอยชนิดโฮล τh = 10 sec กระแสไฟฟาเอาตพุตลัดวงจร Jsc = 1.0 A แฟกเตอรอุดมคติของไดโอด n = 1.25 จงหาคาแรงดันไฟฟาวงจรเปดโดยใชพารามิเตอรขางตน และถาใหฟลลแฟกเตอรเทากับ 0.75 จง หาคากําลังไฟฟาเอาตพุตสูงสุด
(ที่ 300 K)
วิธีทํา
⎛D p De n p h n I 0 = eA ⎜⎜ + Le ⎝ Lh
(
= 1.6 × 10 = 6.3 × 10 Voc =
n kBT e
−19
−12
)(
C 4 cm
2
⎞ ⎟⎟ ⎠
)
(
)(
) (
)(
2 2 −3 ⎛ 7.5cm 2 / s 2.25 × 10 2 cm −3 15 cm s 7.5 × 10 cm ×⎜ + −3 −3 ⎜ 2.73 × 10 cm 1.22 × 10 cm ⎝
(
)
(
A
⎛I ⎞ ⎞ ⎛ 1.0 sc ln ⎜⎜ + 1⎟⎟ = ( 1.25) ( 0.026V ) ln ⎜ + 1⎟ = 0.84 V −12 ⎠ ⎝ 6.3 × 10 ⎝ I0 ⎠
Pmax = I sc × Voc × FF = ( 1.0 A) ( 0.84V ) ( 0.75) = 0.63 W
1-15
)
) ⎞⎟ ⎟ ⎠
ตัวอยางที่ 2 เซลลแสงอาทิตยมีลักษณะเปนแผนวงกลมรัศมี
r
= 6 cm มีพารามิเตอรตอไปนี้ I0 = 10 A, Isc = 3.0 A, Voc = 0.7 V, Vmax = 0.55 V, Imax = 2.85 A, วัดที่กําลังแสงอินพุต = 100 mW/cm2 จงหาคาฟลลแฟกเตอรและประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตย -12
A = π r = 113 cm 2
วิธีทํา พื้นที่รับแสงอาทิตย
FF =
ฟลลแฟกเตอร
V max × I max
2
=
Voc × I sc
0.55V × 2.85 A 0.7V × 3.0 A
= 74%
ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตย η= η=
หรือ
Pmax Pin
=
0.55V × 2.85 A 2
113cm × 0.1W / cm
Voc × I sc × FF
=
Pin
2
= 13.8%
0.7V × 3.0 A × 0.74 2
113cm × 0.1W / cm
2
= 13.8%
ตัวอยางที่ 3 เซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยว Si มีพื้นที่ 113 cm2 ประสิทธิภาพ
η
= 15.0 % วัดที่ความเขมแสงอาทิตย 100 mW/cm จงคํานวณวาเซลลแสงอาทิตยนี้จะใหกําลังไฟฟาสูงสุดเทาไร 2
วิธีทํา
η ∴ Pmax
=
p max Pin
= η × Pin = 0.15 × 113cm × 0.1W / cm = 1.67 W 2
2
1.3.3 ทฤษฎีเกี่ยวกับเซลลแสงอาทิตยรอยตอเฮเทโร รอยตอที่เกิดจากการนําสารกึ่งตัวนําตางชนิดกันมาตอกันเรียกวา รอยตอเฮเทโร (heterojunction) และถาสารกึ่งตัวนําทั้งสองชนิดนั้นมีพาหะชนิดเดียวกัน เชน รอยตอ n-n และ p-p เรียกวา รอยตอชนิดไอโซ
รูปที่ 1.12
แผนภาพของแถบพลังงานของเซลลแสงอาทิตยรอยตอของ p-Ga1-xAlxAs/p-GaAs/n-GaAs
(isotype junction) ถาสารกึ่งตัวนําทั้งสองชนิดนั้นมีพาหะตางชนิดกัน เชน รอยตอ p-n และ รอยตอ n-p เรียกวา รอยตอชนิดแอนไอโซ (anisotype junction)
1-16
รอยตอชนิดไอโซมีความสําคัญตอเซลลแสงอาทิตยชนิดเฮเทโรมาก รูปที่ 1.12 แสดงตัวอยาง แผนภาพของแถบพลังงานของเซลลแสงอาทิตยรอยตอของ p-Ga1-xAlxAs/p-GaAs/n-GaAs ถาไมมีชั้น หนาตางของ p-Ga1-xAlxAs ในเซลลแสงอาทิตยชนิดนี้ อัตราการรวมตัวของอิเล็กตรอนที่ผิวของ p-GaAs จะ สูงมากกวา 106 cm/s ทําใหอิเล็กตรอนที่เกิดจากแสงจํานวนมากสูญเสียดวยการรวมตัวที่ผิวของ p-GaAs และไมสามารถไหลไปสูชั้น n-GaAs หรือออกสูวงจรภายนอกได แตถาเราปลูกชั้น p-Ga1-xAlxAs ทับชั้น p-GaAs จะทําใหอัตราการรวมตัวของอิเล็กตรอนที่ผิวของ p-GaAs ลดลงต่ํากวา 104 cm/s และชั้น p-Ga1-xAlxAs ยังชวยทําใหเกิดกําแพงศักยสะทอน (ΔEc) และทําให อิเล็กตรอนไหลไปทางชั้น n-GaAs ไดมากขึ้นอีกดวย ดังนั้นประสิทธิภาพการรวบรวมพาหะจึงมีคาสูงขึ้น คา คงตัวแลตทิซ (lattice constant) ของ p-GaAlAs มีคาใกลเคียงกับ p- หรือ n-GaAs มากดังแสดงในตารางที่ 1.1
ตารางที่ 1.1 ความไมเขาคูของแลตทิซและความไมตอเนื่องของแถบพลังงานของสารกึ่งตัวนําที่ใช ประดิษฐเปนเซลลแสงอาทิตยรอยตอเฮเทโรชนิดแอนไอโซ สารกึ่งตัวนํา
ความไมเขาคูของแลตทิซ ความไมตอเนื่องของ (%) แถบพลังงาน p-Ga0.4Al0.6As/n-GaAs 0.08 ΔEv ≈ 0 eV n-CdS/p-InP 0.9 ΔEc ≈ 0.12 eV n-CdS/p-CdTe 9.7 ΔEc ≈ 0.22 eV n-CdS/p-Cu2S 4.6 ΔEc ≈ 0.2 eV ชองวางพลังงานของ Ga1-xAlxAs จะขึ้นอยูกับอัตราสวนผสมของ Al เชน ถา x = 0.7 ชองวาง พลังงานจะมีคาประมาณ 2.5 eV ซึ่งแสงผานไดดี ดังนั้นถาเพิ่มความหนาใหเปนประมาณ 10 μm จะชวยลด ความตานทานแผน (sheet resistance) ของชั้น Ga1-xAlxAs ลงได เซลลแสงอาทิตยชนิดแอนไอโซ (anisotype) ไดแกเซลลแสงอาทิตยที่ประกอบดวยสารกึ่งตัวนําชนิด n (หรือ p) เปนตัวดูดกลืนแสง โดยมีสารกึ่งตัวนําชนิด p (หรือ n) ที่มีชองวางพลังงานกวางกวาเคลือบอยู ดานหนา ตารางที่ 1.1 แสดงตัวอยางเซลลแสงอาทิตยชนิดแอนไอโซที่ประกอบดวยสารกึ่งตัวนําชนิดตางๆ ใน ตารางนี้ไดแสดงคาความไมเขาคูของแลตทิซ (lattice mismatch) และความไมตอเนื่องของแถบพลังงาน (band discontinuity) ไวดวย นิยามของ “ความไมเขาคูของแลตทิซ” คือ คาความแตกตางของคาคงตัวแลตทิซของ สารกึ่งตัวนํา 2 ชนิดที่นํามาตอกัน [3] ในเซลลแสงอาทิตยชนิดแอนไอโซ แสงอาทิตยสามารถทะลุผานชั้นสารกึ่งตัวนําที่มีชองวางพลังงาน ดานหนาที่กวาง (เรียกวา ชั้นหนาตาง) ไดโดยถูกดูดกลืนนอยมาก แสงที่เล็ดลอดผานชั้นหนาตางไปได จะถูกดูดกลืนในชั้นถัดไปซึ่งคูของอิเล็กตรอนและโฮลจะถูกผลิต ในชั้นนี้ ผลตอบสนองแสงของเซลลแสงอาทิตยชนิดนี้จะมีคาสูงในชวงพลังงานโฟตอนที่ครอบคลุมชองวาง พลังงานของสารกึ่งตัวนําทั้ง 2 ชั้นนี้ ความตานทานแผน (sheet resistance) ของชั้นหนาตางสามารถลดลงได โดยการปลูกชั้นหนาตางใหหนา ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิดนี้สูงมาก และชั้นหนาตางนี้ยังชวยทํา หนาที่เปนชั้นปองกันรังสีตางๆ ได จึงนิยมใชในงานดานอวกาศ เชน ใชเปนแหลงกําเนิดพลังงานไฟฟาของ อุปกรณตางๆ ในดาวเทียม ในการออกแบบเซลลแสงอาทิตยชนิดรอยตอแอนไอโซเฮเทโร (anisotype heterojunction) สิ่งที่ สําคัญอันดับแรกไดแก การเลือกขนาดชองวางพลังงานของสารกึ่งตัวนําทั้ง 2 ชั้นใหมีผลตอบสนองทางแสง ใกลเคียงกับสเปกตรัมของแสงอาทิตยใหมากที่สุด
1-17
โฟตอนฟลักซ (photon flux) Φ( x ) ตอหนวยเวลาตอพื้นที่ในสารกึ่งตัวนําชั้นที่ 2 ณ จุดที่มีระยะหาง จากรอยตอเชื่อมเฮเทโร (heterointerface) เทากับ x มีคาเทากับ Φ( x ) = Φ0 exp(−α 2 x ) exp(−α 1 x j )
โดยที่
Φ0
α1, α2, xj
(1.42)
: โฟตอนฟลักซที่ตกกระทบผิวเซลลแสงอาทิตย : สัมประสิทธิ์การดูดกลืนแสง ณ ความยาวคลื่น λ ของสารกึ่งตัวนําชั้นที่หนึ่งและชั้นที่ สอง : ความหนาของสารกึ่งตัวนําชั้นหนาตาง
ถาใหประสิทธิภาพควอนตัม (quantum efficiency) ในการผลิตคูอิเล็กตรอนและโฮลเทากับ 1 จํานวนคูของอิเล็กตรอนและโฮลที่ถูกผลิต ณ ตําแหนง x จะมีคาเทากับ G( x) = −
dΦ dx
(1.43)
ดังนั้นกระแสไฟฟาโฟโตลัดวงจรจึงแสดงไดวา ∞
J = q ∫ G exp( − 0
x L
) dx
α2L = qΦ 0 exp( −α 1 x j ) 1 + α2L
(1.44)
โดยที่ L คือ ระยะทางแพรซึม (diffusion length) ของพาหะขางนอยในสารกึ่งตัวนําชั้นที่สอง ในการคํานวณขางตนเราสมมติวา กระแสไฟฟาโฟโตไมไดผลิตในชั้นหนาตาง รูปที่ 1.13 แสดง ตัวอยางสเปกตรัมผลตอบสนองของเซลลแสงอาทิตยรอยตอเฮเทโรชนิด n-CdS/p-InP ในชวงโฟตอนที่มีคา ระหวาง Eg1 และ Eg2 ผลตอบสนองลดนอยลงเมื่อความยาวคลื่นแสงยาวขึ้น ทั้งนี้เพราะเมื่อความยาวคลื่น แสงยาวขึ้น คา α2 จะลดลง และเมื่อ α2 มีคาลดลง จากสมการที่ (1.43) คา J ก็จะลดลงดวย แตสําหรับกรณี รอยตอ p-n ชนิดโฮโม สเปกตรัมชวงที่ความยาวคลื่นแสงยาว ผลตอบสนองจะเพิ่มขึ้น ดังนั้นผลตอบสนอง ในชวงความยาวคลื่นสั้นของรอยตอเฮเทโรจึงดีกวากรณีรอยตอโฮโม [4] ในการพิจารณาขางตนทั้งหมดเราไดสมมติวา สารกึ่งตัวนําชั้นที่ 2 มีความหนามากเปนอนันตและ ความหนาของชั้นปลอดพาหะมีคานอยกวาระยะทางแพรซึมของพาหะนอย ขอสมมตินี้ไมสามารถใชไดกับ เซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกโพลีหรืออะมอรฟสซึ่งมีคาระยะทางแพรซึมของพาหะสั้นมาก รูปที่ 1.14 แสดงแผนภาพของแถบพลังงานของเซลลแสงอาทิตยชนิดรอยตอแอนไอโซเฮเทโร (anisotype heterojunction) ของ n-CdS/p-InP Anderson ไดพบวาความไมตอเนื่องของแถบพลังงาน (band discontinuity) ของแถบคอนดักชัน ΔEc และของแถบเวเลนซ ΔEv แสดงไดดังนี้ [5] ΔE c = χ1 − χ 2
(1.45)
ΔE v = E g1 − E g 2 − ΔE c
(1.46)
1-18
โดยที่
χ1
และ χ2 คืออิเล็กตรอนแอฟฟนิตี (electron affinity) ของ n-CdS และ p-InP ตามลําดับ
ในรูปนี้ ΔEc มีคาเปนบวก ดังนั้นอิเล็กตรอนที่ถูกผลิตในชั้น p-InP สามารถไหลลงสูชั้น n-CdS ได เปนผลใหเกิดกระแสไฟฟาโฟโตได แตถา ΔEc ≤ -kT จะเกิดยอดแหลม (spike) ขึ้นที่รอยตอของ แถบ คอนดักชัน ทําใหอิเล็กตรอนถูกกักไมใหเคลื่อนที่ซึ่งจะสงผลทําใหกระแสไฟฟาโฟโตมีคาลดนอยลง ในทํานองเดียวกัน ในรอยตอ p-n แบบเฮเทโร ถา ΔEv ≤ -kT ก็จะเกิดยอดแหลมขึ้นที่รอยตอของ แถบเวเลนซ ทําใหโฮลที่ถูกผลิตในชั้นที่ 2 (n) ถูกกักไมใหเคลื่อนที่
รูปที่ 1.13 สเปกตรัมผลตอบสนองของเซลลแสงอาทิตยรอยตอเฮเทโรชนิด n-CdS/p-InP
รูปที่ 1.14 แผนภาพของแถบพลังงานของของเซลลแสงอาทิตยชนิดแอนไอโซเฮเทโรของ n-Cds-pInP อยางไรก็ตามตองระวังอีกดวยวา ในเซลลแสงอาทิตยรอยตอ n-p ถา ΔEc มีคามากกวา kT มาก หรือในเซลลแสงอาทิตยรอยตอ p-n ถา ΔEv มีคามากกวา kT มาก จะทําใหแรงดันไฟฟาภายใน VB ลดลง ตามสูตรดังนี้ [5]
โดยที่
δ1
V B = − ΔE c + E g 2 − δ 1 − δ 2
กรณีรอยตอ n-p
(1.47)
V B = − ΔE v + E g 2 − δ 1 − δ 2
กรณีรอยตอ p-n
(1.48)
: ความแตกตางของระดับพลังงานของแถบคอนดักชันและระดับพลังงานเฟรมีของสารกึ่งตัวนํา
1-19
ชนิด n (ชั้นที่ 1) δ2 : ความแตกตางของระดับพลังงานของแถบเวเลนซและระดับพลังงานเฟรมีของสารกึ่งตัวนํา ชนิด p (ชั้นที่ 2) โดยสรุปแลว ในเซลลแสงอาทิตยชนิดรอยตอเฮเทโรนั้น ΔEc และ ΔEv ควรมีคาดังนี้ ΔE c ≤ kT
กรณีรอยตอ n-p
(1.49)
ΔE v ≤ kT
กรณีรอยตอ p-n
(1.50)
ตารางที่ 1.1 แสดงคา ΔEc , ΔEv ของรอยตอชนิดตางๆ [6-7] ลักษณะความสัมพันธระหวางแรงดันและกระแสไฟฟาของรอยตอเฮเทโรในที่มืดมีอิทธิพลตอคา Voc และ FF ของเซลลแสงอาทิตยมาก ตอไปจะอธิบายยอๆ เกี่ยวกับกระบวนการขนสงพาหะในรอยตอเฮเทโร ซึ่งมีดวยกันหลายชนิด เชน กระบวนการขนสงโดยอาศัยความรอนชวย กระบวนการรวมตัวของพาหะในชั้น ปลอดพาหะ และกระบวนการทะลุอุโมงค (tunneling) ผานกําแพงศักย ในเซลลแสงอาทิตยรอยตอเฮเทโรซึ่งแถบพลังงานไมมียอดแหลมดังที่แสดงในรูปที่ 1.14 นั้น อิเล็กตรอนจะเปนพาหะสวนใหญที่กอใหเกิดกระแสไฟฟา ทั้งนี้เพราะวากําแพงศักย (barrier) ของอิเล็กตรอน นั้นต่ํากวากําแพงศักยของโฮลมาก ถากระแสรวมตัว (recombination current) ในยานปลอดพาหะมีคานอย มาก กระแสไฟฟามืดจะแสดงไดวา J D = qXN d 1
โดยที่
X Nd1 V De2, τe2
: : : :
De 2
τ e2
exp[ −
q( E g2 − δ 1 − δ 2 ) kT
] ×[exp(
qV kT
) − 1]
(1.51)
สัมประสิทธิ์ซึ่งแสดงความสามารถในการทะลุผานรอยตอของอิเล็กตรอน ความหนาแนนของโดเนอรในสารกึ่งตัวนําชนิด n (ชั้นที่ 1) แรงดันไฟฟาที่ปอนใหเซลลแสงอาทิตยแบบไบแอสตาม สัมประสิทธิ์การแพรซึมและอายุของอิเล็กตรอนตามลําดับในสารกึ่งตัวนําชนิด p (ชั้นที่ 2)
สมการที่ (1.51) นี้มีรูปเดียวกับลักษณะความสัมพันธของกระแสไฟฟาและแรงดันไฟฟาในเซลลแสงอาทิตยรอยตอ n-p แบบโฮโมซึ่งความหนาแนนของโดเนอรสูงกวาความหนาแนนของแอกเซ็ปเตอร ผลการทดลองจริงของเซลลแสงอาทิตยรอยตอ p-Ga1-xAlxAs/n-GaAs ไดพิสูจนวาสมการที่ (1.51) เปน ความจริง [8] ถากระแสรวมตัวของพาหะในชั้นปลอดพาหะมีคามาก ความสัมพันธของ J-V จะมีรูปเหมือนในเซลล แสงอาทิตยรอยตอ p-n แบบโฮโมคือ
⎡ ⎛ qV ⎞ ⎤ J D = J 0 ⎢ exp⎜ ⎟ − 1⎥ ⎣ ⎝ nkT ⎠ ⎦
โดยที่
(1.52)
J0 : กระแสไฟฟายอนอิ่มตัวซึ่งจะมีคาเพิ่มขึ้นถาอุณหภูมิสูงขึ้นและจํานวนแก็ปสเตต (gap states) ในชั้นปลอดพาหะมีคามากขึ้น
1-20
n
: มีคาอยูระหวาง 1 และ 2
สมการที่ (1.52) ใชไดกับเซลลแสงอาทิตยชนิด n-GaAs/p-Ge และ n-CdS/ p-InP [9] แต ไม สามารถใชกับเซลลแสงอาทิตยชนิด p-GaAs/n-Ge ซึ่งมีลักษณะของแถบพลังงานที่แตกตางไปจากชนิดแรก ดังที่แสดงในรูปที่ 1.15 จะสังเกตเห็นไดวาบริเวณรอยตอของแถบเวเลนซมียอดแหลม (ΔEv= -0.69 eV) และเมื่อสังเกตกราฟ ln(J-V) จะพบวาความชันของกราฟจะไมลดลงแมอุณหภูมิจะสูงขึ้นซึ่งขัดแยงกับสมการ ที่ (1.52) ในเซลลแสงอาทิตยชนิด p-GaAs/n-Ge นี้ อิเล็กตรอนในแถบคอนดักชันของ n-Ge จะตกลงไป ในแก็ปสเตต (gap states) ซึ่งมีอยูจํานวนมากที่รอยเชื่อมตอ (interface) ในแถบพลังงานตองหาม ตอจากนั้น อิเล็กตรอนจึงจะทะลุอุโมงค (tunnel) เขาไปในแถบเวเลนซของ p-GaAs ซึ่งแสดงดวยเสนทางสาย A การ ขนสงของอิเล็กตรอนเชนนี้ทําให J-V มีความสัมพันธดังนี้ J b = B exp[−α (V B − V )]
โดยที่
B VB
: คาคงตัว : ศักยไฟฟาภายใน (built-in potential) ที่เกิดขึ้นในรอยตอ และ α=
โดยที่
(1.53)
4 ⎛ m *ε 1 ⎞ ⎜ ⎟ 3h ⎝ N A1 ⎠
1/ 2
: คาคงตัวของพลังคซึ่งหารดวย 2π แลว NA1 : ความหนาแนนของแอกเซ็ปเตอรใน p-GaAs h
(1.54) m*
ε1
: มวลประสิทธิผลของอิเล็กตรอน : คาคงตัวไดอิเล็กทริก
รูปที่ 1.15 แผนภาพของแถบพลังงานของเซลลแสงอาทิตยชนิด p-GaAs/n-Ge
1-21
รูปที่ 1.16 ตัวอยางความสัมพันธระหวางกระแสไฟฟาและแรงดันของรอยตอชนิด p-Si1-xGex/n-Si การขนสงของอิเล็กตรอนอาจเปนไปในลักษณะเสนทาง B และ C ในรูปที่ 1.15 ก็ไดซึ่งก็จะใหผล เหมือนสมการที่ (1.53) ในกรณีเสนทาง B เริ่มแรกอิเล็กตรอนจะทะลุอุโมงคเขาไปในแถบพลังงานตองหาม แลวถูกจับดวยแก็ปสเตต ตอจากนั้นอิเล็กตรอนจะตกลงไปในแถบเวเลนซและไปรวมตัวกับโฮล สําหรับกรณี เสนทาง C อิเล็กตรอนจะทะลุอุโมงคไปสูแก็ปสเตตหลายครั้ง (เรียกวา multiple tunneling) กอนที่จะรวมตัว กับโฮล ในรอยตอชนิดแอนไอโซเฮเทโร (anisotype heterojunction) ถาคาคงตัวแลตทิซของสารกึ่งตัวนําทั้ง สองมีความแตกตางกันมาก จะทําใหจํานวนแก็ปสเตตที่บริเวณรอยเชื่อมตอเพิ่มขึ้นอีกเปนลําดับซึ่งจะเปนผล ทําใหกระแสรวมตัว (สมการที่ 1.52) และกระแสทะลุอุโมงค (tunneling current) มีอิทธิพลมากขึ้น รูปที่ 1.16 แสดงตัวอยางจริงของความสัมพันธระหวางกระแสไฟฟาและแรงดันของรอยตอชนิด p-Si1-xGex/ n-Si ในรูปนี้ เมื่อคา x เพิ่มมากขึ้น คาคงตัวแลตทิซของ Si1-xGex และ Si จะมีความแตกตางกันมากขึ้น ถาความ แตกตางของคาคงตัวแลตทิซ (m) มีคามากกวา 0.3% คากระแสไฟฟาอิ่มตัว J0 ในสมการที่ (1.52) จะมาก ขึ้น และเมื่อแรงดันไฟฟาสูงขึ้น กระแสไฟฟาจะไหลไมมากอีกตอไป ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยที่มี ลักษณะความสัมพันธระหวางกระแสไฟฟาและแรงดันไฟฟาเชนนี้จะลดลง [10]
1.3.4 ขีดจํากัดของประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตย ไดกลาวมาแลวในหัวขอที่ 1.2.2 แลววาลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยสามารถแสดงได ดวยพารามิเตอรที่สําคัญ 6 ชนิด คือ 1) กระแสไฟฟาลัดวงจร (Isc) 2) แรงดันไฟฟาวงจรเปด (Voc) 3) กระแสไฟฟาสูงสุด (Imax) 4) แรงดันไฟฟาสูงสุด (Vmax) 5) ฟลลแฟกเตอร (FF) และ 6) ประสิทธิภาพ (η) ในจํานวนพารามิเตอรเหลานี้ Isc และ Voc เปนพารามิเตอรที่สําคัญที่สุดในการกําหนดขีดจํากัดของ ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตย ในหัวขอนี้เราจะวิเคราะหวาขีดจํากัดของประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตย เปนอยางไรบาง 1) กระแสไฟฟาลัดวงจร การคํานวณหาคากระแสไฟฟาสูงสุดของเซลลแสงอาทิตยเปนสิ่งที่ไมยาก ในเงื่อนไขอุดมคติ เราอาจ สมมติใหวา เมื่อโฟตอนที่มีพลังงานมากกวาชองวางพลังงานของสารกึ่งตัวนําเดินทางเขาสูเซลลแสงอาทิตย โฟ ตอนทุกตัวจะสามารถกระตุนใหเกิดคูของอิเล็กตรอนและโฮล และอิเล็กตรอนทุกตัวสามารถไหลออกจากเซลล แสงอาทิตยไปสูวงจรภายนอกได การคํานวณคากระแสไฟฟาลัดวงจรเชนนี้ เราตองทราบโฟตอนฟลักซใน สเปกตรัมของแสงอาทิตย รูปที่ 1.17 และตารางที่ 1.2 แสดงสเปกตรัมและขอมูลแจกแจงความเขมของ พลังงานของแสงอาทิตยตามลําดับ จากรูปและตารางนี้ โฟตอนฟลักซคํานวณไดโดยการหารคาความเขมแสงใน ตารางดวยคาพลังงานโฟตอน (hc/λ) ณ ที่ความยาวคลื่นแสงนั้น ผลการคํานวณสเปกตรัมของโฟตอนฟลักซ ของแสงอาทิตยแสดงในรูปที่ 1.18 หนวยของโฟตอนฟลักซคือ cm-2/sec/μm จากรูปที่ 1.18 กระแสไฟฟาลัดวงจรสามารถคํานวณไดโดยการหาคาปริพันธของสเปกตรัมตั้งแต ความยาวคลื่นต่ําสุดไปจนถึงความยาวคลื่นแสงสูงสุดที่สารกึ่งตัวนําที่เราสนใจจะดูดกลืนแสงได ตัวอยางกรณี ของ Si ซึ่งมีชองวางพลังงานเทากับ 1.1 eV ดังนั้นจึงหาปริพันธจากความยาวคลื่น 1.13 μm ไปถึงประมาณ 0.2 μm รูปที่ 1.19 แสดงผลการคํานวณคากระแสไฟฟาลัดวงจรสูงสุดในอุดมคติที่สารกึ่งตัวนําจะสามารถ ผลิตได โดยที่แกนในแนวนอนคือชองวางพลังงานของสารกึ่งตัวนํา ตัวอยางในกรณีของเซลลแสงอาทิตยชนิด
1-22
Si จากรูปนี้ทําใหเราทราบวากระแสไฟฟาลัดวงจรสูงสุดมีคาประมาณ 35 mA/cm2 ที่แสงอาทิตย ความเขม
AM1.5 และถาสารกึ่งตัวนํามีชองวางพลังงานแคบ จะผลิตกระแสไฟฟาลัดวงจรไดมากขึ้น รูปที่ 1.17 สเปกตรัมแจกแจงความเขมของพลังงานของแสงอาทิตย
รูปที่ 1.18 สเปกตรัมของโฟตอนฟลักซของแสงอาทิตย
รูปที่ 1.19 ผลการคํานวณคากระแสไฟฟาลัดวงจรสูงที่สุดในอุดมคติที่สารกึ่งตัวนําจะสามารถผลิตได
1-23
ตารางที่ 1.2
ขอมูลสเปกตรัมของแสงอาทิตย ที่ Air Mass 1.5 (832 W/m2) หนวยของความเขมแสงคือ W/m2-μm
ความยาว คลื่น (μm)
ความเขม แสง
ความยาว คลื่น (μm)
ความเขม แสง
ความยาว คลื่น (μm)
ความเขม แสง
ความยาว คลื่น (μm)
ความเขม แสง
ความยาว คลื่น (μm)
0.295 0.305 0.315 0.325 0.335 0.345 0.355 0.365 0.375 0.385 0.395 0.405 0.415 0.425 0.435 0.445 0.455 0.465 0.475 0.485 0.495 0.505 0.515 0.525 0.535 0.545 0.555 0.565 0.575 0.585
0 1.32 20.96 113.48 182.23 234.43 286.01 355.88 386.80 381.78 492.18 751.72 822.45 842.26 890.55 1077.07 1162.43 1180.61 1212.72 1180.43 1253.83 1242.28 1211.01 1244.87 1299.51 1273.47 1276.14 1277.74 1292.51 1284.55
0.595 0.605 0.615 0.625 0.635 0.645 0.655 0.665 0.675 0.685 0.695 0.6983 0.700 0.710 0.720 0.7277 0.730 0.740 0.750 0.7621 0.770 0.780 0.790 0.800 0.8059 0.825 0.830 0.835 0.8465 0.860
1262.61 1261.79 1255.43 1240.19 1243.79 1233.96 1188.32 1228.40 1210.08 1200.72 1181.24 973.53 1173.31 1152.70 1133.83 974.30 1110.93 1086.44 1070.44 733.08 1036.01 1018.42 1003.58 988.11 860.28 932.74 923.87 914.95 407.11 857.46
0.870 0.875 0.8875 0.900 0.9075 0.915 0.925 0.930 0.940 0.950 0.955 0.965 0.975 0.985 1.018 1.082 1.094 1.098 1.101 1.128 1.131 1.137 1.144 1.147 1.178 1.189 1.193 1.222 1.236 1.264
843.02 835.10 817.12 807.83 793.87 778.97 217.12 163.72 249.12 231.30 255.61 279.69 529.64 496.64 585.03 486.20 448.74 486.72 500.57 100.86 116.87 108.68 155.44 139.19 374.29 383.37 424.85 382.57 383.81 323.88
1.276 1.288 1.314 1.335 1.384 1.432 1.457 1.472 1.542 1.572 1.599 1.608 1.626 1.644 1.650 1.676 1.732 1.782 1.862 1.955 2.008 2.014 2.057 2.124 2.156 2.201 2.266 2.320 2.338 2.356
344.11 345.69 284.24 175.28 2.42 30.06 67.14 59.89 240.85 226.14 220.46 211.76 211.26 201.85 199.68 180.50 161.59 136.65 2.01 39.43 72.58 80.01 72.57 70.29 64.76 68.29 62.52 57.03 53.57 50.01
2.388 2.415 2.453 2.494 2.537
1-24
ความเขม แสง 31.93 28.10 24.96 15.82 2.59
2) แรงดันไฟฟาวงจรเปด ขอจํากัดพื้นฐานที่เปนตัวกําหนดคาสูงสุดของแรงดันไฟฟาวงจรเปด Voc ยังไมเปนที่ทราบชัดเจน อยางไรก็ตาม จากสมการที่ (1.35) เราเคยทราบแลววา แรงดันไฟฟาวงจรเปด Voc มีคาเทากับ Vo c
=
⎞ ⎛I sc ln ⎜⎜ + 1⎟⎟ q ⎠ ⎝ I0
kT
(1.55)
โดยที่ I0 คือกระแสไฟฟายอนอิ่มตัว และมีคาเทากับ
I0
=
2 ⎛ D n2 D p ni n i ⎜ qA + ⎜L N ⎝ n A Lp N D
⎞ ⎟ ⎟ ⎠
(1.56)
I0
ควรมีคาต่ําที่สุดจึงจะทําใหได Voc สูงสุด ในกรณีของเซลลแสงอาทิตยชนิด Si ผลการคํานวณคา สูงสุดของ Voc ไดผลประมาณ 700 mV และคาสูงสุดของฟลลแฟกเตอรไดประมาณ 0.84 ในสมการที่ (1.56) พาราเตอรที่สําคัญอีกตัวหนึ่งคือ ความหนาแนนของพาหะ (ni ) ในกรณีของสาร กึ่งตัวนําชนิดบริสุทธิ์ ni มีคาเทากับ 2
ni
=
⎛ Eg ⎞ ⎟ N C N V exp ⎜ − ⎝ kT⎠
(1.57)
จากสมการที่ (1.56) ผลการคํานวณความสัมพันธระหวาง I0 และ ชองวางพลังงาน Eg ที่พอจะเปนที่ ยอมรับกันมีคาดังนี้ [11] I0
⎛ Eg ⎞ 5 ⎟ = 15 . × 10 exp ⎜ − ⎝ kT⎠
A / cm
2
(1.58)
สมการที่ (1.55) และ (1.58) ชี้ใหเราทราบวาถาชองวางพลังงานมีคามาก จะทําให Voc มีคามาก ดวย ซึ่งผลการวิเคราะหนี้เปนสิ่งที่ตรงขามกับกรณีของ Isc (ถาชองวางพลังงานมีคามาก จะทําให Isc มีคา ลดลง) ผลการคํานวณความสัมพันธระหวางประสิทธิภาพสูงสุดของเซลลแสงอาทิตยและชองวางพลังงานของ สารกึ่งตัวนําชนิดตางๆ แสดงในรูปที่ 1.20 จากรูปนี้เราไดขอมูลวา ที่แสงอาทิตย AM1.5 ประสิทธิภาพที่สูงที่สุดมีคา 29% จะไดจากสารกึ่งตัวนําที่มีชองวางพลังงาน ประมาณ 1.4 eV ถึง 1.6 eV ที่แสงอาทิตย AM0 ประสิทธิภาพที่สูงที่สุดมีคา 26% จะไดจากสารกึ่งตัวนําที่มีชองวางพลังงาน ประมาณ 1.4 eV ถึง 1.6 eV สารกึ่งตัวนําที่มีชองวางพลังงานในชวงนี้ไดแก GaAs แมวาชองวางพลังงานของ Si จะมีคาเพียง 1.1 eV แตประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิด Si ที่ประดิษฐแลวในหองปฏิบัติการวิจัยมีคาสูงถึง 23% ซึ่ง เขาใกลคาในอุดมคติเขาไปเรื่อยๆ แลว [12] เหตุผลหนึ่งที่มีสวนทําใหประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยมีคานอยไดแก การที่เมื่อเกิดการ ดูดกลืนโฟตอนที่มีพลังงานโฟตอนมากกวาชองวางงาน คูของอิเล็กตรอนและโฮลที่ถูกกระตุนดวยพลังงานโฟ ตอนสูง
1-25
รูปที่ 1.20
รูปที่ 1.21
ผลการคํานวณความสัมพันธระหวางประสิทธิภาพสูงสุดของเซลลแสงอาทิตยและ ชองวางพลังงานของสารกึ่งตัวนําชนิดตางๆ
การผอนคลายพลังงานความรอนของอิเล็กตรอนและโฮลในกรณีที่ดูดกลืนพลังงานแสง ที่มีพลังงานโฟตอนมากกวาชองวางพลังงานมาก
เชนนี้ จะมีระดับพลังงานที่สูงกวาขอบของแถบคอนดักชันและแถบเวเลนซมาก อิเล็กตรอนและโฮลจะผอน คลายพลังงานใหโฟนอนในรูปของความรอน และอิเล็กตรอนจะตกลงมาอยูที่ขอบของแถบพลังงานดังกลาว ดังแสดงในรูปที่ 1.21 และไมไดมีสวนรวมในการผลิตกระแสไฟฟา ปรากฏการณการผอนคลายโฟนอนนี้มี สวนในการจํากัดประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยไวถึง 44% [13] นอกจากนี้ แฟกเตอรอีกตัวหนึ่งที่กําหนดขีดจํากัดของประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยไดแก แมวาอิเล็กตรอนจะถูกแสงกระตุนใหกระโดดขามชองวางพลังงานไปไดก็ตาม แตรอยตอ p-n นั้นจะให แรงดันไฟฟาที่มีคานอยกวาชองวางพลังงานมาก เชน กรณีของ Si อัตราสวนระหวาง Voc/Eg มีคาเทากับ 0.7/1.1 = 60% เทานั้น 3) อิทธิพลของอุณหภูมิ
1-26
เซลลแสงอาทิตยที่เรานําไปวางรับแสงอาทิตยไวตลอดทั้งวันนั้น จะไดรับอิทธิพลจากแสงอาทิตยทํา ใหอุณหภูมิสูงขึ้นมาก และการใชงานนั้น บางครั้งอาจตองไปติดตั้งในบริเวณที่สภาพแวดลอมมีอุณหภูมิต่ํา มาก เชน บริเวณที่มีหิมะ หรือบริเวณที่มีอุณหภูมิสูงมาก เชน ในทะเลทราย อุณหภูมิมีอิทธิพลตอการทํางาน ของเซลลแสงอาทิตยมาก ซึ่งผูใชงานควรจะทราบดังตอไปนี้ เมื่ออุณหภูมิของเซลลแสงอาทิตยสูงขึ้น จะทําให 1. กระแสไฟฟาลัดวงจรจะสูงขึ้น แตเพิ่มไมมากนัก 2. แรงดันไฟฟาวงจรเปดและฟลลแฟกเตอรจะลดลง ความสัมพันธระหวางกระแสไฟฟาลัดวงจรและแรงดันไฟฟาวงจรเปดคือ =
I sc
⎞ ⎛ qV / kT I 0 ⎝ e oc − 1⎠
(1.59)
ถาเราไมพิจารณาพจนที่มีคานอย เราจะไดคาใกลเคียงของ Isc วา =
I sc
โดยที่
A Eg0
γ
−E
γ
AT e
g0
/ kT
e
qV / kT oc
(1.60)
: พจนที่ไมขึ้นกับอุณหภูมิ : ชองวางพลังงานของสารกึ่งตัวนําที่อุณหภูมิศูนยองศาสัมบูรณ : พจนท่ขี ึ้นกับอุณหภูมิและเปนพจนที่มีอิทธิพลตอ I0 และมีคาประมาณ 1-4
ผลการหาอนุพันธของสมการที่ (1.60) คือ d I sc dT AγT
=
γ −1 q (Voc −V g 0 ) k T
e
⎛ q ⎞ ⎡ d Vo c ⎛ V o c − V g 0 ⎟⎢ −⎜ + AT ⎜ T ⎝ k T ⎠ ⎢⎣ d T ⎝ γ
⎞⎤ q⎛⎜⎝Vo c −Vg 0 ⎞⎟⎠ ⎟⎥ e ⎠⎥⎦
(1.61) kT
เนื่องจากพจน dI sc / dT มีคานอยมาก ดังนั้นจากสมการที่ (1.61) จึงไดความสัมพันธวา d Vo c V g 0 − Vo c + γ ( kT / q ) dT
=
−
สมการที่ (1.62) นี้บอกใหเราทราบวา นั่นคือ ถาอุณหภูมิสูงขึ้น Voc จะลดลง
T
Voc
แปรผกผันกับอุณหภูมิในลักษณะคอนขางเปนเชิงเสน
ตัวอยางที่ 4 จงคํานวณอัตราการลดลงของคาแรงดันไฟฟาวงจรเปด เมื่ออุณหภูมิสูงขึ้น 1 องศา กําหนดให Voc = 0.6V, γ = 3 ที่ 300 K วิธีทํา
Voc
ของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึก Si
จากสมการที่ (1.62) d Vo c dT
= −
1.2 − 0.6 + 0.078 300
(1.62)
V /° C
1-27
=
− 2.3 mV / ° C
ผลการคํานวณนี้ไดผลใกลเคียงผลการทดลองพอสมควร ทําใหเราทราบวาในกรณีเซลลแสงอาทิตย ชนิด Si Voc จะลดลงดวยอัตราประมาณ 0.4% เมื่ออุณหภูมิสูงขึ้น 1°C เนื่องจากฟลลแฟกเตอร FF เปนฟงกชันของ Voc ดังนั้นฟลลแฟกเตอรจึงลดลงดวย เมื่ออุณหภูมิ สูงขึ้น จากการวิเคราะหขางตน สรุปไดวาการขึ้นกับอุณหภูมิของ Voc เปนสาเหตุหนึ่งที่ทําใหประสิทธิภาพ ของเซลลแสงอาทิตยลดลงเมื่ออุณหภูมิสูงขึ้น ตัวอยางในกรณีของเซลลแสงอาทิตยชนิด Si ประสิทธิภาพจะ ลดลงประมาณ 0.4-0.5% เมื่ออุณหภูมิสูงขึ้น 1 °C 1.3.5 การสูญเสียในเซลลแสงอาทิตย ในหัวขอกอนหนานี้ ไดกลาวถึงขีดจํากัดของประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยแลววาควรมีคาเทาไร แตอยางไรก็ตาม ในทางความเปนจริง จะมีแฟกเตอรอื่นๆ อีกมากมายที่เปนสาเหตุทําใหประสิทธิภาพของ เซลลแสงอาทิตยลดลงไปจากคาในอุดมคติ ดังจะไดกลาวตอไปนี้ 1) การสูญเสียกระแสไฟฟาลัดวงจร การสูญเสียกระแสไฟฟาลัดวงจรมีสาเหตุดังตอไปนี้ 1. การสะทอนแสงที่ผิวของเซลลแสงอาทิตย เนื่องจากผิวที่รับแสงของสารกึ่งตัวนํานั้น โดยทั่วไปมีคา สัมประสิทธิ์การสะทอนแสงที่สูงมาก ดังนั้นโฟตอนจํานวนมากจึงถูกสะทอนกลับ โดยไมไดเดินทางเขาไปใน สารกึ่งตัวนํา วิธีการลดการสะทอนแสงวิธีหนึ่ง ไดแกการเคลือบฟลมปองกันการสะทอนแสง เชน SiO2 และ Si3N4 2. การสรางขั้วไฟฟาบนผิวดานรับแสง เชน การเคลือบขั้ว Al เปนลายเสนดานผิวรับแสง ทําใหเกิด การบังแสง พื้นที่ที่บังแสงมีประมาณ 5-15% ของพื้นที่ทั้งหมด
รูปที่ 1.22
ผลการคํานวณความสัมพันธระหวางกระแสไฟฟาลัดวงจรสูงสุดและความหนาของ สารกึ่งตัวนําชนิด GaAs และ Si ที่ใชผลิตเปนเซลลแสงอาทิตย
3. โฟตอนบางตัวไมถูกดูดกลืน แตสามารถเดินทางทะลุสารกึ่งตัวนําออกไปทางดานหลังของ เซลล แสงอาทิตย ทั้งนี้เพราะสัมประสิทธิ์การดูดกลืนแสงมีคาไมมาก วิธีการแกไขคือ การใชผลึกที่มีความหนาที่ เพียงพอ สารกึ่งตัวนําที่มีชองวางพลังงานชนิดไมตรงตองใชความหนามากกวาสารกึ่งตัวนําที่มีชองวางพลังงาน
1-28
ชนิดตรง รูปที่ 1.22 แสดงผลการคํานวณความสัมพันธระหวางกระแสไฟฟาลัดวงจรและความหนาของสารกึ่ง ตัวนําชนิด GaAs และ Si ที่ใชผลิตเปนเซลลแสงอาทิตย 4. มีการสูญเสียเนื่องจากอิเล็กตรอนและโฮลรวมตัวกันกอนที่จะออกสูภายนอกเซลลแสงอาทิตย การ รวมตัวเกิดขึ้นมากที่บริเวณผิวของสารกึ่งตัวนําและในชั้นที่ไมมีสนามไฟฟาภายใน ปกติพาหะโฟโตที่สามารถ เดินทางออกสูภายนอกไดดีไดแกพาหะโฟโตที่เกิดขึ้นในยานปลอดพาหะซึ่งมีศักยไฟฟาภายใน (built-in potential) ชวยพัดพาใหพาหะโฟโตไหลดวยสนามไฟฟา 2) การสูญเสียแรงดันไฟฟาวงจรเปด กระบวนการที่เปนตัวกําหนดการสูญเสียของ Voc โดยพื้นฐานไดแก กระบวนการรวมตัวของพาหะใน สารกึ่งตัวนํา การรวมตัวของพาหะทําใหกระแสไฟฟายอนอิ่มตัวเพิ่มขึ้นดังที่แสดงในสมการที่ (1.55) การรวมตัวอาจเกิดขึ้นไดทั้งภายในสารกึ่งตัวนําและที่ผิวของสารกึ่งตัวนํา ระดับแทร็ป (trap levels) ในยานปลอดพาหะมีอิทธิพลมากตอการรวมตัวของพาหะ อัตราการรวมตัวของพาหะที่ระดับแทร็ปแสดงไดดวย สมการ 2
np − ni
=
U
τ h 0 ( n + n1 ) + τ e 0 ( p + p1 )
(1.63)
การรวมตัวที่ระดับแทร็ปในยานปลอดพาหะ จะทําใหกระแสไฟฟามืดมีคามากขึ้นตามสมการดังนี้ [14]
(
=
I
I0 e
qV k T
)
(
− 1 + IW e
qV 2 kT
)
−1
(1.64)
โดยที่ IW มีคาเทากับ IW
โดยที่
ξmax
=
q Ani π
kT
2 τ e0τ h 0 q ξ max
(1.65)
คือสนามไฟฟาสูงสุดในรอยตอ p-n [15]
รูปที่ 1.23 แสดงความสัมพันธระหวางกระแสไฟฟามืดและแรงดันไฟฟาของรอยตอ p-n โดยการ พิจารณากรณีมีการรวมตัวของพาหะในชั้นปลอดพาหะ พจนที่สองในสมการที่ (1.64) จะมีอิทธิพลมากใน ขณะที่กระแสไฟฟามีคานอย (ทําให n=2) และพจนที่หนึ่งในสมการที่ (1.64) จะมีอิทธิพลมากในขณะที่ กระแสไฟฟามีคามาก (ทําให n=1) เพื่อความสะดวก เราอาจจะเขียนสมการที่ (1.64) ใหอยูในรูปที่งายวา I
=
I0 ⎛ e ⎝ '
qV n k T
โดยที่ แฟกเตอร n มีคาอยูระหวาง 1-2
1-29
− 1⎞ ⎠
(1.66)
รูปที่ 1.23
ความสัมพันธระหวางกระแสไฟฟามืดและแรงดันไฟฟาของรอยตอ p-n โดยพิจารณา กรณีมีการรวมตัวของพาหะในชั้นปลอดพาหะ
จากการที่กระแสไฟฟามืดมีคาเพิ่มขึ้นเนื่องจากการรวมของพาหะดังกลาว จึงทําให Voc มีคาลดลง 3) การสูญเสียฟลลแฟกเตอร การสูญเสียฟลลแฟกเตอรมีสาเหตุหลายขอดังตอไปนี้ 3.1 เกิดจากคาแฟกเตอร n และ Voc รูปที่ 1.24 แสดงความสัมพันธระหวางฟลลแฟกเตอรและแรงดันไฟฟาวงจรเปด จะเห็นไดวาถา แรงดันไฟฟาวงจรเปดลดลง ก็จะทําใหฟลลแฟกเตอรลดลงดวย และจากการที่เราไดวิเคราะหมาแลวในหัวขอ ที่ 2) วาถาแฟกเตอร n เพิ่มขึ้น ก็จะทําให Voc ลดลง ดังนั้นคาฟลลแฟกเตอรในรูปที่ 1.24 ก็จะตองลดลง ดวยถา n มีคาเพิ่มขึ้น ถาเราใหนิยามวา voc = Voc /(nkT/q) ดังนั้นเราจะสามารถเขียนสมการของฟลลแฟกเตอรใหอยูใน รูปทั่วไปไดวา
FF
=
(
v oc − ln v oc + 0.72 v oc + 1
)
(1.67)
3.2 เกิดจากคาความตานทานอนุกรมและความตานทานชันต เซลลแสงอาทิตยที่ดีควรมีความตานทานอนุกรม (series resistance) Rs นอยที่สุด แตในทางปฏิบัติ ความตานทานอนุกรมนี้อาจเกิดขึ้นไดจากหลายสาเหตุ เชน ความตานทานอนุกรมของเนื้อสารกึ่งตัวนํา ความ ตานของรอยตอ p-n ความตานทานของขั้วไฟฟา ความตานทานที่รอยตอของสารกึ่งตัวนําและขั้วไฟฟา เปน ตน
1-30
รูปที่ 1.24 ความสัมพันธระหวางฟลลแฟกเตอรและแรงดันไฟฟาวงจรเปด
รูปที่ 1.25 (ก)
อิทธิพลของความตานทานอนุกรม และ (ข) อิทธิพลของความตานทานชันต ที่มีตอลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตย
เซลลแสงอาทิตยที่ดีควรมีความตานทานชันต (shunt resistance) Rsh มากที่สุด แตในทางปฏิบัติ ความตานทานชันตนี้อาจมีคาลดลง อันเนื่องจากการเกิดรั่วของกระแสไฟฟาที่ขอบของเซลลแสงอาทิตย หรือ เกิดจากความไมสมบูรณของผลึก รูปที่ 1.25 (ก) และ (ข) แสดงอิทธิพลของความตานทานอนุกรมและอิทธิพลของความตานทานชันต ตามลําดับที่มีตอลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตย
1.4 การออกแบบเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอน ในหัวขอที่ 1.3 ไดกลาวถึงหลักการทํางานพื้นฐานของเซลลแสงอาทิตยแลว ในหัวขอนี้จะกลาวถึงการ ออกแบบเซลลแสงอาทิตยวาควรใหมีพารามิเตอรดานโครงสรางเปนอยางไรบาง ควรโดปสารเจือปนในชั้น n
1-31
และชั้น p ดวยความหนาแนนเทาไร รอยตอ p-n ควรอยูลึกเทาไร ขั้วไฟฟาดานบนที่รับแสงควรออกแบบ อยางไร ชั้นปองกันการสะทอนแสงควรหนาเทาไรและมีดัชนีหักเหเทาไร
1.4.1 ความลึกของรอยตอ p-n โดยทั่วไป การรวมตัวของพาหะโฟโต (recombination of photocarriers) ที่บริเวณผิวหนาของ เซลล แสงอาทิตยมักจะเกิดขึ้นไดงายและมีอัตราการรวมตัวที่สูง (high recombination surface velocity) และการ รวมตัวของพาหะที่รอยตอของสารกึ่งตัวนําและขั้วไฟฟาก็มีอัตราการรวมตัวที่สูงเชนกัน วิธีการลดอัตราการ รวมตัวที่ผิวดังกลาวที่ใชไดผลวิธีหนึ่งไดแก การเพิ่มชั้น back surface field (BSF) ขึ้นที่ดานหลังของ เซลล แสงอาทิตย ชั้น BSF นี้เปนชั้นที่โดปดวยความหนาแนนสูง ดังนั้นเซลลแสงอาทิตยจึงมีรอยตอ n-p-p+ แทน การใชรอยตอ n-p ความนาจะเปนของการรวบรวมพาหะที่เกิดจากแสงในเซลลแสงอาทิตย (collection probability) นอกจากจะเปนฟงกชันของระยะทางจากผิวของเซลลแสงอาทิตยดวยดังแสดงในรูปที่ 1.26 แลว ความนาจะ เปนของการรวบรวมพาหะโฟโตมีคาสูงสุดที่บริเวณยานปลอดพาหะซึ่งอยูตรงกลางของรอยตอ p-n และลดลง เมื่อหางออกไป ความนาจะเปนของการรวบรวมพาหะโฟโตที่ผิวหนาดาน n มีคานอย เราสามารถปรับปรุงให ความนาจะเปนของการรวบรวมพาหะโฟโตดานชั้น p มีคาสูงขึ้นดวยการโดปดานหลังสุดใหความหนาแนนของ แอกเซ็ปเตอร (p+) มีคามากดังที่แสดงในรูป (ก) วิธีนี้จะสงผลใหกระแสไฟฟาลัดวงจรเพิ่มขึ้นดวย เมื่อเราพิจารณาอัตราการผลิตพาหะโฟโตดวยแสง เราพบวาอัตราการผลิตพาหะโฟโตดวยแสงจะมี คาสูงสุดที่ผิวดานรับแสงและจะลดลงแบบเอกซโพเนเชียลตามระยะทางความลึกดังแสดงในรูปที่ 1.26 (ข) ตามสมการ G( x)
โดยที่
x
α N R
: : : :
= ( 1 − R ) αNe −αx
(1.68)
ระยะทางจากผิวรับแสง สัมประสิทธิ์การดูดกลืนแสง โฟตอนฟลักซที่ตกกระทบเซลลแสงอาทิตย สัมประสิทธิ์การสะทอนแสง
รูปที่ 1.26 (ก) การเปลี่ยนแปลงของความนาจะเปนของการรวบรวมพาหะเมื่อเทียบกับความลึก และ (ข) การเปลี่ยนแปลงของอัตราการผลิตพาหะเมื่อเทียบกับความลึกของเซลลแสงอาทิตย
1-32
ดังนั้นภายใตแสงอาทิตย ผลรวมของอัตราการผลิตพาหะโฟโตที่ความยาวคลื่นทั้งหมด คือ G( x)
=
∫ 0max [1 − R( λ) ] α ( λ) N ' ( λ) e λ
−α ( λ ) x
dλ
(1.69)
โดยที่ N′ (λ) : โฟตอนฟลักซตอหนวยความยาวคลื่นแสง ตัวอยางผลการคํานวณสมการนี้แสดงในรูปที่ 1.26 (ข) ถาเราเปรียบเทียบรูป (ก) (ข) เราจะพบวาที่ ผิวรับแสงนั้น ความนาจะเปนของการรวบรวมพาหะโฟโตมีคานอยมาก ในขณะที่อัตราการผลิตโฟโตมีคาสูงสุด ดังนั้นจากการวิเคราะหดังกลาว เราจึงไดแนวทางวา “รอยตอ p-n ควรมีอยูในตําแหนงที่ตื้นดานรับแสงมาก ที่สุด”
1.4.2 ความตานทานในแนวระนาบของชั้นดานบนที่รับแสง โดยทั่วไป กระแสไฟฟาในเซลลแสงอาทิตยไหลในแนวตั้งฉากกับผิวของเซลล ดังแสดงในรูปที่ 1.27 (ก) แตเนื่องจากที่ดานผิวรับแสง เราออกแบบใหขั้วไฟฟาเปนรูปกริดอยูหางกันและปกคลุมผิวเพียงบางพื้นที่ เพราะฉะนั้นจะมีกระแสไฟฟาที่ไหลในแนวระนาบกับแผนเซลลดวย ถาความหนาแนนของการโดปชั้น n สม่ําเสมอตลอดความลึก สภาพตานทานของชั้น n จะมีคาเทากับ ρ =
1 q μe N D
(1.70)
รูปที่ 1.27 แบบจําลองการไหลของกระแสไฟฟาในทิศทางระนาบและตั้งฉากกับผิวของเซลลแสงอาทิตย นอกจากนี้ เรามีนิยามของคา “สภาพตานทานแผน” (sheet resistivity: ρs) ซึ่งไดจากการหารสภาพ ตานทาน ρ ดวยความหนา t ดังนี้ ρs =
1 qμ e N D t
1-33
(1.71)
ถาความหนาแนนของการโดปไมสม่ําเสมอตามความลึก ปริมาณของ หาคาปริพันธดังนี้
μe ND t
จะตองแทนคาดวยการ
t ∫ 0 μ e ( x ) N D ( x ) dx
(1.72)
หนวยของสภาพตานทานแผน คือ Ω/ (อานวา โอหมสแควร) สภาพตานทานจะเปนตัวกําหนดระยะหางของขั้วกริด การไหลของกระแสไฟฟาในแนวระนาบเปน สาเหตุของการสูญเสียกําลังไฟฟา ถาพิจารณารูปที่ 1.27 (ข) ซึ่งแสดงภาพมองจากดานบนของเซลลแสงอาทิตย จะพบวาการสูญเสียของกําลังไฟฟา dP ในระยะทาง dy สั้นๆ คือ [16] 2
dP = I dR
โดยที่
dR =
I
ρ s dy
S
b
J
: ระยะหางของขั้วกริด
: กระแสไฟฟาที่ไหลในแนวระนาบซึ่งมีคาเทากับ 0 ที่ตําแหนง S/2 และเพิ่มขึ้นเรื่อยๆ จนถึง คาสูงสุดที่ขั้วกริด I
ดังนั้น โดยที่
(1.73)
=
Jby
(1.74)
: ความหนาแนนของกระแสไฟฟาเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตย (A/cm2)
ดังนั้น การสูญเสียกําลังไฟฟาทั้งหมดจึงไดจากการหาคาปริพันธของสมการที่ (1.73) ดังนี้ Ploss
=
∫ I 2 dR
=
∫0
s/ 2
J b y ρ s dy 2 2
2
b
J bρ s S 2
=
3
24
(1.75)
ถาให Pmax, Imax และ Vmax คือกําลังไฟฟาเอาตพุตสูงสุด กระแสไฟฟาเอาตพุตสูงสุด และ แรงดันไฟฟาเอาตพุตสูงสุดตามลําดับ ดังนั้นกําลังไฟฟาที่ผลิตไดในพื้นที่ระหวางขั้วกริด คือ Vmax JmaxbS/2 และอัตราสวนของกําลังไฟฟาสูญเสียตอกําลังไฟฟาสูงสุดคือ p =
Ploss Pmax
ρ s S J max 2
=
12V max
(1.76)
จากสมการที่ (1.76) ถาเรากําหนดพารามิเตอรตางๆ เชน คารอยละของการสูญเสียกําลังไฟฟา เราก็ จะทราบวาระยะหางของขั้วกริดควรเปนเทาไร ในวงการอุตสาหกรรมเซลลแสงอาทิตยชนิด Si นิยมผลิตใหขั้วก ริดหางกันประมาณ 4 มิลลิเมตร และโดปชั้น n ดวยความหนาแนนมากที่สุดและสรางชั้น n ใหบางที่สุด
ตัวอยางที่ 5 จงคํานวณวาจะตองออกแบบใหระยะหาง S ของขั้วกริดดานรับแสงของเซลลแสงอาทิตยมีคากี่ มิลลิเมตร โดยกําหนดพารามิเตอรดังนี้ ρs = 40 Ω/ 4%
, Jmax
1-34
= 30 mA/cm2, Vmax = 450 mV,
loss <
วิธีทํา จากสมการที่ (1.76) ∴S
S
2
<
12 pV max
ρ s J max
⎛ 12 × 0.04 × 0.45 ⎞ < ⎜ ⎟ ⎝ 40 × 0.03 ⎠
1
2
cm < 4 mm
1.4.3 ความหนาแนนของการโดปแผนฐาน โดยทั่วไป แผนฐานที่นํามาใชผลิตเปนเซลลแสงอาทิตยมีความหนาประมาณ 200~400 μm ซึ่งได จากการตัด (slicing) แทงผลึก การโดปแผนฐานจะถูกกําหนดตั้งแตขั้นตอนการดึงผลึก ในหัวขอนี้เราจะ พิจารณาวา ความหนาแนนของการโดปแผนฐานควรมีคาเทาไร เมื่อเรากําหนดคาความลึกของรอยตอ p-n แลว คาระยะทางแพรซึมของพาหะขางนอย (diffusion length of minority carriers) ในแผนฐานจะเปนพารามิเตอรที่สําคัญในการกําหนดคากระแสไฟฟาเอาตพุต ลัดวงจร Isc คาระยะทางแพรซึมมีคาพื้นฐานตามสูตร Ln = Dnτ n คาระยะทางแพรซึมนี้ไดรับอิทธิพลจาก กลไกการรวมตัวของพาหะ 3 ชนิดดวยกัน ตัวอยางเชน ถาเราเพิ่มปริมาณการโดปสารเจือปนจะทําใหเวลาอายุ ของพาหะลดลง ตัวอยางความสัมพันธระหวางความหนาแนนของการโดปสารเจือปนและเวลาอายุของพาหะ ขางนอยแสดงในรูปที่ 1.28 เวลาอายุของพาหะดังกลาวจะยาวนานหรือสั้น จะถูกกําหนดดวยกลไกการ รวมตัวของพาหะ กลไกการรวมตัวของพาหะที่สําคัญมี 3 ชนิดดังนี้ 1. การรวมตัวของพาหะที่ระดับแทร็ป (Recombination at Trap Centers) เวลาอายุของพาหะที่ถูกกําหนดดวยการรวมตัวที่ระดับแทร็ป คือ τ nT
⎛ m1 ⎞ = τ n 0 ⎜1 + ⎟ ⎝ NA ⎠
(1.77)
รูปที่ 1.28 ความสัมพันธระหวางความหนาแนนของการโดปสารเจือปนและเวลาอายุของพาหะขางนอย
1-35
2. การรวมตัวแบบ Auger (Auger Recombination) เวลาอายุของพาหะที่ถูกกําหนดดวยการรวมตัวแบบ Auger คือ 1
τ nA =
(1.78)
2
DN A
3. การรวมตัวชนิดเปลงแสง (Radiative Recombination) เวลาอายุของพาหะที่ถูกกําหนดดวยการรวมตัวชนิดเปลงแสง คือ τ nR
1
=
(1.79)
2 BN A
ดังนั้นถาการรวมตัวของพาหะมีสาเหตุจากกลไกหลายๆ ชนิดจะทําใหเวลาอายุของพาหะมีคาเทากับ 1
τn
=
1
τ nT
+
1
τ nA
+
1
τ nR
(1.80)
จากขอมูลทั้ง 3 สมการนี้ ทําใหเราทราบวา ถาเพิ่มความหนาแนนของการโดปแอกเซ็ปเตอร จะทําให เวลาอายุของพาหะขางนอย (อิเล็กตรอน) ลดลง นั่นคือ จะทําใหกระแสไฟฟาเอาตพุตลัดวงจร Isc ลดลงดวย
รูปที่ 1.29
ลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยที่ประดิษฐโดยเปลี่ยนความหนาแนนของ แอกเซ็ปเตอร โดยที่ (ก) เปนกรณีไมมีชั้น BSF และ (ข) เปนกรณีมีชั้น BSF [16]
1-36
ในขณะเดียวกัน กระแสไฟฟายอนอิ่มตัว I0 แปรผกผันกับความหนาแนนของการโดปตามสมการ I0
=
⎛ D n2 D p ni2 n i ⎜ qA ⎜ + ⎝ Ln N A L p N D
⎞ ⎟⎟ ⎠
(1.81)
เราเคยทราบจากสมการที่ (1.55) แลววา ถา I0 ลดลง จะทําใหแรงดันไฟฟาเอาตพุตวงจรเปด Voc เพิ่มขึ้น ดังนั้นการเพิ่มความหนาแนนของการโดปแอกเซ็ปเตอร NA และโดเนอร ND จะทําให Voc เพิ่มขึ้น ถาเราใชสารกึ่งตัวนําชนิด p เปนแผนฐาน ปกติเราจะโดปชั้น n ดวย ND ที่ความหนาแนนสูงมากเพื่อลดสภาพ ตานทานแผน ดังนั้นพจนที่สองในสมการที่ (1.81) จึงมีคานอย ดังนั้นจากสมการที่ (1.81) นี้ เราจึงสรุปได วา Voc จะเพิ่มขึ้นถาเราเพิ่มความหนาแนนของ NA จากที่เราไดวิเคราะหมานี้ เราไดพบวา Isc และ Voc ไดรับอิทธิพลจาก NA ในลักษณะที่ตรงขามกัน กลาวคือ เมื่อเพิ่ม NA จะทําให Voc เพิ่มขึ้น แตจะทําให Isc ลดลง รูปที่ 1.29 แสดงตัวอยางลักษณะสมบัติ เอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยที่ประดิษฐโดยเปลี่ยนความหนาแนนของแอกเซ็ปเตอร โดยที่รูป (ก) เปนกรณี ไมมีชั้น BSF และรูป (ข) เปนกรณีมีชั้น BSF [16] จากรูปนี้เราไดขอมูลที่สําคัญวา ประสิทธิภาพของเซลล แสงอาทิตยจะมีคาสูงสุดที่ความหนาแนนของแอกเซ็ปเตอรที่เหมาะสมคาๆ หนึ่ง
1.4.4 การสรางสนามไฟฟาที่ดานหลังของเซลลแสงอาทิตย (Back Surface Field) ไดกลาวมาแลววา การโดปใหดานหลังสุดของเซลลแสงอาทิตยมีความหนาแนนสูง จะสงผลชวยทํา ใหกระแสไฟฟาลัดวงจรและแรงดันไฟฟาวงจรไฟฟาเปดมีคาเพิ่มขึ้น กระแสไฟฟาลัดวงจรเพิ่มขึ้นเพราะวา ประสิทธิภาพของการรวบรวมพาหะที่ดานหลังของเซลลดีขึ้น และแรงดันไฟฟาวงจรเปดเพิ่มขึ้นเพราะวา กระแสไฟฟายอนอิ่มตัวลดลงนั่นเอง กระแสไฟฟายอนอิ่มตัวในเซลลแสงอาทิตยที่มีชั้น BSF นี้มีคาดังนี้ [17] 2
I0 p
=
qDe ni
Le N A
⎛W ⎞ p ⎟⎟ tanh ⎜⎜ L ⎝ e⎠
(1.82)
ถาความหนาของแผนฐานชนิด p มีคานอยกวาระยะทางแพรซึมของอิเล็กตรอน (Wp<<Le) จะทําให สมการที่ (1.82) มีรูปที่งายขึ้นดังนี้ 2
I op
=
qni Wp
τeNA
(1.83)
เนื่องจากการลดความหนาแนนของ NA ทําให τe เพิ่มขึ้น ดังนั้นในกรณีของเซลลแสงอาทิตยที่มี ชั้น BSF แรงดันไฟฟาวงจรเปด Voc จึงไมคอยไดรับอิทธิพลจาก NA มากนักซึ่งแนวโนมเชนนี้จะสังเกตไดใน รูปที่ 1.29 (ข)
1.4.5 อิทธิพลของชั้นดานบน
1-37
1) ชั้นตาย (Dead Layer) ไดกลาวในหัวขอที่ 1.4.3 แลววาอัตราการรวมตัวของพาหะที่ผิวดานรับแสงมีคาสูง ดังนั้นในการ ออกแบบเซลลแสงอาทิตย จึงพยายามใหชั้น n ที่รับแสงมีความบางที่สุด และขณะเดียวกันก็โดปชั้น n ดวย ความหนาแนนที่สูงๆ เพื่อมิใหสภาพตานทานแผนของชั้น n มีคาสูง ในชวง ค.ศ. 1960 ความหนาของชั้น n ในเซลลแสงอาทิตยที่ใชงานในอวกาศมีเพียงประมาณ 0.5 μm เทานั้น การออกแบบเชนนี้ มิไดมีเพียงแต ขอดี แตความจริงแลวมีขอเสียอยูดวยดังจะกลาวตอไปนี้ ในทางทฤษฎี การโดปสารเจือปนดวยกระบวนการแพรซึมดวยความรอนสูง ตัวอยางเชน การโดป ฟอสฟอรัส P เขาสูผลึก Si นั้น จะสงผลใหความหนาแนนของ P เปลี่ยนแปลงแบบฟงกชันเกาสเชียน (Gaussian) ตามความลึก [18] รูปที่ 1.30 (ก) แสดงผลการวัดความสัมพันธระหวางความหนาแนนของแอก เซ็ปเตอรที่แอกทิฟใน Si และความลึก โดยที่พารามิเตอรคือเวลาที่ใชในการแพรซึม ทั้งนี้ไดกําหนดให อุณหภูมิของการแพรซึมคงที่ตลอดทุกการทดลอง [19] รูปที่ 1.30 (ข) แสดงการเปลี่ยนแปลงของความนาจะ เปนของการรวบรวมพาหะและความลึก จากผลการทดลองพบวาการแพรซึมอะตอม P เขาสู Si ดวย
รูปที่ 1.30 (ก) ผลการวัดความสัมพันธระหวางความหนาแนนของแอกเซ็ปเตอรที่แอกทิฟใน Si และ ความลึก พารามิเตอรในรูปคือเวลาที่ใชในการแพรซึม (ข) การเปลี่ยนแปลงความนาจะเปนของการรวบรวมพาหะตามความลึก [19] ความหนาแนนสูงเกินไปนั้น จริงๆ แลวอะตอม P มิไดเขาไปใน Si ในฐานะสารเจือปนชนิดแอกเซ็ปเตอรหมด ทุกตัว แตอะตอม P สวนเกินบางตัวจะเขาสู Si ในฐานะอะตอมอัลลอย และอะตอมสวนเกินเหลานี้จะทําให เวลาอายุของพาหะขางนอย (อิเล็กตรอน) ลดลง ในเซลลแสงอาทิตย อะตอมฟอสฟอรัส P สวนเกินเหลานั้นสวนมากจะสะสมอยูที่บริเวณใกลผิวหนา ดานรับแสง เราเรียกบริเวณชั้นที่มีฟอสฟอรัสสะสมอยูมากเกินความจําเปนเชนนี้วา “ชั้นตาย” (dead layer) เหตุผลที่เรียกเชนนี้ เพราะวาในชั้นตายนั้น เวลาอายุของพาหะขางนอยมีคานอยมาก และความนาจะเปนของ การรวบรวมพาหะก็มีคานอยมาก รูปที่ 1.30 (ข) แสดงความสัมพันธระหวางความนาจะเปนของการรวบรวม พาหะขางนอยและความลึกของเซลลแสงอาทิตยเมื่อมีชั้นตายเกิดขึ้น ในรูปนี้เราจะเห็นวาความนาจะเปนของ การรวบรวมพาหะขางนอยในชั้นตายนั้นมีคานอยมาก [20]
1-38
การแกปญหาไมใหเกิดชั้นตาย อาจทําไดโดยการควบคุมมิใหความหนาแนนของการโดปมากเกินไป และพยายามทําใหรอยตอ p-n มีความตื้นมากที่สุด และออกแบบใหขั้วกริดอยูใกลกัน เปนตน อนึ่งการโดปสารเจือปนดวยความหนาแนนที่สูงเกินไป มีผลทําใหชองวางพลังงานของสารกึ่งตัวนํา ลดลงไดดวย [21]
1.4.6 การออกแบบขั้วไฟฟาดานบน การออกแบบลักษณะของขั้วไฟฟาดานที่เซลลแสงอาทิตยรับแสงมีความสําคัญมากตอประสิทธิภาพ ของเซลลแสงอาทิตย รูปที่ 1.31 แสดงตัวอยางการออกแบบขั้วไฟฟาดานรับแสงแบบตางๆ โดยทั่วไปมีกลไก หลายชนิดที่เปนสาเหตุของการเกิดการสูญเสียของกําลังไฟฟาที่บริเวณขั้วไฟฟาดานบนดังกลาว เชน 1. การสูญเสียอันเนื่องจากการไหลของกระแสไฟฟาในแนวระนาบของเซลล (ไดกลาวแลวในหัวขอที่ 1.4.2) 2. ความตานทานอนุกรมของขั้วไฟฟา 3. ความตานทานอนุกรมที่รอยตอระหวางขั้วไฟฟาและสารกึ่งตัวนํา 4. การสูญเสียอันเนื่องจากเกิดเงาบังโดยขั้วไฟฟา ในหัวขอนี้จะกลาวถึงหลักการออกแบบเบื้องตนเกี่ยวกับลักษณะของขั้วไฟฟาดานรับแสง โดยจะ ยกตัวอยางกรณีที่แผนเซลลแสงอาทิตยมีรูปเปนแผนสี่เหลี่ยมจัตุรัสหรือสี่เหลี่ยมผืนผา อยางไรก็ตามแนวทาง ในหัวขอนี้ยังสามารถประยุกตใชกับแผนเซลลที่มีรูปรางอื่นๆ ไดดวย โดยทั่วไป ขั้วไฟฟาดานรับแสง มีลักษณะเปนลวดลายเสนที่เวนชองวางไวเพื่อใหแสงสามารถกระทบ สารกึ่งตัวนําไดมากที่สุด เราแบงเสนขั้วไฟฟาออกเปน 2 ชนิดคือ 1. เสนนิ้ว หรือ เสนฟงเกอร (Fingers) ไดแก เสนที่มีขนาดเล็ก มีจํานวนมาก ทําหนารวบรวม กระแสไฟฟาเพื่อสงตอไปยังเสนบัสบาร เสนฟงเกอรนี้อาจแตกแยกเปนเสนฟงเกอรยอยๆ ไดอีก 2. เสนบัสบาร (Bus Bars) ไดแก เสนที่มีขนาดคอนขางอวน มีจํานวนไมมาก มักจะออกแบบใหตั้ง ฉากกับเสนฟงเกอร ทําหนาที่รวบรวมกระแสไฟฟาจากเสนฟงเกอรเพื่อสงตอไปยังโหลดภายนอกเซลลหรือตอ อนุกรมกับแผนเซลลขางเคียง ระยะหางของเสนฟงเกอรและเสนบัสบารแตละเสน อาจมีคาคงที่ หรือเปลี่ยนแปลเปนขั้นๆ หรือ คอยๆ เปลี่ยนก็ได
รูปที่ 1.31 ตัวอยางการออกแบบขั้วไฟฟาดานรับแสงแบบตางๆ
1-39
สมมติวาขั้วกริดมีรูปรางดังที่แสดงในรูปที่ 1.32 (ก) ถาเราพิจารณาพื้นที่เล็กๆ ที่มีความยาวเทากับ A และความกวางเทากับ B ดังที่แสดงในรูป (ข) กําลังไฟฟาสูงสุดที่จะไดจากพื้นที่เล็กๆ นี้คือ ABJmaxVmax ดังนั้นกําลังไฟฟาที่สูญเสียอันเนื่องความตานทานของเสนฟงเกอรในสภาพเชนนี้คือ [22] p rf
=
1 m
B ρ smf
J max S
2
V max WF
(1.84)
ในทํานองเดียวกัน กําลังไฟฟาสูญเสียอันเนื่องจากความตานทานของเสนบัสบารคือ p rb
โดยที่
ρsmf ρsmb m
WF , WB S
=
1 m
A Bρ smb 2
J max 1 V max WB
(1.85)
: สภาพตานทานแผน (sheet resistivity) ของเสนฟงเกอร : สภาพตานทานแผนของเสนบัสบาร : แฟกเตอรซึ่งถาขั้วกริดกวางสม่ําเสมอ จะทําให m=3 และถาขั้วกริดมีรูปแบบ ปลายแหลมคม (taper) จะทําให m=4 : ความกวางเฉลี่ยของเสนฟงเกอรและเสนบัสบารตามลําดับ : ระยะพิตชของเสนฟงเกอรตามนิยามในรูป (ข)
รูปที่ 1.32 (ก) ภาพมองจากดานบนของเซลลแสงอาทิตยซึ่งแสดงการออกแบบขั้วบัสบารและ ขั้วฟงเกอร (ข) ภาพขยายเพื่อแสดงขนาดตางๆ สําหรับใชในการคํานวณ
1-40
ทางดานกําลังไฟฟาสูญเสียอันเนื่องจากเงาของเสนฟงเกอรและเสนบัสบารคือ psf
=
WF
psb
=
WB
(1.86)
S
(1.87)
B
เนื่องจากเสนฟงเกอรมีพื้นที่สัมผัสกับสารกึ่งตัวนํานอยกวาเสนบัสบารมาก ดังนั้นกําลังไฟฟาสูญเสีย อันเนื่องจากรอยตอระหวางขั้วและสารกึ่งตัวนําจึงเกิดขึ้นที่เสนฟงเกอรเปนสวนใหญ ดังนั้นกําลังไฟฟาสูญเสีย อันเนื่องจากรอยตอระหวางเสนฟงเกอรและสารกึ่งตัวนําคือ p cf
โดยที่
J max S
ρc
=
(1.88)
V max WF
ρc : สภาพตานทานของรอยตอ
อยางไรก็ตามในกรณีเซลลแสงอาทิตยชนิด Si กําลังไฟฟาสูญเสียอันเนื่องจากรอยตอระหวางขั้วและ สารกึ่งตัวนํานี้มีคาไมมาก สาเหตุของกําลังไฟฟาสูญเสียชนิดตอไปไดแก การไหลของกระแสไฟฟาในแนวระนาบของแผนเซลล ซึ่งมีคาเทากับ (จากสมการที่ (1.76)) p tl
โดยที่
=
ρ s J max 12 V max
S
2
(1.89)
ρs : สภาพตานทานแผนของชั้นสารกึ่งตัวนําดานบน
H.B. Serreze ไดวิเคราะหวากําลังไฟฟาสูญเสียที่นอยที่สุดที่เกี่ยวของกับเสนบัสบารนั้น เกิดขึ้นใน กรณีที่กําลังไฟฟาสูญเสียอันเนื่องจากความตานของเสนบัสบารมีคาเทากับกําลังไฟฟาสูญเสียที่เกิดจากเงาของ บัสบาร จากผลเชนนี้ ความกวางเฉลี่ยที่เหมาะสมของเสนบัสบารคือ [22] WB
=
AB
ρ smb J max m V max
(1.90)
และกําลังไฟฟาสูญเสียที่นอยที่สุดโดยเสนบัสบารคือ
( prb + p sb ) min
=
2A
ρ smb J max m V max
(1.91)
ขอที่นาสังเกตในสมการที่ (1.91) นี้คือ ถาเสนบัสบารมีรูปรางปลายแหลมคม (taper) (ซึ่งเปนกรณี ที่ m=4) จะทําใหกําลังไฟฟาสูญเสียมีคานอยกวากรณีเสนบัสบารมีรูปรางกวางสม่ําเสมอ (ซึ่ง m=3) อยูถึง 13% [23-24]
1-41
การคํานวณหาคาจํานวนชุดของเสนฟงเกอรวาจะตองมีกี่ระดับเปนสิ่งที่คอนขางยุงยาก อยางไรก็ตาม สิ่งที่ควรคํานึงถึงคือ ระยะหางของเสนฟงเกอรควรจะนอยที่สุดเพื่อใหการสูญเสียที่เกิดจากการไหลของ กระแสไฟฟาในแนวระนาบมีคานอยที่สุด นั่นคือเราอาจพิจารณาใหวา S→0
WF S
(ρ
rf
=
+ ρ cf + ρ sf + ρ tl
B
)
min
(1.92)
ρ smf + ρ c m / B
2
m
= 2B
J max
(1.93)
V max
ρ smf + ρ c m / B m
2
J max V max
(1.94)
ในทางปฏิบัติจะเปนการยากลําบากที่จะสรางขั้วกริดใหไดตามเงื่อนไขเหลานี้ ดังนั้นความกวางที่นอย ที่สุดของ WF และ S จึงเปนเรื่องของขีดจํากัดทางเทคโนโลยีและผลิตผล (yield)
ตัวอยางที่ 6 จงคํานวณคาความกวางเฉลี่ยของเสนบัสบาร
WB
และคาระยะหางที่เหมาะสมของเสนฟง เกอรของเซลลแสงอาทิตยตามที่แสดงในรูปที่ 1.33 โดยกําหนดพารามิเตอรพื้นฐานดังนี้ ขนาดของแผนเซลลแสงอาทิตย 10cm×10 cm แรงดันไฟฟาเอาตพุตสูงสุด 450 mV กระแสไฟฟาเอาตพุตสูงสุด 30 mA/cm2 สภาพตานทานแผนของชั้น n ดานรับแสง 40 Ω/ ความกวางของเสนฟงเกอร 150 μm (ผลิตโดยการชุบทางเคมี) สภาพตานทานของเสนฟงเกอร 15 μΩ.cm บนเสนฟงเกอรมีชั้นขั้วตะกั่วบัดกรีหนา 42 μm บนเสนบัสบารมีชั้นขั้วตะกั่วบัดกรีหนา 80 μm 2 สภาพตานทานที่รอยตอของขั้วกริดและสารกึ่งตัวนํา 370 μΩ.cm
รูปที่ 1.33 ตัวอยางการออกแบบขั้วบัสบารและขั้วฟงเกอรสําหรับใชในการคํานวณในตัวอยางที่ 6
1-42
วิธีทํา สภาพตานทานแผนของชั้นขั้วตะกั่ว = สภาพตานทานของตะกั่ว/ความหนาของตะกั่ว ดังนั้น ρ smf = 0.00357Ω / ρ smb = 0.00188Ω / เนื่องจาก ρ smb < ρ smf ดังนั้นเสนบัสบารจึงควรยาวและเสนฟงเกอรจึงควรสั้นกวา กําหนดใหการ แบงพื้นที่ยอยมีความยาว A (100mm) และมีความกวาง B (25mm) ขนาดของเสนบัสบารสามารถคํานวณ ไดจากสมการที่ (1.90) และออกแบบใหเสนบัสบารเปนรูป taper (ปลายแหลม) ดังนั้นความกวางเฉลี่ย WB จึงมีคาเทากับ ⎛ 0.00188 × 0.03 ⎞ WB = 10 × 2.5 × ⎜ ⎟cm = 0.14 cm ⎝ 4 × 0.45 ⎠
เนื่องจากเสนบัสบารแตละเสนวางคาบอยูบนพื้นที่ยอย 2 ดาน ดังนั้นความกวางของเสนบัสบารจึง ตองมีคาเปน 2 เทาของ WB และเนื่องจากเสนบัสบารมีลักษณะเปน taper ดังนั้นเมื่อคํานวณความลาดของ taper จึงพบวาสวนกวางที่สุดของเสนบัสบารคือ 0.56 mm จากสมการที่ (1.91) ผลรวมของกําลังไฟฟาสูญเสียที่เกี่ยวของกับเสนบัสบารมีคาเทากับ ρ rb + ρ sb = 0.112
จากโจทย กําหนดวาความกวางเฉลี่ยของเสนฟงเกอร = WF = 150 μm (0.015 cm) ซึ่งถือวาเปน เสนที่คมมากและในทางปฏิบัติคงยากที่จะผลิตใหคมกวานี้อีกแลว ดังนั้นสิ่งที่เราจะคํานวณตอไปคือคา ระยะหางของเสนฟงเกอร S ซึ่งคํานวณไดจากสมการที่ (1.93) และหารดวย 2 อีกครั้งหนึ่ง นั่นคือ S = 0.3286cm,
p rf = 0.0109 ,
p sf = 0.0456,
p t l = 0.0240
p cf = 0.0005
1.4.7 การลดการสูญเสียของแสงสะทอน การเคลือบผิวบนดวยชั้นปองกันการสะทอนแสง (Antirefelction) แสงที่ตกกระทบเซลลแสงอาทิตย บางสวนจะถูกขั้วกริดสะทอนกลับหมด บางสวนจะถูกสารกึ่งตัวนํา สะทอน ปรากฏการณเหลานี้เปนสาเหตุของการสูญเสียแสงในเซลลแสงอาทิตย การเคลือบฟลมบางทับ ดานบนของเซลลแสงอาทิตยจะเปนวิธีหนึ่งที่จะชวยลดการสะทอนแสงของสารกึ่งตัวนําไดและทําใหแสงเดิน ทางเขาสูเซลลแสงอาทิตยไดมากขึ้น ฟลมบางที่นํามาเคลือบดวยวัตถุประสงคนี้เรียกวา “ชั้นปองกันการสะทอน แสง” (anti-reflection layer) นิยมเรียกสั้นๆ วา “ชั้น AR” และตองมีการออกแบบทั้งดานความหนาและคา ดัชนีหักเหแสงที่เหมาะสมดังนี้ (ดูรูปที่ 1.34) 1. ความหนา d1 ของชั้น AR ควรมีคาที่เปนไปตามกฎ “1/4 ของความยาวคลื่นแสง” ถาแสงที่เรา พิจารณามีความยาวคลื่น λ (เชน ยอดของสเปกตรัมของแสงอาทิตย) และดัชนีหักเหแสงของชั้น AR เทากับ n1 ดังนั้นความหนาที่เหมาะสมของชั้น AR คือ [25] d1 =
λ 4 n1
1-43
(1.95)
2. ชั้น AR ควรมีความโปรงใสที่ดีและดัชนีหักเหแสง n1 ในอุดมคติควรมีคาเทากับคาเฉลี่ยของผล คูณของคาดัชนีหักเหแสงของอากาศและของสารกึ่งตัวนําตามสมการดังนี้ [25]
รูปที่ 1.34
ปรากฏการณการแทรกสอดของแสงที่เกิดขึ้นในชั้นปองกันการสะทอนแสงที่มีความหนา เทากับ 1/4 ของความยาวคลื่นแสง n1 =
โดยที่
n0, n1, n2 คือดัชนีหักเหแสงของอากาศ
n0 n 2
(1.96)
ชั้น AR และสารกึ่งตัวนําตามลําดับ
ดวยเงื่อนไขดังกลาวทั้ง 2 ขอนี้ จะทําใหความเขมของแสงสะทอนมีคานอยที่สุด เงื่อนไขขอที่ 1. นั้น จะทําใหเฟสของแสงที่สะทอนที่ผิวบนสุดและที่สะทอนที่ผิวสารกึ่งตัวนํามีความแตกตางกัน 180° ดังนั้นจึงทํา ใหแสงที่สะทอนทั้ง 2 แหงนั้นไปทําการแทรกสอดแบบหักลางกันเมื่อสะทอนออกจากเซลลแสงอาทิตย จึงทํา ใหแสงสะทอนสุทธิมีความเขมนอยที่สุด ตัวอยางวัสดุที่นิยมผลิตเปนชั้น AR ไดแก Si3N4 และ SiO2
ตัวอยางที่ 7 จงพิสูจนเงื่อนไขสมการที่ (1.95) และ (1.96)
วิธีทํา
โดยทั่วไป สัมประสิทธิ์การสะทอนแสง R ที่มีฟลมบาง 2 ชั้นซอนทันกันมีคาเทากับ r1 + r2 + 2r1r2 cos 2θ 2
R =
2
(1.97)
1 + r1 r2 + 2r1r2 cos 2θ 2 2
โดยที่ r1 และ r2 มีคาดังนี้ r1 =
และมุม
θ
=
n0 − n1 n0 + n1
,
r2
=
2πn1d1
n1 − n2 n1 + n2
(1.98)
(1.99)
λ
ถาชั้น AR มีคุณสมบัติตามเงื่อนไขขอ 1. และ 2. สัมประสิทธิ์การสะทอนแสง R จะมีคาเทากับ
Rmin
⎛ n 2 − n n ⎞2 0 2 ⎟⎟ = ⎜⎜ 12 ⎝ n1 + n0 n2 ⎠
1-44
(1.100)
ดังนั้นถาแทนคาสมการที่ (1.96) ลงในสมการที่ (1.100) จะไดวา ⎛ n n − n0 n2 ⎞ Rmin = ⎜ 0 2 ⎟ 2n0 n2 ⎠ ⎝
2
= 0
ตัวอยางที่ 8 ผลึก Si มีคาดัชนีหักเหแสงเทากับ 3.8 จงออกแบบวาควรใชชั้น AR ที่มีดัชนีหักเหแสงเทาไร และหนาเทาไร โดยเนนที่แสงความยาวคลื่น 0.6 μm วิธีทํา
จากสมการที่ (1.96) จากสมการที่ (1.95)
n1 =
1 × 3.8 = 19 . 0.6μm d1 = = 0.0789 μm ≈ 78.9 nm 4 × 19 .
รูปที่ 1.35 แสดงตัวอยางผลการวัดสเปกตรัมสัมประสิทธิ์การสะทอนแสงของเซลลแสงอาทิตยที่มี โครงสรางตางๆ [26] เสนประในรูปแสดงกรณีมีชั้น AR และเสนทึบแสดงกรณีที่ดานบนชั้น AR มีกระจกใส (มีคาดัชนีหักเหแสงประมาณ 1.5) วางทับอีกครั้งหนึ่ง เปนที่นาสนใจวาเนื่องจากการประกอบแผงเซลลแสงอาทิตยนั้นจะมีแผนกระจกใสวางทับเซลลแสงอาทิตยเสมอ ดังนั้นขอมูลจากรูปนี้จึงทําใหเราทราบวา เมื่อมี แผนกระจกใสดานบนของชั้น AR ก็จะทําใหเราสามารถผลิตชั้น AR ที่มีคาดัชนีหักเหแสงสูงๆ ไดซึ่งจะทําให ลดตนทุนการผลิตลงได ตารางที่ 1.3 แสดงตัวอยางรายชื่อและคาดัชนีหักเหแสงของวัสดุที่สามารถนํามาผลิต เปนชั้น AR สําหรับเซลลแสงอาทิตยได อนึ่ง ชั้นปองกันการสะทอนแสงหรือ ชั้น AR นี้อาจทําจากวัสดุตางชนิดกันหลายๆ ชั้นเคลือบซอนทับ กันก็ไดซึ่งเรียกวา “ชั้นมัลติเลเยอร” (multi-layer) ขอดีของชั้นมัลติเลเยอรคือชวยลดการสะทอนแสงในชวง สเปกตรัมที่กวางๆ ไดดีกวากรณีการใชชั้น AR เพียงชั้นเดียว [27]
รูปที่ 1.35 ตัวอยางผลการวัดสเปกตรัมสัมประสิทธิ์การสะทอนแสงของเซลลแสงอาทิตย ที่มีโครงสรางตางๆ [26]
1-45
ตารางที่ 1.3 คาดัชนีหักเหแสงของวัสดุที่เคลือบเปนชั้นปองกันการสะทอนแสงสําหรับเซลลแสงอาทิตย วัสดุ MgF2 SiO2 Al2O3 SiO
ดัชนีหักเหแสง 1.3-1.4 1.4-1.5 1.8-1.9 1.8-1.9
วัสดุ Si3N4 TiO2 Ta2O5 ZnS
ดัชนีหักเหแสง ∼1.9 ∼2.3 2.1-2.3 2.3-2.4
นอกจากนี้ การผลิตใหผิวของเซลลแสงอาทิตยขรุขระแบบพีระมิด (textured surface) ก็สามารถลด การสะทอนแสงไดดวย รายละเอียดเกี่ยวกับผิวขรุขระแบบพีระมิดจะกลาวถึงในหัวขอที่ 1.5
1.5 เซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอน เซลลแสงอาทิตยชนิดที่ผลิตจากผลึกเดี่ยวซิลิคอน (Si) ปจจุบันมีการผลิตและใชงานกันมากที่สุด เนื่องจากมีจุดเดนดังตอไปนี้ 1) วัสดุดิบซึ่งไดแก ซิลิคอน มีปริมาณมากบนพื้นโลก และวัสดุซิลิคอนไมทําลายสภาพแวดลอม 2) เทคโนโลยีการผลิตผลึกเดี่ยวซิลิคอน และเทคโนโลยีการแพรซึมสารเจือปนไดรับการพัฒนาไป กาวหนามาก ซึ่งเจริญควบคูไปกับเทคโนโลยี VLSI 3) ความหนาแนนของซิลิคอน มีคานอย ทําใหมีน้ําหนักเบา และเปนวัสดุที่แข็งแรงตอแรงเคน แมจะ มีความหนาเพียง 50 μm ก็ยังคงสภาพเปนแผนไดดี 4) มีประสิทธิภาพดีกวาเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกโพลีซิลิคอนและชนิดอะมอรฟสซิลิคอน 5) ลักษณะสมบัติการผลิตพลังงานไฟฟาเปลี่ยนแปลงตามอายุการใชงานนอยมาก สามารถใชงานใน สถานที่โดดเดี่ยว เชน ประภาคารและดาวเทียม ไดอยางมีความมั่นใจ อายุยืนนานกวา 20 ป 6) เนื่องจากผลึกซิลิคอนมีชองวางพลังงานชนิดไมตรง ดังนั้นสัมประสิทธิ์การดูดกลืนแสงอาทิตยจึง มีคานอย การผลิตจึงใหหนาพอสมควร เชน หนากวา 100 μm
1.5.1 โครงสรางตางๆ ของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอน โครงสรางพื้นฐาน รูปที่ 1.36 แสดงโครงสรางพื้นฐานของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอนซึ่งเปนรอยตอ p-n อาจใชแผนฐานชนิด p ก็ได หรือใชแผนฐานชนิด n ก็ได แตเนื่องจากระยะทางการแพรซึมของอิเล็กตรอน ซึ่งเปนพาหะขางนอยในซิลิคอนชนิด p มีคามากกวาระยะทางการแพรซึมของโฮลซึ่งเปนพาหะขางนอยใน ซิลิคอนชนิด n ดังนั้นจึงนิยมใชแผนฐานชนิด p มากกวา นอกจากนี้ จากขอมูลการใชงานในดาวเทียมพบวา แผนฐานชนิด p มีความคงทนตอรังสีตางๆ ในอวกาศไดดีกวาดวย ที่ผิวดานบนมีการแพรซึมสารเจือปนใหเกิด ชั้นชนิด n+ ความลึกของรอยตอประมาณ 0.5 μm ที่ผิวดานบนสุดมีขั้วไฟฟาโอหมิกเปนเสนผอมๆ
1-46
รูปที่ 1.36 โครงสรางพื้นฐานของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอนรอยตอ p-n
รูปที่ 1.37 ตัวอยางลวดลายของขั้วไฟฟาดานหนาแบบตางๆ เคลือบซึ่งเรียกวาเสนฟงเกอรหรือเสนนิ้วมือ (finger line) และมีขั้วโลหะพาดเชื่อมระหวางเสนฟงเกอรอีกครั้ง ซึ่งเรียกวาเสนบัสบาร (bus bar) เพื่อลดความตานทานของขั้วไฟฟา สําหรับที่ดานหลังของแผนฐานจะเคลือบ ขั้วไฟฟาโอหมมิกใหเต็มแผนฐาน รูปที่ 1.37 แสดงตัวอยางลวดลายของขั้วไฟฟาดานหนาแบบตางๆ
โครงสราง Violet Cell ในกรณีที่ตองการใหเซลลแสงอาทิตยมีผลตอบสนองตอแสงที่มีความยาวคลื่นสั้นๆ สามารถทําไดโดย การออกแบบใหรอยตอมีความลึกนอยๆ เชน ประมาณ 0.1-0.2 μm นับจากผิวบน วิธีนี้อาศัยหลักการที่วา แสงที่มีความยาวคลื่นสั้นจะถูกดูดกลืนที่ผิวมากที่สุด ดังนั้นเมื่อรอยตอตื้นมากๆ ก็จะทําใหพาหะเดินทางถึงผิว ดานบนไดดีขึ้น เซลลแสงอาทิตยนี้มีชื่อเรียกวา violet cell
โครงสราง BSF รูปที่ 1.38 แสดงตัวอยางผลการคํานวณความสัมพันธระหวางความหนาของแผนฐานชนิด p และ ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยว Si ซึ่งมีรอยตอชนิด n+-p และชนิด n+-p-p+ จากรูปนี้พบวา ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยจะเพิ่มขึ้นตามความหนาของแผนฐาน และจะไมเพิ่มอีกแมวาความหนาของ
1-47
รูปที่ 1.38 ผลการคํานวณความสัมพันธระหวางความหนาของแผนฐานชนิด p และประสิทธิภาพของ เซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยว Si รอยตอ n+-p และ n+-p-p+
รูปที่ 1.39 แถบพลังงานของเซลลแสงอาทิตยชนิดรอยตอ n+pp+ ซึ่งเรียกวา โครงสราง BSF แผนฐานจะมากกวา 100 μm แลวก็ตาม ดังนั้นจากรูปนี้ทําใหเราทราบวาแผนฐานสําหรับใชในเซลลแสงอาทิตยนั้นมีความหนาเพียงประมาณ 100 μm ก็เพียงพอแลว อยางไรก็ตาม ถาความหนาของแผนฐานนอยกวาคาๆ หนึ่ง จะทําใหอิเล็กตรอนที่เกิดจากแสงบางตัว แพรซึมไปรวมตัวกับโฮลที่ดานหลังของแผนฐานได เพื่อปองกันขอบกพรองนี้ จึงไดมีการออกแบบใหมีการ เติมสารเจือปนดานหลังของแผนฐานใหเปนชนิด p+ ดังนั้นเซลลแสงอาทิตยจึงมีรอยตอเปน n+pp+ และเรียก โครงสรางเชนนี้วา โครงสราง BSF (back surface field) เซลลแสงอาทิตยโครงสราง BSF มีคุณสมบัติเดน ดังนี้ - มีการดูดกลืนแสงที่มีความยาวคลื่นยาวไดดีขึ้น เพราะอิเล็กตรอนที่แพรซึมไปดานหลัง จะถูก กําแพงศักยของชั้น p+ สะทอนใหไหลกลับไปดานหนาดังแสดงในรูปที่ 1.39 - ชั้น pp+ ทําใหแรงดันไฟฟาวงจรเปดเพิ่มขึ้น - ชั้น p+ ชวยลดความตานทานอนุกรมของโฮลลง จึงทําใหฟลลแฟกเตอรของเซลลแสงอาทิตยดีขึ้น - ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิดนี้จะเพิ่มขึ้น แมวาแผนฐานจะบางลง ดังแสดงดวยเสนทึบ ในรูปที่ 1.38
โครงสรางสําหรับกักแสง 1) การใชฟลมปองกันการสะทอนแสง
1-48
ในชวงความยาวคลื่นแสง 400-1,100 nm ดัชนีหักเหแสงของวัสดุซิลิคอนมีคาคอนขางมากประมาณ 6.00-3.50 ดังนั้นจึงทําใหมีการสูญเสียอันเนื่องจาการสะทอนแสงที่ผิวดานรับแสงมีคามากถึง 54% ในยาน ความยาวคลื่นสั้น และมีการสูญเสียถึง 34% ในยานความยาวคลื่นยาว วิธีการลดการสูญเสียในกรณีนี้ทําได โดยการเคลือบฟลมบางๆ ที่โปรงใสและมีดัชนีหักเหแสงนอยที่บนผิวดานบนเพื่อใหทําหนาเปน “ชั้นปองกัน การสะทอนแสง” (anti-reflection layer) รายละเอียดเกี่ยวกับชั้น AR นี้ไดกลาวถึงแลวในหัวขอที่ 1.4.7 รูปที่ 1.40 แสดงตัวอยางสเปกตรัมการสะทอนแสงจากผิวของเซลลแสงอาทิตย โดยที่เสนหมายเลข (1) เปนกรณีผิวกระจกที่ยังไมมีชั้น AR เสนหมายเลข (2) เปนกรณีเคลือบชั้น AR (ดัชนีหักเหแสง 2.25) ลงบนผิวกระจก เสนหมายเลข (3) เปนกรณีผิวขรุขระ และเสนหมายเลข (4) เปนกรณีเคลือบชั้น AR ลงบน ผิวขรุขระ ตัวอยางวัสดุชั้น AR ที่นิยมใชกันไดแก Si3N4 , SiO2 , SnO2 เปนตน 2) การใชโครงสรางผิวขรุขระ เนื่องจากผิวดานรับแสงของเซลลแสงอาทิตยโดยทั่วไปเปนผิวเรียบมันแบบกระจกเงา ดังนั้นแมวาจะ เคลือบผิวดวยฟลมปองกันการสะทอนแสง แตก็ยังคงทําใหมีการสะทอนแสง วิธีการลดการสะทอนแสงที่ ไดผลมากอีกวิธีหนึ่งไดแก การทําใหผิวของซิลิคอนขรุขระแบบพีระมิดซึ่งเรียกวา “โครงสรางผิวเทกซเจอร” (textured surface) ดังแสดงในรูปที่ 1.41 ผิวขรุขระทําไดโดยการกัดผิวของแวนผลึกซิลิคอนดวยน้ํายาเคมีที่ เลือกเฉพาะ จะสามารถกัดใหผิวขรุขระแบบพีระมิด ในโครงสรางเชนนี้ แสงที่เดินทางเขามาจะสะทอนที่ผิว
รูปที่ 1.40 สเปกตรัมการสะทอนแสงจากผิวของเซลลแสงอาทิตย โดยที่เสนหมายเลข (1) เปนกรณีผิวกระจกที่ยังไมมีชั้น AR (2) เปนกรณีเคลือบชั้น AR (ดัชนีหักเหแสง 2.25) ลงบนผิวกระจก (3) เปนกรณีผิวขรุขระ และ (4) เปนกรณีเคลือบชั้น AR ลงบนผิวขรุขระ
รูปที่ 1.41 ภาพตัดขวางเซลลแสงอาทิตยที่มีผิวขรุขระแบบพีระมิดซึ่งเรียกวา “โครงสรางผิวเทกซเจอร”
1-49
ของพีระมิดและจะเบี่ยงเบนเขาสูเนื้อผลึกและเกิดการสะทอนแสงในผลึกหลายๆ ครั้ง และเนื่องจากแสงที่เดิน ทางเขาสูเนื้อผลึกมีทิศทางเฉียง ดังนั้นระยะทางการเดินของแสงในผลึกจะเพิ่มขึ้นและสงผลใหเกิดการดูดกลืน แสงในผลึกมากขึ้น เสนประหมายเลข (3) และ (4) ในรูปที่ 1.40 แสดงสเปกตรัมการสะทอนแสงกรณีผิว ขรุขระซึ่งจะเห็นไดวาการสะทอนแสงแทบไมมีเลย นิยมเรียกเซลลแสงอาทิตยที่มีทั้งชั้นปองกันการสะทองแสง และผิวขรุขระเชนนี้วา “เซลลดํา” (black cell) เพราะวาเมื่อเรามองผิวของเซลลแสงอาทิตย จะพบวาสีของ เซลลแสงอาทิตยเปนสีดํา วิธีการกัดผิวซิลิคอนระนาบ (100) ใหเปนพีระมิดซึ่งดานขางของพีระมิดจะเปนระนาบ (111) ทําได โดยการแชแวนผลึกลงในสารละลายไฮโดราซิน 60% ที่อุณหภูมิ 110 °C เปนเวลาประมาณ 10 นาที หรือแช ลงในสารละลายของโซดาไฟ (NaOH) 1% ที่กําลังเดือดเปนเวลาประมาณ 5 นาที
1.5.2 ประสิทธิภาพสูงสุดของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอน ในทางทฤษฎี ชอกลียไดคํานวณหาคาประสิทธิภาพสูงสุดของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอน [13] โดย สมมติวาโฟตอนที่มีคามากกวาชองวางพลังงานถูกสารกึ่งตัวนําดูดกลืนและโฟตอนทุกตัวสามารถผลิต อิเล็กตรอนได และใหสเปกตรัมของแสงอาทิตยมีรูปแบบสเปกตรัมของวัตถุดําที่อุณหภูมิ 6,000 K ผลการ คํานวณไดผลวา ประสิทธิภาพสูงสุดไดจากผลึกที่มีชองวางพลังงาน 1.1 eV และมีประสิทธิภาพ 44% แตผล การคํานวณนี้ไมสามารถนํามาใชไดในทางปฏิบัติ เพราะวาในเซลลแสงอาทิตยท่เี ปนจริงจะมีการสูญเสียตางๆ เกิดขึ้น ตอไปจะแสดงวิธีการประเมินหาคาประสิทธิภาพของเซลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอนที่ใกลเคียง กับสภาพความเปนจริง ถาสมมุติใหวาโฟตอนแตละตัวที่มีพลังงานมากกวาชองวางพลังงาน 1.1 eV ของซิลิคอนสามารถผลิต อิเล็กตรอนได 1 ตัว ดังนั้นจากการคํานวณจํานวนโฟตอนทั้งหมดตลอดสเปกตรัมของแสงอาทิตย จะไดคา กระแสไฟฟาลัดวงจรเทากับ 37.7 mA/cm2 ที่แสงความเขม AM 1.5 (83.2 mW/cm2) หรือเทากับ 54.2 mA/cm2 ที่แสงความเขม AM 0 (135.3 mW/cm2) สําหรับคาในอุดมคติของแรงดันไฟฟาวงจรเปด Voc คือ V oc =
kT q
ln(
I sc I0
+ 1)
(1.101)
โดยที่ I0 คือกระแสไฟฟายอนอิ่มตัวในขณะไมมีแสง สมการนี้บอกใหเราทราบวา ถาตองการ Voc คามาก ตองลดคา I0 ลง ในกรณีเซลลแสงอาทิตยชนิด ผลึกเดี่ยวซิลิคอน คา Voc สูงสุดที่เปนไปไดประมาณ 700 mV สําหรับฟลลแฟกเตอร FF นั้น จากประสบการณพบวามีความสัมพันธดังนี้ [28] FF =
v oc − ln( v oc + 0.72) v oc + 1
โดยที่ voc = Voc/(kT/q)
1-50
(1.102)
จากสมการนี้ ผลการคํานวณคาฟลลแฟกเตอร FF มีคา 0.846 ดังนั้นภายใตแสงอาทิตยความเขม AM 1.5 (83.2 mW/cm2) คาคาดคะเนสูงสุดที่นาจะเปนไปได ของประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอนคือ 26.5 % โดยคํานวณดังนี้ η max =
37.2 × 700 × 0.846 = 26.5% 83.2
(1.103)
1.5.3 โครงสรางตางๆ ของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอน ที่มีประสิทธิภาพสูงมาก ประสิทธิภาพสูงสุดของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอนที่ผลิตไดในปจจุบันมีคาถึงระดับ 23% แลว ในหัวขอนี้จะขอยกตัวอยางโครงสรางแบบตางๆ ของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอนที่ให ประสิทธิภาพสูง
เซลลแสงอาทิตยขนาดเล็ก 1) โครงสราง PESC รูปที่ 1.42 แสดงโครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิด PESC (passivated emitter solar cell) [29] มี ลักษณะเปนรอยตอ n-p ที่ดานรับแสงมีฟลมฉนวนออกไซดบางมาก (ประมาณ 2-3 nm) เคลือบไว ฟลม ฉนวนนี้ชวยลดการรวมตัวของอิเล็กตรอนและโฮลและเพิ่มแรงดันไฟฟาวงจรเปด ขั้วไฟฟาดานบนสัมผัส
รูปที่ 1.42 โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิด PESC (passivated emitter solar cell) [29] ทั้งฟลมฉนวนและชั้น n แผนฐานใชผลึก FZ-Si (Floating zone Si) ที่มีสภาพตานทานไฟฟาต่ํา (0.2 2 Ω.cm) ผลการวัดภายใตแสง AM1.5 (100mW/cm ) ไดประสิทธิภาพ 19.8 % [30-31 ] 2) โครงสรางไมโครกรูฟ รูปที่ 1.43 แสดงโครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิดไมโครกรูฟ (micro grooved passivated emitter solar cell) [31-32] โครงสรางพื้นฐานคลายกับโครงสราง PESC โดยที่ผิวดานรับแสงนั้นผลิตใหมีลักษณะ เปนรองซึ่งเรียกวา “ไมโครกรูฟ” มีลักษณะคลายหลังคาบาน ความลึกของไมโครกรูฟประมาณ 5 μm ระยะพิตช (pitch) ประมาณ 10 μm สรางดวยวิธีโฟโตลีโทกราฟและกัดดวยสารละลายของ NaOH ลักษณะ เดนของโครงสรางนี้คือ - ผิวไมโครกรูฟชวยใหสัมประสิทธิ์ของการสะทอนแสงลดลงจาก 3-4 % เปนนอยกวา 1% - แสงจะตกกระทบผิวในลักษณะมุมเฉียง ซึ่งจะสะทอนจากผิวไมโครกรูฟหนึ่งไปยังผิวไมโครกรูฟ ขางเคียงและเดินทางเขาสูเนื้อผลึกไดดีขึ้น ทําใหมีการดูดกลืนแสงเพิ่มขึ้น
1-51
- เนื่องจากผิวไมโครกรูฟเรียงตัวกันอยางเปนระเบียบ ทําใหสามารถสรางขั้วไฟฟาดานบนไดอยาง เปนระเบียบ เปนผลใหลดความตานทานอนุกรมได - สามารถผลิตใหเหมือนเดิมไดงาย (reproducibility) ตัวอยางผลการผลิตและวัดภายใตแสง AM1 (100mW/cm2) ไดลักษณะสมบัติเอาตพุตดังนี้ 2 Jsc = 38.3 mA/cm , Voc = 662 mV, FF = 0.824 และ ประสิทธิภาพ η = 20.9% [33]
รูปที่ 1.43 โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิดไมโครกรูฟ [31-32] 3) โครงสราง PERC เซลลแสงอาทิตยที่มีโครงสราง PERC (passivated emitter and rear cell) แสดงในรูปที่ 1.44 ที่ ดานหลังมีการเคลือบวัสดุฉนวน SiO2 บางๆ และเปดชั้นฉนวนออก 2 mm จากนั้นเคลือบขั้วไฟฟา Al ใหเต็ม พื้นที่ดานหลังและอบที่อุณหภูมิ 400 °C เปนเวลา 15 นาที การออกแบบดานหลังเชนนี้ชวยใหแรงดันไฟฟา วงจรเปดดีขึ้นและลดการรวมตัวของพาหะที่ดานหลังและลดกระแสไฟฟายอนอิ่มตัว [12] ที่ดานหนา ออกแบบใหผิวรับแสงมีลักษณะขรุขระแบบ “พีระมิดคว่ํา” (inverted pyramid) ซึ่งเปนการชวยทําให สัมประสิทธิ์การสะทอนแสงที่ผิวมีคานอยที่สุด แผนฐานชนิด p มีสภาพตานทานไฟฟา 0.2 Ωcm ตัวอยางผล การผลิตและวัดภายใตแสง AM 1.5 ไดลักษณะสมบัติเอาตพุตดังนี้ Jsc = 40.3 mA/cm2, Voc = 696 mV, FF = 0.814 และประสิทธิภาพ η = 22.8% [12] 4) โครงสราง PERL โครงสราง PERC ที่กลาวมาแลวขางตนชวยทําใหความเร็วในการรวมตัวของพาหะที่ผิวดานหนา ดานหลังและภายในผลึกลดลง เปนผลทําให Voc และ Jsc เพิ่มขึ้น เซลลแสงอาทิตยที่มีโครงสราง PERL (passivated emitter rear locally diffused) แสดงในรูปที่ 1.45 [34] ที่ดานหลัง มีการแพรซึมสารเจือปน
รูปที่ 1.44 โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิด PERC (passivated emitter and rear cell) [12]
1-52
รูปที่ 1.45 โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิด PERL (passivated emitter rear locally diffused) ชนิดโบรอนบริเวณที่อยูใกลรอยเปดของชั้นฉนวนใหมากเปนพิเศษโดยการใช BBr3 และแพรซึมที่อุณหภูมิ 900 °C เปนเวลา 15 นาที และอบที่อุณหภูมิ 1070 °C เปนเวลา 2 ชั่วโมง ตัวอยางผลการทดลองวัดภายใตแสง AM-1.5 ได Jsc =42.9 mA/cm2, Voc=696 mV, FF=0.81 และ ประสิทธิภาพ η = 24.2 % นับเปนประสิทธิภาพระดับสูงที่สุดของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึก เดี่ยว Si ที่มีการรายงานในปจจุบัน 5) โครงสรางฝงขั้วไฟฟา แมวาเซลลแสงอาทิตยที่มีโครงสรางตางๆ ที่กลาวมาแลวขางตนจะใหประสิทธิภาพสูงมากก็ตาม แต มีขอเสียที่ตองใชกระบวนการผลิตที่ยุงยากและหลายขั้นตอน จึงไดมีการเสนอโครงสรางใหมที่เหมาะสมตอการ ผลิตจํานวนมากๆ เชน การใชโครงสรางฝงขั้วไฟฟา (buried contact) ดังแสดงในรูปที่ 1.46 [35] ผิวดานรับ แสงมีลักษณะขรุขระแบบเทกซเจอร และมีการใชแสงเลเซอรเจาะผิวดานบนใหเปนรองที่ลึกประมาณ 40 μm และกวางประมาณ 20 μm ตอจากนั้นจึงแพรซึมสารเจือปนชนิด n เขาสูภายในรองนี้ ตัวอยางผลการผลิตเซลลแสงอาทิตยพื้นที่ 4 cm2 และวัดภายใตแสง AM1.5 ไดลักษณะสมบัติ เอาตพุตดังนี้ Jsc = 38.0 mA/cm2, Voc = 609 mV, FF = 0.802 และ ประสิทธิภาพ η = 18.6 %
เซลลแสงอาทิตยขนาดใหญ เซลลแสงอาทิตยที่มีการผลิตจํานวนมากในภาคอุตสาหกรรมมีพื้นที่ของเซลลตามขนาดของแผนเว เฟอร (wafer) เชนในกรณีรูปสี่เหลี่ยมจัตุรัสมีพื้นที่ประมาณ 10 cm × 10 cm หรือในกรณีรูปวงกลมมีเสน ผานศูนยกลาง 5 นิ้ว โดยทั่วไป เมื่อเซลลแสงอาทิตยมีพื้นที่ใหญขึ้น ประสิทธิภาพของการแปลงพลังงานจะ ลดลง ทั้งนี้มีหลายสาเหตุ เชน 1) มีการสูญเสียอันเนื่องจากความตานทานอนุกรมของขั้วไฟฟามากขึ้น และ 2) พื้นที่ที่มีจุดบกพรองของผลึกมีขนาดมากขึ้น ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยที่มีพื้นที่ระหวาง 50-100 cm2 มีคาประมาณ 15-17%
รูปที่ 1.46 โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิดฝงขั้วไฟฟา (buried contact) [35]
1-53
1.6 เซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกโพลีซิลิคอน หัวขอการพัฒนาและวิจัยเซลลแสงอาทิตยที่สําคัญในขณะนี้ไดแก การประดิษฐเซลลแสงอาทิตยที่มี ประสิทธิภาพสูงและการหาวิธีลดตนทุนการผลิต เนื่องจากตนทุนการผลิตผลึกโพลีซิลิคอนมีแนวโนมวาถูกกวา ผลึกเดียวซิลิคอน ดังนั้นเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกโพลีซิลิคอนจึงกําลังไดรับความสนใจในฐานะที่จะเปนเซลล แสงอาทิตยที่มีราคาถูกชนิดหนึ่งและปจจุบันมีการผลิตเซลลแสงอาทิตยชนิดนี้ออกจําหนายแลวปหนึ่งหลายสิบ เมกะวัตต ผลึกโพลี Si ไดแก ผลึกที่มีระนาบของผลึกหลายชนิดปนอยูในระนาบเดียวกัน เชน (111) (211) (330) เปนตน เมื่อมองดูดวยตาเปลาก็จะเห็นความแตกตางของสีของแตระนาบอยางชัดเจน อาณาเขตของ ผลึกแตละระนาบเรียกวา “เกรน” (grain) เกรนแตละเกรนอาจมีรูปรางเกือบเปนทรงกลมหรือหลายเหลี่ยม หรือมีรูปรางที่ไมแนนอน เทคโนโลยีในปจจุบันสามารถผลิตผลึกโพลี Si ใหมีเกรนที่มีเสนผานศูนยกลางตั้งแต หลายสิบ μm ไปจนถึงหลายพัน μm ได ถาเกรนมีขนาดใหญกวาความหนาของเซลลแสงอาทิตย พาหะ โฟโต ที่เกิดจากแสงจะสามารถเดินทางผานรอยตอ p-n ออกสูวงจรภายนอกของเซลลแสงอาทิตยไดอยางมี ประสิทธิภาพ รูปที่ 1.47 แสดงผลการคํานวณความสัมพันธระหวางเสนผานศูนยกลางของเกรนและ ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตย [36] จากรูปนี้จะพบวาประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยจะเพิ่มขึ้นเมื่อ เกรนมีขนาดใหญขึ้น ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกโพลี Si ที่ผลิตในภาคอุตสาหกรรมสูงถึงระดับ 15% แลว
1.6.1 การผลิตผลึกโพลีซิลิคอน ผลึกโพลีซิลิคอนสามารถผลิตไดจากซิลิคอนทั้งวิธีการใชซิลิคอนที่มีสถานะเปนของเหลวและวิธีการใช กาซ รูปที่ 1.48 แสดงรายชื่อวิธีการผลิตผลึกโพลีซิลิคอนจากสถานะของเหลว วิธีแคสติง (casting) ไดแก การหลอซิลิคอนเหลวลงในเบา รูปปริมาตรสี่เหลี่ยม เมื่อเย็นลง ผลึก ซิลิคอนจะมีลักษณะเปนแทงแข็ง (ingot) ตอจากนั้นจึงตัดใหเปนแผนบางๆ (slicing) บริษัทที่เปนผูนํา
รูปที่ 1.47
ผลการคํานวณความสัมพันธระหวางเสนผาศูนยกลางของเกรนและประสิทธิภาพของ เซลลแสงอาทิตย [36]
1-54
รูปที่ 1.48 รายชื่อวิธีการผลิตผลึกโพลีซิลิคอนจากสถานะของเหลว เทคโนโลยีวิธีนี้ไดแก บริษัท Wacker และเรียกเทคโนโลยีการผลิตผลึกโพลีซิลิคอนเชนนี้วา “วิธี Silso” รูปที่ 1.49 แสดงวิธีการผลิตผลึกโพลีซิลิคอนดวยวิธี Silso สามารถผลิตผลึกโพลีซิลิคอนที่มีขนาดของเกรนใหญ ระดับหลายมิลลิเมตรได บริษัท Crystal System ก็มีการพัฒนาเทคโนโลยี “HEM: heat exchange method” เทคโนโลยีการผลิตผลึกโพลีซิลิคอนอีกวิธีหนึ่งคือ วิธีชีติง (sheeting method) ไดแก การหลอซิลิคอน เหลวใหเปนแผนบางๆ ซึ่งมีหลายเทคโนโลยีเชน EFG (edge-defined film-fed growth), S-web
รูปที่ 1.49 วิธีการผลิตผลึกโพลีซิลิคอนดวยวิธี Silso
1-55
รูปที่ 1.50 เทคโนโลยีการผลิตผลึกโพลี Si แบบแคสตริบบอน (cast-ribbon) (supported web), SCIM(silicon coating by inverted meniscus) รูปที่ 1.50 แสดงตัวอยางเทคโนโลยีแคสต ริบบอน (cast-ribbon) สามารถดึงแผนผลึกโพลีซิลิคอนที่มีความกวาง 200 mm หนา 0.3 mm ไดดวย ความเร็ว 400 cm2/min เซลลแสงอาทตยที่ผลิตจากผลึกวิธีแคสตริบบอนนี้มีประสิทธิภาพสูงกวา 13% [37]
1.6.2 อิทธิพลของเกรนที่มีตอคุณสมบัติทางไฟฟาและแสง ปญหาหลักที่เกิดขึ้นในผลึกโพลีซิลิคอนไดแก อิทธิพลของเกรนที่มีตอคุณสมบัติทางไฟฟาและแสง อะตอมซิลิคอนที่อยูบริเวณผิวรอบๆ เกรนนั้นปกติจะมีพันธะที่ไมสมบูรณ กลาวคือ จะมีแขนขาด (dangling bonds) ซึ่งไมมีอะตอมซิลิคอนตัวอื่นมาสรางพันธะดวย อิเล็กตรอนซึ่งเปนแขนขาดนั้นมีคุณสมบัติที่ไวตอการ จับอิเล็กตรอนจากธาตุอื่นๆ มาก ดังนั้นในขณะที่กําลังปลูกผลึกโพลีซิลิคอน อิเล็กตรอนที่เปนแขนขาดจึงมี โอกาสที่จะสรางพันธะกับสารเจือปนหรือสารแปลกปลอมไดงาย และในทางอิเล็กทรอนิกสจะทําใหเกิดสถานะ ที่ไมพึงปรารถนาอยูภายในชองวางพลังงานของซิลิคอนซึ่งเรียกวา “สถานะของจุดบกพรอง” (defect states) สถานะของจุดบกพรองเหลานี้จะทําหนาที่คอยดักจับพาหะขางนอยที่เกิดจากแสงไมใหเดินทางออกไปสูวงจร ภายนอกและสงผลใหเวลาอายุ (life time) ของพาหะขางนอยลดลง นอกจากนี้ การจับพาหะดังกลาวยังทําใหเกิดสภาพไอออนขึ้นที่พรมแดนของเกรน และทําให แถบพลังงานที่พรมแดนเกิดเสนโคงดังแสดงในรูปที่ 1.51 ในรูปนี้แสดงกรณีสารกึ่งตัวนําชนิด n แตสามารถ ใชไดกับกรณีชนิด p ดวย กรณี (ก) ไดแกกรณีที่พรมแดนของเกรนมีสภาพเปนไอออนลบและสถานะของจุดบกพรองจะ กระจายอยูเหนือกึ่งกลางของชองวางพลังงาน ทําใหแถบพลังงานที่พรมแดนโคงงอสูงขึ้น ที่พรมแดนดังกลาว จะเกิดเปนชั้นปลอดพาหะ (depletion layer) ในสภาพเชนนี้ พาหะขางมากจะตองกระโดดขามกําแพงศักย จึง จะเดินทางผานสวนแหลมนี้ไปได ผลทําใหคาสภาพความคลองตัวลดลงอยางมากและความตานทานอนุกรม ของผลึกจะมีคาสูงขึ้น [38] ขณะเดียวกันพาหะขางนอยจะถูกสนามไฟฟาที่พรมแดนนี้ดึงดูดใหไปรวม
1-56
รูปที่ 1.51
แถบพลังงานและการเกิดสถานะของจุดบกพรองบริเวณพรมแดนของเกรนใน ผลึกโพลีซิลิคอน
ตัวที่พรมแดน และในที่สุดพาหะขางนอยก็จะถูกจับไวที่สถานะของจุดบกพรอง เปนผลใหเวลาอายุของพาหะ ขางนอยลดลงอยางมาก กรณี (ข) ไดแกกรณีที่สถานะของจุดบกพรองอยูที่ใตกึ่งกลางของชองวางพลังงาน ทําให แถบพลังงานถูกดัดใหแหลมและสูงขึ้น และที่บริเวณพรมแดนนั้นจะมีชั้นอินเวอรชัน (inversion layer) เกิดขึ้น กรณี (ค) ไดแกกรณีที่สถานะของจุดบกพรองอยูชิดขอบของแถบคอนดักชัน และระดับเฟรมีที่ บริเวณพรมแดนของเกรนจะอยูชิดแถบคอนดักชันมากกวาระดับเฟรมีที่อยูภายในเกรน พรมแดนเชนนี้จะทํา หนาเปนชั้นสะสมพาหะ (accumulation layer) อยางไรก็ตามในกรณีนี้ ทั้งพาหะขางมากและพาหะขางนอยจะ ไมไดรับอิทธิพล ลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยจึงไมไดรับอิทธิพล เราสามารถสรางใหเกิด สภาพเชนนี้ไดโดยการแพรซึมสารเจือปนชนิด n (โดเนอร) ใหไปเกาะติดที่พรมแดนใหมากที่สุด เทคโนโลยีที่สามารถลดจํานวนแขนขาดที่พรมแดนของเกรนที่ไดผลไดแก การใชไฮโดรเจนพลาสมา โดยการวางแผนผลึกโพลีซิลิคอนในเครื่อง plasma CVD ซึ่งมีสนามไฟฟากระตุนใหกาซไฮโดรเจนแตกตัวเปน พลาสมา อะตอมของไฮโดรเจนจะไปเกาะกับแขนขาดของซิลิคอน ทําใหจํานวนแขนขาดลดลงได [39-40] อีก วิธีหนึ่งไดแก การใชไอออนของไฮโดรเจนฝงเขาสูผิวของผลึก (ion implantation) [41] ตัวอยางเงื่อนไขที่ใชยิง ไอออนที่ไดผลคือ พลังงานไอออน 0.5-2 keV ความหนาแนนของกระแสไอออน 0.2-0.6 mA/cm2 ความ หนาแนนของการฝงไอออน 5×1017 cm-2
1.6.3 การทํางานของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกโพลีซิลิคอน เซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกโพลีซิลิคอนมีโครงสรางพื้นฐานเปนรอยตอ p-n และมีหลักการทํางาน เหมือนกับเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอน ประเด็นที่เซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกโพลีซิลิคอนมีความ แตกตางออกไปไดแก (1) มีเกรนอยูในผลึก พาหะขางนอยที่เกิดจากแสงจะถูกกักใหรวมตัวที่พรมแดนของเกรน (2) การเดินทางของพาหะขางมาก จะตองกระโดดขามกําแพงศักยที่โคงงอขึ้นที่พรมแดนของเกรน ทําใหความตานทานอนุกรมของเซลลมีคาสูงขึ้น (3) ความสูงของกําแพงศักยที่บริเวณพรมแดนของเกรน เปลี่ยนแปลงตามความเขมของแสงที่ตก กระทบ (4) เนื่องจากในกระบวนการผลิตลึกโพลี ใชเงื่อนไขใหความเร็วของการเติบโตของผลึกมีคาสูง ดังนั้นจึงทําใหจุดบกพรองภายในผลึกมีจํานวนมากดวย
1-57
นอกจากนี้ กรณี (1) ยังทําสงผลทําใหแรงดันไฟฟาวงจรเปดของเซลลแสงอาทิตยลดลงดวย และถา สภาพนําไฟฟาตามแนวพรมแดนมีคาสูง ก็จะทําใหความตานทานชันต (shunt resistance) ลดลง ซึ่งจะทําให ฟลลแฟกเตอรของเซลลแสงอาทิตยลดลงได ผลึกโพลีซิลิคอนที่ดีไมควรมีเกรนรูปรางสุม แตควรมีเกรนที่มีลักษณะเปนทอนยาว (column structure) ในทิศทางตามความหนาของแผนผลึก และเกรนทอนยาวนั้นตองไมมีการขาดตลอดความหนาของ แผนผลึก เกรนที่มีลักษณะเชนนี้จะทําใหความเร็วในการรวมตัวของพาหะที่พรมแดนมีคานอยกวากรณีเกรน รูปรางอื่นๆ โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกโพลีซิลิคอนที่กําลังไดรับความสนใจในปจจุบันมีดังตอไปนี้ (1) โครงสรางรูปอักษร “V” แสดงในรูปที่ 1.52 ที่ผิวดานรับแสงถูกเครื่องมือกลไสใหเปนรอง รูปอักษร “V” ดวยเหตุผลเพื่อตองการลดการสูญเสียอันเนื่องจากการสะทอนแสง ขนาดของพิตช 70 μm ลึก 70 μm ตอจากนั้นใชน้ํายาเคมีชนิดกรดและดางกัดผิวอีกครั้งเพื่อลดจํานวนของแขนขาดที่ผิว ขั้วไฟฟาดานรับ แสงใชขั้วโลหะชนิด MgF2 และเคลือบดวย SiO2 เพื่อลดการเกิดปฏิกิริยาตางๆ ดานหลังของเซลลใช Al เปน ขั้วไฟฟา ขั้วไฟฟาดานหนามีความกวาง 50 μm และพิตช 2.2 mm ประสิทธิภาพที่ไดสูงถึง 17% [42]
รูปที่ 1.52 โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกโพลีซิลิคอนที่ผิวมีโครงสรางรูปอักษร “V” [42] (2) โครงสรางขั้วไฟฟา 3 ขั้วแสดงในรูปที่ 1.53 ที่ผิวดานรับแสงมีขั้วลบ 1 ขั้ว ที่ผิวดานหลังมี ขั้วบวก 1 ขั้ว และมีขั้วลบอีก 1 ขั้ว สามารถรับแสงไดทั้งดานบนและดานลาง [43] (3) โครงสราง BSNSC แสดงในรูปที่ 1.54 มีฟลมซิลิคอนไนไตรดเคลือบทับทั้งที่ผิวดานหนาและ ดานหลัง (passivation) ฟลมซิลิคอนไนไตรดไดจากการแยกสลายกาซ SiH4 และ NH3 ดวยวิธี plasma CVD เนื่องจากใชกาซ H2 ผสมดวยปริมาณมาก ดังนั้นจึงมีผลการทําใหไฮโดรเจนไปเกาะที่แขนขาดของผลึกโพลี ซิลิคอนดวย การทําใหผิวดานหนาขรุขระ (textured) นั้นทําดวยวิธีทางโฟโตลีโทกราฟ ลวดลายของขั้วดานหนา มีขนาดเล็กมากและชั้นที่ใตขั้วเหลานั้นมีการโดปใหเปนชั้น n+ ทําใหมีประสิทธิภาพสูงถึง 16.4% พื้นที่เซลล แสงอาทิตยเทากับ 15 cm2 [44]
1-58
รูปที่ 1.53 โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกโพลีซิลิคอนที่มีขั้วไฟฟา 3 ขั้ว [43]
รูปที่ 1.54 โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกโพลีซิลิคอนชนิด BSNSC [44]
1-59
1.7 เซลลแสงอาทิตยชนิดอะมอรฟสซิลิคอน สิ่งประดิษฐออปโตอิเล็กทรอนิกสที่ผลิตจากสารกึ่งตัวนําชนิดอะมอรฟสซิลิคอน (a-Si:H) ที่มีการใช งานกันแพรหลายและรูจักกันมากที่สุดไดแก เซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ปจจุบันเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H มีการใชงานตั้งแตสําหรับผลิตกระแสไฟฟาใหเครื่องคิดเลขที่มีขนาดเล็กๆ ไปจนถึงการผลิต กระแสไฟฟาใหระบบสายสงกระแสไฟฟาปริมาณมากๆ เนื่องจากคุณสมบัติทางฟสิกสของ a-Si:H แตกตางไปจากกรณีของผลึกซิลิคอน (c-Si) ในหลายๆ ดาน เชน สัมประะสิทธิ์การดูดกลืนแสง ความคลองตัว แก็ปสเตต ฯลฯ ดังนั้นการออกแบบเซลลแสงอาทิตย ชนิด a-Si:H จึงตองแตกตางไปจากกรณีเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึก Si ในหัวขอนี้จะกลาวถึงพื้นฐานของ เซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ซึ่งไดแก หลักการทํางานพื้นฐาน การออกแบบ การประดิษฐ คุณสมบัติพื้นฐาน การปรับปรุงประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ตลอดจนจะกลาวถึงความกาวหนาในการพัฒนา และการใชงานเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ที่มีโครงสรางพิเศษตางๆ
1.7.1 ประวัติการพัฒนาเซลลแสงอาทิตยชนิดฟลมบางของ อะมอรฟสซิลิคอน เซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H มีขอดีเดนกวาเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึก Si หลายประการ เชน ผลิต จากวัสดุอะมอรฟสซิลิคอนซึ่งมีราคาถูกกวา ผลิตเปนฟลมบางไดจึงประหยัดวัสดุกวา ผลิตเปนพื้นที่ใหญๆ ได และมีน้ําหนักเบา เปนตน เซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ไดรับการพัฒนาขึ้นครั้งแรกโดย D. E. Carlson และ C. R. Wronski ที่บริษัท RCA ประเทศสหรัฐอเมริกา เมื่อ ค.ศ. 1976 [45-47] โดยเริ่มตนใชโครงสรางชอตตกีแบรเรียร และมีประสิทธิภาพประมาณ 2.4 % และตอมาพัฒนาเปนโครงสรางแบบ p-i-n หลังจากนั้นนักวิจัยจากหลาย แหงไดใหความสนใจปรับปรุงประสิทธิภาพใหดีขึ้นเรื่อยๆ ปจจุบันเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H มี ประสิทธิภาพสูงกวา 12% แลว [48-49] ทางดานภาคอุตสาหกรรมนั้น ใน ค.ศ. 1979 บริษัท Sanyo จํากัด ประเทศญี่ปุนเปนบริษัทแรกที่ไดผลิตเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H พื้นที่ 1 cm × 4 cm เพื่อประยุกตใชงาน ผลิตกระแส ไฟฟาใหกับเครื่องคิดเลขอิเล็กทรอนิกส หลังจากนั้นไดมีบริษัทตางๆ มากมายเริ่มผลิตเซลล แสงอาทิตยชนิด a-Si:H ใหมีขนาดใหญขึ้นดังตัวอยางในรูปที่ 1.55 และขณะนี้ไดมีการใชงานกวางขวางขึ้นทั้ง ในการผลิตไฟฟาใหผลิตภัณฑไฟฟาตางๆ และระบบไฟฟากําลัง สําหรับในประเทศไทย ปจจุบัน หนวยงานที่สามารถ
รูปที่ 1.55 ตัวอยางแผงเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ขนาดใหญ (ภาพเอื้อเฟอจากบริษัท Fujielectric จํากัด)
1-60
ประดิษฐเซลลแสงอาทิตยชนิดนี้ไดแลวไดแก หองปฏิบัติการวิจัยสิ่งประดิษฐสารกึ่งตัวนํา จุฬาลงกรณมหาวิทยาลัย [50-54]
1.7.2 คุณสมบัติดีเดนของเซลลแสงอาทิตยชนิดฟลมบางของอะมอรฟสซิลิคอน อะมอรฟสซิลิคอน (a-Si:H) มีคุณสมบัติดีเดนหลายขอที่ทําใหไดรับความสนใจในการนํามาผลิตเปน เซลลแสงอาทิตย คือ 1. a-Si:H มีคาสัมประสิทธิ์การดูดกลืนแสงที่สูงมากในยานยอดของสเปกตรัมของแสงอาทิตย (สูง 5 กวา 10 cm-1) ดวยเหตุนี้จึงทําใหเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ไมตองใชความหนามาก ความหนาโดยทั่วไป ของเซลลแสงอาทิตยชนิดนี้เพียง 0.5 μm ดังนั้นจึงชวยลดตนทุนการผลิตได 2. a-Si:H ผลิตดวยกรรมวิธีที่ใชอุณหภูมิต่ํา (200-250 °C) ทําใหประหยัดพลังงานในการผลิต และสามารถเคลือบเปนพื้นที่กวางใหญไดงาย 3. ชองวางพลังงานของ a-Si:H มีคาประมาณ 1.7-1.8 eV ซึ่งเปนคาที่ใกลกับคาพลังงานโฟตอน ของยอดของสเปกตรัมของแสงอาทิตย จึงเหมาะตอการใชงานเปนเซลลแสงอาทิตย 4. สามารถผลิตใหเปนเซลลแสงอาทิตยที่มีโครงสรางในลักษณะวงจรรวม (integrated-type) หรือ ซอนทับหลายชั้น (multi-layers) เพื่อใหไดแรงดันไฟฟาและประสิทธิภาพสูง โดยใชกรรมวิธีของการผลิต ฟลมบาง ทําใหชวยลดตนทุนการผลิตได 5. วัสดุเริ่มตนคือ ซิลิคอนและไฮโดรเจน เปนวัตถุดิบที่มีปริมาณมากบนพื้นโลกและราคาถูก
รูปที่ 1.56 ความสัมพันธระหวางตนทุนการผลิตเซลลแสงอาทิตยชนิดตางๆ และ ปริมาณการผลิตตอปของโรงงาน 1 แหง 6. สามารถโดป a-Si:H ใหเปนชนิด n และชนิด p ไดงาย โดยใชฟอสฟอรัสและโบรอนตามลําดับ 7. a-Si:H มีคาสภาพนําไฟฟาดวยแสงดี 8. สามารถใชวัสดุชนิดตางๆ เปนแผนฐานได เชน กระจก โลหะ เซรามิก พอลิเมอร ฯลฯ ทําให สามารถผลิตเซลลแสงอาทิตยที่มีรูปรางแปลกๆ ได หรือดัดใหโคงงอได
1-61
รูปที่ 1.56 แสดงความสัมพันธระหวางตนทุนการผลิตเซลลแสงอาทิตยชนิดตางๆ และปริมาณการ ผลิตตอปของโรงงาน 1 แหง จากรูปนี้จะเห็นวาเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H มีตนทุนการผลิตที่ต่ํากวาเซลล แสงอาทิตยชนิดอื่นๆ ถาโรงงานหนึ่งสามารถผลิตไดในปริมาณ 10 เมกะวัตตขึ้นไปตอป ก็จะทําใหตนทุน ลดลงต่ํากวา 1 ดอลลาร/วัตต ได [55-56] ในระยะชวงตนๆ ของการพัฒนาเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H มีปญหาเกี่ยวกับการเสื่อมลงของ ประสิทธิภาพ แตในชวง ค.ศ. 1995 เปนตนมาไดมีการปรับปรุงขอบกพรองนี้ใหดีขึ้นดวยการเสนอการผลิต เซลลแสงอาทิตยใหมีโครงสรางซอนทับหลายๆ ชั้น
1.7.3 พื้นฐาน เมื่อเราสองแสงที่มีพลังงานโฟตอนมากกวาชองวางพลังงาน (Eg) เขาสูสารกึ่งตัวนํา แสงนั้นจะถูก สารกึ่งตัวนําดูดกลืน และแสงจะกระตุนใหเกิดอิเล็กตรอนอิสระขึ้นในแถบคอนดักชันและเกิดโฮลอิสระขึ้นใน แถบเวเลนซ ปรากฏการณเชนนี้สังเกตไดจากการเพิ่มขึ้นของสภาพนําไฟฟาดวยแสง (photoconductivity) หรือกระแสไฟฟาโฟโต (photocurrent) ถาสารกึ่งตัวนํานั้นประกอบดวยรอยตอ p-n ซึ่งที่รอยตอนั้นจะมีความ ลาดของพลังงานศักยกลาวคือ ถามีแรงดันไฟฟาภายใน (built-in potential) อิเล็กตรอนอิสระและโฮลอิสระที่ ถูกผลิตดวยแสง ก็จะถูกแรงดันไฟฟาภายในนั้นพัดพาใหไหลไปในทิศทางตรงขามกัน (อิเล็กตรอนไหลสวน ทางกับทิศทางของสนามไฟฟา สวนโฮลไหลตามทิศทางของสนามไฟฟา) ทําใหประจุอิเล็กตรอนและโฮ ลแยกตัวออกจากกันและเปนผลใหเกิดแรงดันไฟฟาเอาตพุตขึ้นที่ปลายทั้งสองของรอยตอ p-n นี้ เราเรียก ปรากฏการณนี้วา ปรากฏการณโฟโตโวลทาอิก (photovoltaic effect) และเปนหลักการทํางานพื้นฐานของ เซลลแสงอาทิตย ประสิทธิภาพการทํางานของเซลลแสงอาทิตยถูกกําหนดโดยความเหมาะสมของลักษณะของสเปกตรัม ของแสงอาทิตยและขนาดของชองวางพลังงาน และสเปกตรัมของสัมประสิทธิ์การดูดกลืนแสงของสารกึ่งตัวนํา นอกจากนี้ เนื่องจากปรากฏการณโฟโตโวลทาอิกเปนปรากฏการณทางควอนตัมชนิดหนึ่ง ดังนั้นสเปกตรัมของ แสงอาทิตยที่กําลังกลาวถึงจึงไมไดหมายถึง radiative power spectrum แตหมายถึง photon flux spectrum สเปกตรัมของแสงอาทิตยที่วัดไดบนโลกเปลี่ยนแปลงไดตามเงื่อนไขตางๆ เชน ตําแหนงเสนรุง เสนแวง เวลา สภาพภูมิอากาศ และสภาพแวดลอมอื่นๆ และเนื่องจากรอบโลกมีชั้นบรรยากาศหอหุมอยู ดังนั้นแสงอาทิตย บางสวนจะถูกชั้นบรรยากาศดูดกลืนไวกอนที่จะเดินทางถึงพื้นผิวโลก หนวยมาตรฐานที่แสดงลักษณะ สเปกตรัมของแสงอาทิตยที่ใชกันในปจจุบัน มีชื่อเรียกวา Air Mass (ยอวา AM) การวัดสเปกตรัมเมื่อ แสงอาทิตยตกลงมาในแนวดิ่งเรียกวา AM1 ถาวัดในอวกาศมีคา AMO สเปกตรัมของแสงอาทิตยที่วัด บนโลกโดยมาตรฐานมีคา AM 1.5 รูปที่ 1.57 แสดงลักษณะสเปกตรัม AMO และ AM 1.5 พลังงานของ แสงอาทิตยที่มีอยูในสเปกตรัม AM1-1.5 มีคาประมาณ 100 mW/cm2 ดังนั้นถาเซลลแสงอาทิตยมีพื้นที่ 100 cm2 และมีประสิทธิภาพ 10% เราก็จะไดพลังงานไฟฟาจากเซลลแสงอาทิตยประมาณ 1 W
1-62
รูปที่ 1.57 สเปกตรัมการแผรังสีของแสงอาทิตยที่ AM0 และ AM1.5 ในกรณีที่เซลลแสงอาทิตยผลิตจากวัสดุ a-Si:H ซึ่งมีชองวางพลังงาน Eg ประมาณ 1.7 eV เรา สามารถคํานวณหาคาจํานวนสูงสุดของคูของอิเล็กตรอนและโฮลที่จะผลิตไดในเซลลแสงอาทิตยชนิดนี้ตอหนึ่ง หนวยพื้นที่และใน 1 วินาที ไดโดยการหาคาปริพันธของสเปกตรัมของแสงอาทิตยในบริเวณที่พลังงานโฟตอนมี คามากกวา 1.7 eV ขึ้นไป ซึ่งจะไดคาประมาณ 3×1019 cm-2S-1 ถาสมมติใหวาอิเล็กตรอนและโฮลทั้งหมด นี้สามารถกลายเปนกระแสไฟฟาโฟโต เราจะไดกระแสไฟฟาเอาตพุตประมาณ 22 mA/cm2 อยางไรก็ตาม พลังงานของคูอิเล็กตรอนและโฮลที่ถูกผลิตดวยโฟตอนที่มีพลังงาน hν จะมีคาไดสูงสุดก็เพียง Eg เทานั้น ดังนั้นพลังงานสวนเกินคือ hν-Eg ก็จะสูญเสียไปในรูปของความรอนซึ่งไมไดนํามาใชใหเปนประโยชน การ สูญเสียในลักษณะเชนนี้เรียกวา “voltage loss factor” ดังนั้นถาเราหารพลังงานของคูอิเล็กตรอนและโฮลคือ Eg ดวยประจุ q ก็จะไดแรงดันไฟฟาเอาตพุตสูงสุดที่จะไดจากเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H กลาวคือ ประสิทธิภาพสูงสุดของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ในอุดมคติจะมีคาประมาณ 22 (mA/cm2)×1.7 (V)/100 (mW/cm2) ซึ่งคือ 37% แตในทางปฏิบัติจริงๆ แรงดันไฟฟาเอาตพุตสูงสุดของเซลลแสงอาทิตยจะมีคาไมถึง Eg แตจะถูก กําหนดดวยคาแรงดันไฟฟาภายใน (built-in potential) ของรอยตอ p-n ยิ่งไปกวานี้ กระแสไฟฟา (J) ที่ ไหลในเซลลแสงอาทิตย นอกจากจะประกอบดวยกระแสไฟฟาโฟโต (Jph) ที่เกิดจากแสงแลวยังมี กระแสไฟฟาของรอยตอ (Jdi) ที่เกิดจากการมีการไบแอสดวยตนเอง (self-bias) และพาหะที่เกิดจากการ กระตุนดวยความรอนไหลในทิศทางตรงขามกับ Jph ดังนั้นคาสูงสุดของแรงดันไฟฟาและกระแสไฟฟา เอาตพุตที่กลาวขางตนจึงหมายความถึงคาสูงสุดของแรงดันไฟฟาวงจรเปด (Voc) และกระแสไฟฟาลัดวงจร (Jsc) ในการใชงานจริง พลังงานไฟฟาเอาตพุตสูงสุดในสภาพโหลดที่เหมาะสมที่สุดจะเปนผลคูณของ Voc และ Jsc และ FF (ฟลลแฟกเตอร: Fill Factor) ซึ่งเปนพารามิเตอรที่ถูกกําหนดดวยแหลงที่มาและคุณสมบัติ พิเศษของกระแสไฟฟาที่ไหลในเซลลแสงอาทิตย กระแสไฟฟาที่ไหลในเซลลแสงอาทิตยมีรูปแบบที่งายที่สุด ดังนี้ J (V ) = J ph − J 0 [exp(
qV nkT
) − 1]
(1.104)
โดยที่พจนแรกทางขวามือคือ กระแสไฟฟาโฟโต (photocurrent) และพจนที่สองทางขวามือคือ กระแสไฟฟา ของรอยตอ (junction current)
1-63
ถากระแสไฟฟาที่ไหลผานรอยตอทั้งหมดขึ้นกับกระบวนการแพรซึมและใชการคํานวณดวยทฤษฎีของ ผลึกรอยตอ p-n เราจะไดคาประสิทธิภาพในอุดมคติของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ซึ่งมีชองวางพลังงาน 1.7 eV ไดประมาณ 20-25%
1.7.4 หลักการทํางานของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H รอยตอ p-i-n จะไดกลาวถึงในภายหลังวา การทํางานของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ที่เปนจริงไมไดแสดงดวย สมการที่ (1.104) หรือถาแมวาจะยอมใหใชสมการที่ (1.104) แตในรายละเอียดจะตองคํานึงดวยวา Jph เปนฟงกชันของแรงดันไฟฟา และ J0 และ n ก็เปนฟงกชันของทั้งแรงดันไฟฟาและลักษณะสเปกตรัมและ ความเขมของแสงอาทิตย คุณสมบัติเชนนี้สามารถตรวจสอบไดจากการวัด “ประสิทธิภาพของการกวาดเก็บ พาหะ” (carrier collection efficiency) ซึ่งแสดงประสิทธิภาพของการเกิดกระแสไฟฟาโฟโตเมื่อ a-Si:H ถูก กระตุนดวยโฟตอน 1 ตัว วามีคุณสมบัติขึ้นกับการไบแอสดวยแรงดันไฟฟาจากภายนอกอยางไร ดังนั้นคา FF ของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H จึงมิไดขึ้นกับลักษณะสมบัติของกระแสไฟฟาของรอยตอในพจนที่ สองของสมการที่ (1.104) แตเพียงอยางเดียว แต FF นั้นจะขึ้นกับลักษณะสมบัติ (ของการขึ้นกับ แรงดันไฟฟา) ของ Jph ดวย ลักษณะสมบัติตางๆ เหลานี้ กลาวไดวาเปนหลักการพื้นฐานของการทํางานของ เซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ตอไป จะกลาวถึงลักษณะสมบัติพิเศษของการทํางานของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H โดยพิจารณา สิ่งที่กลาวมาแลวขางตน เริ่มแรกจะกลาวถึงโครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H และหนาที่การทํางานของแตละสวน หรือแตละชั้น วัสดุ a-Si:H สามารถโดปดวยสารเจือปนใหมีคุณสมบัติทางไฟฟาเปนชนิด n และ p ได แตการ โดป a-Si:H จะทําใหจํานวนหรือความหนาแนนของจุดบกพรอง (ซึ่งเปนศูนยกลางของการรวมตัว) เพิ่มขึ้น ดังนั้นแมจะนํา a-Si:H ชนิด p และ n มาสรางเปนรอยตอ ก็จะไมไดลักษณะสมบัติ p-n ของไดโอดที่ดีไดเลย ดวยเหตุนี้จึงตองหาวิธีแกไขโดยการใสชั้นวัสดุ a-Si:H ชนิดบริสุทธิ์ (undoped) เขาตรงกลางระหวางชั้น p และ n จึงทําใหเซลลแสงอาทิตยมีโครงสรางพื้นฐานเปนรอยตอ p-i-n ดังแสดงในรูปที่ 1.58 [57] ใน โครงสรางเชนนี้ ชั้น i ทําหนาที่เปนชั้นแอกทิฟ (active layer) ที่ผลิตกระแสไฟฟาโฟโต สวนชั้น p และ n ทํา หนาที่สรางแรงดันไฟฟาของรอยตอ กระแสไฟฟาโฟโตที่ไดจากรอยตอ p-i-n จะมีคามากนอยเพียงไรขึ้น
รูปที่ 1.58 โครงสรางพื้นฐานของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H กับความสามารถในการดูดกลืนแสงอยางมีประสิทธิภาพของชั้น i จากแนวความคิดที่จะพยายามใหแสงผาน เขาสูชั้น i มากที่สุดไดมีการพัฒนาวัสดุใหมสําหรับ ชั้น p และ n ที่มีชองวางพลังงานกวางกวาชองวางพลังงาน ของชั้น i เชน อะมอรฟสซิลิคอนคารไบด (a-SiC:H) และ ไมโครคริสตัลไลนซิลิคอน (μc-Si:H) นอกจากนี้เนื่องจากสภาพนําไฟฟาของชั้น p และ n ยังไมดีพอ ดังนั้นเพื่อลดการสูญเสียกระแสไฟฟาอัน
1-64
เนื่องจากความตานทานจึงไดมีการใชชั้นขั้วโปรงใสชนิด SnO2 และ ITO ฉาบไวดานหนาและใชโลหะ เชน Al, Ag ฉาบไวดานหลังของชั้น p-i-n แรงดันไฟฟาวงจรเปด Voc ของเซลลแสงอาทิตยมีรูปทั่วไปดังนี้ Voc = ∫
σ ph ( x ) σ D ( x ) + σ ph ( x )
E ( x ) dx
(1.105)
โดยที่ σph(x) คือสภาพนําไฟฟาดวยแสงที่ตําแหนง x σD(x) คือสภาพนําไฟฟามืดที่ตําแหนง x และ E(x) คือสนามไฟฟาภายในรอยตอ (internal electric field) ที่ตําแหนง x ถาหากวาในชั้น p และ n ให σph(x) << σD(x) และในชั้น i ให σph(x) >> σD(x) คาสูงสุดของ Voc จะหาไดโดยการหาคาปริพันธของ E(x) ดวย x ในชั้น i ทั้งหมด ซึ่งผลที่ไดก็จะเทากับผลตางของศักยที่ปลาย ทั้งสองขางของชั้น i นั่นเอง ศักยนี้เรียกวา แรงดันไฟฟาภายในประสิทธิผล (effective built-in potential) ถาใหชื่อยอวา Vb จากรูปที่ 1.59 เราจะไดสมการใกลเคียงของ Vb ดังนี้ q ⋅ Vb = ε g ( i ) − Δε n − Δε p + δ n + δ p − ΔΦ n − ΔΦ p
โดยที่
ε g (i )
Δε p , Δε n
δn δp ΔΦn , ΔΦ p
(1.106)
คือ ชองวางพลังงานของชั้น i คือ พลังงานแอกทิเวชัน (activation energy) ของสภาพนําไฟฟาของชั้น p และ n ตามลําดับ คือ ความสูงของกําแพงศักยของแถบคอนดักชันที่รอยตอของ n/i คือ ความสูงของกําแพงศักยของแถบเวเลนซที่รอยตอของ p/i คือ พารามิเตอรที่มีคาเปนบวกและขึ้นกับการคุณสมบัติโอหมิกระหวางชั้น n กับขั้วโลหะ และ ชั้น p กับขั้วโปรงใสตามลําดับและจะมีคาเขาหาศูนยเมื่อชั้น n และ p หนาขึ้น
สมการที่ (1.106) ชี้แนะใหเราทราบวา เราสามารถเพิ่ม Vb หรือ Voc ใหมากขึ้นไดโดยการลดคา Δε p , Δε n และเพิ่มความหนาของชั้น p และ n สําหรับทางดานผลของการมีกําแพงศักยที่รอยตอของ p/i หรือ i/n ในรอยตอชนิดเฮเทโรนั้นจากสมการที่ (1.106) ก็ชี้ใหเราทราบวาการเกิดกําแพงศักยในลักษณะที่กีด ขวางการไหลของพาหะที่ถูกผลิตดวยแสง จะทําให Vb มีคามากขึ้น สวนการเพิ่มความหนาของชั้น p และจะ เปนสาเหตุของการเพิ่มการสูญเสีย (optical absorption loss) ของการดูดกลืนแสงในชั้น p และ n ดังนั้นใน
รูปที่ 1.59 แถบพลังงานของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H รอยตอ p-i-n
1-65
การออกแบบคาพารามิเตอรของชั้น p และ n (เชน ชองวางพลังงานและความหนา) นั้นจึงตองดูความ เหมาะสมทั้งดานคาของ Vb และ Jsc การทํางานของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H นั้นกลาวโดยสรุปแลว คือ ภายใตแรงดันไฟฟาภายใน พาหะที่ถูกสรางดวยแสงในชั้น i นั้นจะตองถูกกวาดใหไหลไปยังขั้วทั้งสองของเซลลแสงอาทิตย ปจจุบันเปนที่ ทราบกันดีวาความหนาที่เหมาะสมที่สุดของชั้น i ในรอยตอ p-i-n คือประมาณ 0.5-1 μm ดังนั้นเราอาจ สมมติใหไดวา สนามไฟฟาในชั้น i นั้นมีความสม่ําเสมอตลอด เพราะฉะนั้นการขนสงและการกวาดรวบรวม พาหะที่ถูกผลิตดวยแสงจึงขึ้นกับอิทธิพลของการพัดพาดวยแรงดันไฟฟาภายในมาก กลาวคือ ขนาดและ ลักษณะการแจกแจงของแรงดันไฟฟาภายในนี้มีความสําคัญตอการทํางานของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H มาก และนี้คือ เหตุผลที่ทําใหกระแสไฟฟาโฟโต Jph ในสมการที่ (1.104) เปนฟงกชันของแรงดัน V รูปที่ 1.60 แสดงการเปรียบเทียบอิทธิพลของแรงดันไฟฟาที่มีตอกระแสไฟฟาโฟโตของ (ก) เซลล แสงอาทิตยชนิดผลึก Si และ (ข) เซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H โดยในกรณีเซลลชนิด a-Si:H นี้ไดสมมติ ใหวาแรงดันไฟฟาภายใน (built-in potential) มีคาสม่ําเสมอตลอดชั้น i และการรวมตัวของพาหะเกิดขึ้น เฉพาะในชั้น i ดวยอัตราที่แปรผันตรงกับความหนาแนนของพาหะ ลักษณะการขึ้นกับแรงดันไฟฟาของกระแสไฟฟาโฟโตภายใตสภาพการดูดกลืนแสงที่สม่ําเสมอตลอด ชั้น i ในเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H แสดงไดดังนี้
รูปที่ 1.60 ความแตกตางของลักษณะสมบัติกระแสไฟฟาและแรงดันไฟฟาของเซลลแสงอาทิตยชนิด ผลึก Si และชนิด a-Si:H J ph ∝ V [1 − e
โดยที่
V di
μ
−1 / v
]
(1.107)
: normalized voltage ซึ่งใหนิยามวา V = μτ (Vb − v ) / d 2 : ความหนาของชั้น i v : แรงดันไฟฟาที่ไบแอสใหกับเซลลแสงอาทิตย : ความคลองตัวของพาหะ τ : เวลาอายุของพาหะ
คุณสมบัติพิเศษของสารกึ่งตัวนําอะมอรฟสคือ การมีระดับโลคอไลซสเตต (localized states) แพรกระจายอยูจํานวนมากภายในชองวางพลังงาน ระดับโลคอไลซสเตตเหลานี้มีคุณสมบัติเปนศูนยกลางของ การรวมตัวของพาหะ และคุณสมบัติที่ยุงยากไปกวานี้คือ เมื่อเราสองแสงเขาสู a-Si:H จะทําใหคุณสมบัติ ตางๆ เชน ความหนาแนนของอิเล็กตรอนและโฮล การแจกแจงจํานวนของของโลคอไลซสเตต และพื้นที่ของ การจับพาหะ (carrier capture cross section) เกิดการเปลี่ยนแปลงดวย
1-66
ผลคูณของ μτ มีความหมายทางฟสิกสที่แตกตางไปจาก μτ ที่ไดจากการวัดสภาพนําไฟฟาดวยแสง (photoconductivity) กลาวคือ μτ ที่ไดจากการวัดสภาพนําไฟฟาดวยแสงนั้นไดจากเงื่อนไขที่วา จํานวนของ อิเล็กตรอนและโฮลนั้น มีคาสม่ําเสมอตลอดเนื้อวัสดุและเปนคาที่แสดงพฤติกรรมการขนสงและการรวมตัวของ พาหะขางมากภายใตการถูกสองดวยแสง สวนในเซลลแสงอาทิตยนั้นมีขอแตกตางกันมาก เชน ภายใตการถูก สองดวยแสง จํานวนหรือความหนาแนนของอิเล็กตรอนและโฮลในเซลลแสงอาทิตยมีการแจกแจงแบบไม สม่ําเสมอ อีกทั้งอัตราการรวมตัวก็ไมสม่ําเสมอดวย สมการที่ (1.107) นี้กลาวไดวาเปนเพียงคาใกลเคียง (semi-quantity) เทานั้น และคา μτ ที่ปรากฏจึงเปรียบเสมือนเปนพารามิเตอรใกลเคียง (quasi-parameter) ที่แสดงปรากฏการณโฟโตโวลทาอิกในรอยตอของ a-Si:H เทานั้น แตอยางไรก็ตามแมวาสมการที่ (1.107) หรือแบบจําลองของกระแสไฟฟาของรอยตอที่ไดจากสมการที่ (1.107) จะมีรูปแบบที่งายๆ ก็ตาม แตก็เปน สมการที่มีความหมายมากสําหรับการวิเคราะหและหาคาพารามิเตอรที่เหมาะสมในการออกแบบเซลล แสงอาทิตยชนิด a-Si:H ในทางปฏิบัติ ถาเราจะสรุปกระบวนการสําคัญๆ ที่มีอิทธิพลตอการทํางานของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H รอยตอ p-i-n จะไดดังนี้ ประการแรก ในสภาวะสมดุลเชิงความรอน ลักษณะของสนามไฟฟาในรอยตอ p-i-n ถูกกําหนด ดวยคุณสมบัติทางอิเล็กทรอนิกและการแจกแจงระดับโลคอไลซสเตตในชั้น p, i และ n และคุณสมบัติของขั้ว โปรงใสและขั้วโลหะ และคุณสมบัติรอยตอ (interface) ของชั้นตางๆ เหลานี้ เมื่อเซลลแสงอาทิตยถูกสอง ดวยแสงอาทิตย พาหะสวนเกินของอิเล็กตรอนและโฮลจะถูกผลิตขึ้น และพาหะเหลานี้จะเคลื่อนที่ดวยการ แพรซึม (diffusion) หรือพัดพา (drift) ดวยสนามไฟฟา ซึ่งเปนเหตุใหเกิดการกระจายของอิเล็กตรอนและ โฮลในสภาวะไมสมดุลเชิงความรอน ประการที่สอง ในจํานวนพาหะที่ถูกผลิตดวยแสงนั้น พาหะบางตัวจะถูกกักหรือรวมตัวกันที่ระดับ พลังงานของโลคอไลซสเตตในชั้น p, i และ n หรือในรอยตอระหวางชั้นอะมอรฟสดวยกันหรือที่ระหวางชั้น อะมอรฟสกับขั้วไฟฟา ทําใหอัตราการครอบครอง (capture rate) ของโลคอไลซสเตตเปลี่ยนแปลงไปและจะทํา ใหการแจกแจงประจุปริภูมิ (space charge) เปลี่ยนแปลงไป ซึ่งสงผลทําใหลักษณะของสนามไฟฟาในชั้น i เปลี่ยนแปลง และการเปลี่ยนแปลงของสนามไฟฟานี้จะมีอิทธิพลตอไปถึงกระบวนการขนสงของอิเล็กตรอน และโฮล การที่จะรักษาไวซึ่งเงื่อนไขความสมดุลของพาหะ จึงตองมีการเปลี่ยนแปลงการแจกแจงพาหะ สวนเกินที่เกิดขึ้นทั้งจากการกระตุนดวยแสงและดวยความรอน จากผลของการหมุนเวียนของกระบวนเหลานี้ ทําใหเกิดการแจกแจงอิเล็กตรอนและโฮลในสภาวะคงที่และมีกระแสไฟฟาเอาตพุตไหลในลักษณะที่เปน ฟงกชันของความยาวคลื่นและความเขมของแสงและเปนฟงกชันของสภาพของโหลดที่ตอภายนอกดวย ดังนั้น กระแสไฟฟาโฟโตในสมการที่ (1.104) จึงมีสวนเกี่ยวของกับกระแสไฟฟาของรอยตอมาก จากที่กลาวมาทั้งหมด จะเห็นไดวากลไกการทํางานของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H นั้นมีความ ยุงยากสลับซับซอนมาก การที่จะคาดคะเนหรือคํานวณเกี่ยวกับประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยหรือทํา อยางไรจึงจะไดเซลลแสงอาทิตยที่มีประสิทธิภาพสูง เราจําเปนที่จะตองทราบขอมูลอยางละเอียดเกี่ยวกับ คุณสมบัติทางอิเล็กทรอนิกของวัสดุฟลมตระกูล a-Si:H
1-67
1.7.5 ปรากฏการณโฟโตโวลทาอิกชนิดพัดพาในเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H รอยตอ p-i-n ในหัวขอนี้จะกลาวถึงขอแตกตางในการออกแบบเซลลแสงอาทิตยชนิดรอยตอ p-n ของผลึกเดี่ยว Si และชนิดรอยตอ p-i-n ของ a-Si:H และจะพิจารณากลไกของการกําเนิดพาหะดวยแสง (photocarrier generation) และกระบวนการรวมตัวของพาหะ (recombination process) ในเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H รอยตอ p-i-n หลังจากนั้นจะอธิบายขีดจํากัดของประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยดวยการคํานวณถึง ลักษณะของการแจกแจงประจุปริภูมิในรอยตอ p-i-n โดยทั่วไปการทํางานของเซลลแสงอาทิตย ประกอบดวยกระบวนการหลัก 2 อยางคือ 1) การผลิตคูพาหะดวยการดูดกลืนแสงระหวางแถบพลังงานในสารกึ่งตัวนํา 2) การแยกหรือกวาดพาหะดวยสนามไฟฟาที่เกิดขึ้นภายในเซลลแสงอาทิตย สนามไฟฟาภายใน (internal field) ของเซลลแสงอาทิตย สามารถสรางขึ้นไดโดยการประดิษฐเซลล แสงอาทิตยใหมีรอยตอชนิดตางๆ เชน p-n หรือ p-i-n หรือ เฮเทโร หรือ ชอตตกีแบรเรียร เปนตน นอกจากนี้จะมีขั้วโอหมิกตอกับวงจรภายนอกเพื่อสงพลังงานไฟฟาที่ผลิตไดออกสูวงจรภายนอก และทาง ดานรับแสงมักจะมีวัสดุปองกันการสะทอนแสงเคลือบไวดวย รูปที่ 1.61 แสดงกระบวนการตางๆ ในเซลล แสงอาทิตยและตัวอยางโครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิดตางๆ ในเซลลแสงอาทิตยชนิดรอยตอ p-n ความ หนา แนนของกระแสไฟฟาเอาตพุตลัดวงจรขณะมีแสง (Jsc) สามารถคํานวณไดจากความหนาแนนของโฟ ตอนฟลักซ Φ(λ) (photon flux density) และสัมประสิทธิ์การสะทอนแสงที่ผิวหนา (R) ของสารกึ่งตัวนํา คือ [58]
รูปที่ 1.61 กลไกการทํางานตางๆ ในเซลลแสงอาทิตยและตัวอยางโครงสรางตางๆ ของเซลลแสงอาทิตย
1-68
J sc =
hc / ε g
∫0
q(1 − R )Φ( λ ) ⋅ J tot dλ
(1.108)
โดยที่ Jtot คือ ความหนาแนนรวมของกระแสไฟฟาซึ่งมีคาเทากับอัตราสวนของความหนาแนนของพาหะที่เกิด จากแสงตอโฟตอนฟลักซ Jtot ประกอบดวย 3 สวนดังนี้ p
n
J tot = J df + J df + J dr
โดยที่
p
J df n J df
Jdr
: ความหนาแนนของกระแสไฟฟาที่เกิดจากโฮลที่ถูกผลิตดวยแสงในบริเวณชั้นหนาตางชนิด p : ความหนาแนนของกระแสไฟฟาที่เกิดจากอิเล็กตรอนที่แพรกระจายเขาไปในชั้น p และ : กระแสไฟฟาชนิดพัดพา (drift current) ที่ไหลในชั้น i
กระแสไฟฟาชนิดแพรซึมสามารถคํานวณไดจากกฎของ Lampart ตัวนําดังนี้ p
J df = =
และ
(1.109)
n
J df =
เมื่อมีการดูดกลืนแสงในสารกึ่ง
∫0 αγ exp(−αx ) exp( dL−p x )dx d
(1.110)
⎪⎧ ⎪⎫ d ⎨ exp( − ) − exp( −αd ) ⎬ Lp α − 1 / L p ⎪⎩ ⎪⎭
αγ
αγ exp( −αd ) α + 1 / Lp
(1.111)
รูปที่ 1.62 แสดงการเปรียบเทียบลักษณะของแถบพลังงานและการเปรียบเทียบกลไกการกวาดเก็บ พาหะใน (ก) เซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยว Si รอยตอ p-n และใน (ข) เซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H รอยตอ p-i-n เนื่องจากวัสดุ a-Si:H มีระยะทางการแพรซึม (diffusion length) ที่สั้นมากและมีสัมประสิทธิ์การ ดูดกลืนแสงที่สูงมาก ดังนั้นกลไกการทํางานของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึก Si และชนิด a-Si:H จึงมีขอ แตกตางกันที่เห็นไดชัดคือ n + J p >> J กรณีของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึก Si รอยตอ p-n: J df dr df กรณีของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H รอยตอ p-i-n:
p
n + J J df df << J dr
จากรูปที่ 1.62 (ก) และ (ข) ความแตกตางที่เห็นไดชัดระหวางเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึก Si รอยตอ p-n และเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H รอยตอ p-i-n คือ ใน a-Si:H รอยตอ p-i-n นั้นมีสนาม
1-69
รูปที่ 1.62 เปรียบเทียบลักษณะของแถบพลังงานของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึก Si และชนิด a-Si:H ไฟฟาที่มีคาสูงในชั้นแอกทิฟ (ชั้น i) สวนใน Si รอยตอผลึก p-n นั้น ชั้นแอกทิฟนั้นมีความหนาเทากับ ผลรวมของระยะทางการแพรซึมของ Lp+ Ln และในชั้นแอกทิฟนั้นจะไมมีสนามไฟฟา
1.7.6 กระบวนการผลิตพาหะดวยแสงในเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H รอยตอ p-i-n กระบวนการผลิตพาหะดวยแสง (photo-carrier generation process) ที่สําคัญในเซลลแสงอาทิตย ชนิด a-Si:H มี 3 ขั้นตอนดังแสดงในรูปที่ 1.63 ดังนี้ (a) การดูดกลืนแสงดวยการเปลี่ยนสถานะของอิเล็กตรอนจากแถบเวเลนซไปสูแถบคอนดักชัน (optical absorption) (b) การแยกคูอิเล็กตรอนและโฮลออกจากกันใหเปนพาหะอิสระ (free carrier generation) และ (c) กระบวนการขนสงพาหะอิสระดวยวิธีพัดพา (drift) และ/หรือวิธีแพรซึม (diffusion)
1-70
รูปที่ 1.63 กระบวนการผลิตพาหะดวยแสงในเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ถาให Φ( x , hω ) คือความหนาแนนของโฟตอนฟลักซของแสงที่มีพลังงาน hω ที่ตําแหนง x ในชั้น i การดูดกลืนแสงในชั้น i จะมีคา −∂Φ( x , hω ) / ∂x ตอไปจะกําหนดให PG ( x , hω ) คือความนาจะเปนของการผลิตพาหะอิสระ ฟงกชันนี้มีความหมาย ที่แสดงความสามารถของการแยกอิเล็กตรอนและโฮลที่กําลังถูกดึงดูดซึ่งกันและกันดวยแรงคูลอมบใหออกจาก กัน จากการคํานวณของ D. M. Pai และ R. C. Enck โดยอาศัยทฤษฎีของออนซาเจอร (Onsager) ไดผลวา PG มีรูปดังนี้ PG ( x , hω ) =
kBT qr0 ∞
×
∑
E ( x)
( r0 / rc )
−1
∞
m
⋅
m!
m= 0
⋅ exp( − rc / r0 ) ⋅ exp( − ∞
∑ ∑
(
qr0 E ( x ) kBT
n = 0 l = m+ n +1
)
qr0 kBT l
E ( x ))
1
(1.112)
l!
: สนามไฟฟาที่ตําแหนง x 2 rc : รัศมีของออนซาเจอร (Onsager radius) และมีคาเทากับ q / 4πx 0 xk B T r0 ( hω ) : ระยะทางผอนคลายเชิงความรอน (thermalization distance) ของคูอิเล็กตรอนและโฮลที่ เกิดจากแสงใน a-Si:H ถาให x = 12 จะไดวา rc = 46 ล D. M. Pai และ R. C. Enck เปนนักวิจัยกลุมแรกที่ไดคํานวณอิทธิพลของสนามไฟฟาที่มีตอ PG ใน วัสดุอะมอรฟสซีลีเนียม [59] และการคํานวณในกรณีของวัสดุ a-Si:H ก็ไดมีการดําเนินการโดยนักวิจัยหลาย กลุม เชน กลุมมหาวิทยาลัยโอซากา [60] และกลุมของบริษัท Xerox [61] ซึ่งผลการคํานวณก็ใหผลคลายกัน รูปที่ 1.64 แสดงผลการคํานวณโดย H. Okamoto และ Y. Hamakawa จากมหาวิทยาลัยโอซากา [60] ในการ คํานวณสมการที่ (1.112) ไดคํานวณถึง E ยกกําลัง 100 โดยไดใชอนุกรมดังนี้ โดยที่
E(x)
PG ( x , hω ) = exp( − rc / r0 ) ⋅ (1 + +(
q
3
kBT
+(
) ⋅
q kBT
)
1
2
4!
100
q
1
k BT 2!
rc ( r0 − r0 rc +
⋅(
1 101!
+(
rc ) E
1 6
2
rc ) E
rc (...........)) E
1-71
3
q kBT
2
) ⋅
1
1 2 rc ( rc − r0 ) E 3! 2
+................................................
100
(1.113)
กระบวนการที่ 3 ในการทํางานของเซลลแสงอาทิตย คือประสิทธิภาพของการกวาดเก็บพาหะที่เกิด จากแสง (photocarrier collection efficiency) พาหะที่กวาดเก็บไดนี้ จะกลายเปนกระแสไฟฟาเอาตพุตของ เซลลแสงอาทิตย เราจะทราบประสิทธิภาพของการกวาดเก็บพาหะไดก็ตอเมื่อเราทราบวา ในจํานวนของ พาหะโฟโตที่เกิดจากแสงทั้งหมดนั้น มีจํานวนเทาไรที่หลุดพนจากการรวมตัวกันชนิดเจมิเนต (geminate recombination) นอกจากนี้ ประสิทธิภาพของการกวาดเก็บพาหะก็ขึ้นกับสนามไฟฟาภายในเซลลแสงอาทิตย (E) และระยะทางการแพรซึม (L) ดวย
รูปที่ 1.64 ความสัมพันธระหวางความนาจะเปนของการผลิตพาหะอิสระและสนามไฟฟา พารามิเตอร
r0
คือระยะทางผอนคลายเชิงความรอน
ใน a-Si:H ชนิดบริสุทธิ์ เนื่องจากความคลองตัวและระยะทางการแพรซึมของโฮลมีคานอยของ อิเล็กตรอนมาก [62] ดังนั้นจึงอาจกลาวไดวา ปรากฏการณขนสงพาหะที่ถูกผลิตดวยแสงนั้นจะถูกจํากัดดวย การรวมตัวของโฮล รูปที่ 1.65 แสดงตัวอยางการขึ้นกับความหนาของชั้น i ของประสิทธิภาพของการกวาดเก็บพาหะใน เซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H รอยตอ p-i-n โดยไดเปรียบเทียบใหเห็นถึงความแตกตางในกรณีที่มีการสอง แสงเขาทางดานชั้น p และสองเขาทางดานชั้น n การสองแสงเขาทางดานชั้น n จะทําใหโฮลที่ถูกผลิตขึ้น บริเวณใกลรอยตอของ i/n ตองเดินทางไกลจึงจะไปถึงชั้น p ดังนั้นเมื่อชั้น i หนาขึ้น โฮลจึงถูกรวมตัวกับ อิเล็กตรอนและตายกอนที่โฮลจะเดินทางไปถึงชั้น p ดังนั้นประสิทธิภาพของการกวาดเก็บพาหะในเซลล แสงอาทิตยในกรณีที่สองแสงเขาทางดานชั้น n จึงมีนอยกวาการสองแสงเขาทางดานชั้น p ความนาจะเปนของการกวาดเก็บพาหะ Pc(x) มีคาดังนี้ [58]
โดยที่
Pc ( x ) = (1 +
g ( 0)
f ( x ) = exp(
1
Lp Lp
∫0
x
f ( u ) du)
−1
(1.114)
∫0g (u)du) x
2 1/ 2
g ( x ) = (1 + r ( x ) )
− r ( x ), r ( x ) =
1-72
qL p 2k B T
⋅ E ( x)
รูปที่ 1.65 การขึ้นกับความหนาของชั้น i ของประสิทธิภาพการกวาดเก็บพาหะในเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H โดยเปรียบเทียบใหเห็นความแตกตางในกรณีสองแสงเขาทางดานชั้น p และ n จากสมการตางๆ ขางตน ประสิทธิภาพของการกวาดเก็บพาหะ η c (hω ) แสดงไดดังนี้ d
∂
0
∂x
η c ( hω ) = ∫ i PG ( x , hω ) Pc ( x ) ⋅ [ −
1-73
Φ( x , hω )]dx
(1.115)
1.7.7 เทคนิคการผลิตเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H รอยตอ p-i-n ใน ภาคปฏิบัติ โครงสรางพื้นฐานของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H รอยตอ p-i-n ที่เคลือบบนแผนกระจกไดแสดง ไวแลวในรูปที่ 1.66 เทคนิคในการออกแบบเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H นั้น จะตองคํานึงถึงความ เหมาะสมในการผลิตชั้นตางๆ ดังจะไดกลาวตอไปนี้ [52, 69]
รูปที่ 1.66 ผลการวัด Auger electron spectroscopy เพื่อหาคาปริมาณของอะตอมตางๆ ตาม ความลึก ในรูปบนพบวาถาชั้น SnO2 บาง จะมีอะตอมของ In ซึ่งหลุดจากชั้น ITO เขาไปสูชั้น a-SiC:H สวนรูปลางจะเห็นวาถาชั้น SnO2 หนาเพียงพอ จะไมมี อะตอมของ In เขา ไปสูชั้น a-SiC:H
ขั้วไฟฟาโปรงใส แผนฐานสําหรับเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H อาจเปนแผนกระจกก็ไดหรือแผนเหล็กกลาไรสนิมก็ ได และไมวาจะใชแผนฐานชนิดใด ยอมจะตองมีขั้วไฟฟาโปรงใสเสมอ ตัวอยางในกรณีที่ใชแผนกระจกเปน แผนฐาน นิยมใชฟลมบาง 2 ชั้นของ ITO/SnO2 เปนขั้วไฟฟาโปรงใสและมีรายละเอียดดังนี้ 1. ฟลมบางชนิด SnO2 มีราคาถูก แตมีสภาพความตานทานไฟฟาสูงกวา ITO 2. ฟลมบาง ITO เปนสารประกอบของ SnO2 และ In2O3 โดยมีอัตราสวนน้ําหนักของ Sn:In เทากับ 5:95 โดยประมาณ ITO มีสภาพตานทานไฟฟาต่ํากวา SnO2 แตราคาแพง 3. โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยคือ แผนกระจก/ITO/SnO2/p-i-n-a-Si:H/Al 4. การที่ตองใชขั้วไฟฟาโปรงใสถึงสองชั้นเชนนี้มีเหตุผลคือ ถา SnO2 มีความหนามากกวา 20 nm จะชวยกันไมใหอะตอมของ In จาก ITO หลุดออกแลวแพรซึมเขาไปในชั้น a-Si:H เพราะการแพรซึมของ In เขาสูชั้น a-Si:H จะทําใหประสิทธิภาพโดยเฉพาะอยางยิ่ง Voc ลดลง [70-71] 5. คุณสมบัติพื้นฐานของขั้วไฟฟาโปรงใสเหลานี้ที่จําเปนคือ ควรโปรงใสมากๆ และนําไฟฟาไดดี และในขณะเดียวกันก็ควรเปนชั้นปองกันการสะทอนแสงดวย (antireflection layer)
1-74
6. นอกจากนี้ ในการใชงานก็ควรเลือกความหนาที่เหมาะสม โดยพิจารณาจากสัมประสิทธิ์การ สะทอนแสง เนื่องจากความสามารถสูงสุดในการผลิตและกวาดเก็บพาหะอยูในชวง 500-550 nm ดังนั้น ความหนาของขั้วไฟฟาโปรงใสควรมีคาเปน 1/4 หรือ 3/4 ของความยาวคลื่นแสง เชน 70 nm หรือ 200 nm สิ่งที่ควรระวังคือถาฟลมบางเกินไปจะทําใหความตานทานแผนมีคาสูง ตัวอยางเชน ถา SnO2 หนา 20 nm และ ITO หนา 50 nm จะมีความตานทานแผน (sheet resistance) ประมาณ 40-50 Ω/ หรือถา SnO2 หนา 20 nm และ ITO หนา 180 nm จะมีความตานทานแผนนอยกวา 10 Ω/ 7. ในปจจุบัน เนื่องจาก นิยมผลิตชั้น p จากวัสดุไมโครคริสตัลไลนซิลิคอน (p-μc-Si:H) หรือ อะมอรฟสซิลิคอนคารไบด (a-SiC:H) ซึ่งดัชนีหักเหแสงมีคาอยูระหวางดัชนีหักเหแสงของขั้วไฟฟาโปรงใส และชั้น i พอดี ดังนั้นจึงชวยลดการสะทอนแสงที่ผิวของชั้น i ได 8. นอกจากนี้การทําใหผิวของแผนกระจกมีสภาพเปนผิวขรุขระ (textured) ดวยวิธีทางเคมี และทํา ใหผิวของ ITO/SnO2 ขรุขระ ก็จะชวยทําใหแสงเดินทางเขาสูชั้นอะมอรฟสไดมากขึ้น และแสงสามารถเดินทาง ในชั้นอะมอรฟสไดไกลขึ้นซึ่งจะทําใหกระแสไฟฟาเอาตพุตเพิ่มขึ้น
ชั้น p ทําหนาที่เปนขั้วสรางแรงดันไฟฟาภายใน เชนเดียวกับชั้น n แตเปนที่นาเสียดายที่มีคาสภาพนํา ไฟฟาดวยแสงต่ํามาก ดังนั้นชั้น p จึงไมไดมีสวนชวยในการผลิตพาหะดวยแสงเทาไรนัก เรานิยมเรียกชั้น p วา ชั้นตาย (dead layer) ถาผลิตชั้น p จากวัสดุ a-Si:H ซึ่งโดปดวยโบรอนและมีชองวางพลังงานแคบ ควร ออกแบบใหชั้น p-a-Si:H บางที่สุด แตอยางไรก็ตามถาชั้น p บางมากเกินไป ก็จะทําใหแรงดันไฟฟาวงจร เปดลดลงดวย ในปจจุบันนิยมใช p-a-SiC:H ที่มีชองวางพลังงานประมาณ 2 eV หรือ p-μc-Si:H เปนหนาตาง กวางรับแสง ซึ่งจะชวยเพิ่มทั้งกระแสไฟฟาลัดวงจร แรงดันไฟฟาวงจรเปดและฟลลแฟกเตอร ตามปกติ ความหนาของ p-a-SiC:H ที่เหมาะสมคือประมาณ 150 ล
ชั้น i คุณสมบัติพื้นฐานของ a-Si:H ชนิด i (undoped a-Si:H) นี้จะมีอิทธิพลและผลตอประสิทธิภาพของ เซลลแสงอาทิตยมาก จากประสบการณ เงื่อนไขการผลิต i-a-Si:H ที่มีแก็ปสเตตนอยคือ ควรใชกําลังไฟฟา ในการแยกสลายกาซใหต่ําๆ และใชกาซไซเลนดวยอัตราการไหลที่มากๆ เพื่อใหไดอัตราการเติบโตของฟลม ประมาณ 1 μm ตอชั่วโมง อุณหภูมิแผนฐานที่เหมาะสมคือประมาณ 200-250 °C แมวาในกระบวนการผลิตชั้น i-a-Si:H จะไมไดโดป i-a-Si:H แตผลที่ไดคือ จะไดฟลม i-a-Si:H ที่มีคุณสมบัติเปนชนิด n แบบออนเสมอ เพราะระดับพลังงานเฟรมีของ i-a-Si:H ไมไดอยูกึ่งกลางชองวาง พลังงาน แตจะอยูในตําแหนงที่คอนไปทางแถบคอนดักชัน การเติมโบรอนบางเล็กนอย (เชนประมาณ 1 ppm) จะทําใหระดับพลังงานเฟรมีเคลื่อนมาอยูตรงกลางชองวางพลังงานพอดี และจะทําใหสนามไฟฟาในชั้น i มีคาเพิ่มขึ้น และประสิทธิภาพเพิ่มขึ้น [72]
ชั้น n ไมโครคริสตัลไลนซิลิคอนชนิด n (n-μc-Si:H) มีคุณสมบัติที่เหมาะสมในการใชงานเปนชั้น n สําหรับเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H มาก ทั้งนี้เพราะวา n-μc-Si:H มีคุณสมบัติที่เดนดังนี้ 1. ระดับพลังงานเฟรมีของ μc-Si:H ชนิด n อยูใกลแถบคอนดักชันมาก และสภาพนําไฟฟาก็มีคา สูงมาก (1-10 S.cm-1) จึงทําใหแรงดันไฟฟาเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยมีคามากขึ้น
1-75
2. ชองวางพลังงานของ n-μc-Si:H มีคาประมาณ 1.9 - 2.0 eV ซึ่งกวางกวาของ n-a-Si:H จึงมี ความโปรงใสดีและชวยใหแสงที่สะทอนจากขั้วโลหะดานหลังกลับเขาสูชั้น i ไดดีขึ้น ทําใหไดกระแสไฟฟา เอาตพุตมากขึ้น 3. เนื่องจาก n-μc-Si:H มีคาสภาพนําไฟฟาสูง จึงสรางขั้วไฟฟาโอหมิกชนิด Al ไดงาย เงื่อนไขของการปลูกฟลมบางชนิด μc-Si:H ไดแก การใชกําลังไฟฟาสูงๆ ในการแยกสลายกาซ SiH4 และผสมดวยกาซ H2 ที่อัตราสวนสูงมากๆ [73-74]
1.7.8 การปรับปรุงประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ดวย รอยตอเฮเทโรของ p-a-SiC:H/i- a-Si:H ไดกลาวไวในหัวขอที่ 1.7.1-1.7.7 แลววาเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H มีหลักการทํางาน โดยเริ่ม จากการรับแสง การดูดกลืนแสงในชั้น i การผลิตพาหะในชั้น i และการดึงพาหะที่เกิดขึ้นนั้นใหไหลออกสู ภายนอก การประดิษฐเซลลแสงอาทิตยใหมีประสิทธิภาพสูง เปนปจจัยสําคัญอยางหนึ่งในการนําเซลล แสงอาทิตยไปใชงาน การเพิ่มประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยอาจทําไดหลายวิธี เชน การหาวิธีเพิ่มปริมาณ แสงใหเขาสูชั้น i ใหไดมากขึ้น การเพิ่มคุณภาพของฟลมชั้นตางๆ ตลอดจนการหาคาความหนาที่เหมาะสม ของชั้นตางๆ ในบทนี้จะกลาวถึง การปรับปรุงประสิทธิภาพโดยการใชโครงสรางรอยตอเฮเทโรซึ่งมีฟลมอะมอรฟส ซิลิคอนคารไบดชนิด p (p-a-SiC:H) เปนชั้นหนาตางกวางรับแสงแทน p-a-Si:H ซึ่งจะเปนผลใหแสงที่มี ความยาวคลื่นสั้นวิ่งเขาสูชั้น i ไดดีขึ้น นอกจากนี้ จะกลาวถึงการหาคาความหนาที่เหมาะสมของชั้น p, i และ n ดวย เซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ซึ่งชั้น p ผลิตจากวัสดุ p-a-Si:H มีประสิทธิภาพต่ํา เนื่องจากชั้น pa-Si:H นั้นมีคุณสมบัติเปน “ชั้นตาย” (dead layer) กลาวคือ ชั้น p-a-Si:H มีสภาพนําไฟฟาดวยแสงที่ต่ํา มาก ดังนั้นชั้น p-a-Si:H จึงไมสามารถผลิตพาหะอิสระดวยแสงได ดังนั้นการดูดกลืนแสงในชั้น p จึงถือวา เปนการสูญเสียแสงนั่นเอง และถึงแมเราจะประดิษฐใหชั้น p บางถึง 100 ล ก็ตาม ก็ยังคงมีการดูดกลืนแสง อยู ถาชั้น p บางเกินไป จะมีผลเสียดังนี้คือ 1. ชั้น p จะกลายเปนชั้นปลอดพาหะและจะทําใหแรงดันไฟฟาภายใน มีคานอย 2. ฟลมชั้น p อาจจะไมเกาะติดในบางบริเวณ ทําใหมีจุดที่ชั้น i สัมผัสกับขั้วโปรงใสโดยตรง ทําให แรงดันไฟฟาภายในมีคานอยเชนกัน ดังนั้นวิธีการที่จะเพิ่มประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยเกี่ยวกับชั้น p คือการทําใหช้นั p มีความ โปรงใสมากขึ้น โดยการใชวัสดุที่มีชองวางพลังงานกวางขึ้น เพื่อใหแสงอาทิตยในชวงความยาวคลื่นที่เหมาะสม ผานเขาสูชั้น i ไดมากขึ้น การใชอะมอรฟสซิลิคอนคารไบด (a-SiC:H) ประยุกตเปนชั้นหนาตางกวางชนิด p จะไดเซลล แสงอาทิตยที่มีลักษณะโครงสรางดังแสดงในรูปที่ 1.67 และเรียกโครงสรางเชนนี้วาเปนรอยตอเฮเทโร รูปที่ 1.68 แสดงแผนภาพของแถบพลังงานของเซลลแสงอาทิตยรอยตอเฮเทโร รูปที่ 1.69 แสดงผลการวัด สเปกตรัมของประสิทธิภาพการกวาดเก็บพาหะ (collection efficiency) ของเซลลแสงอาทิตยอะมอรฟสชนิด รอยตอโฮโมและรอยตอเฮเทโร [75-77] จะเห็นวาการนํา p-a-SiC:H มาใชงานเปนชั้น p ในเซลล แสงอาทิตยชนิดรอยตอเฮเทโรนั้น จะทําใหผลตอบสนองทางแสงในชวงคลื่นสั้นมีคาสูงขึ้นเมื่อเทียบกับเซลล แสงอาทิตยชนิดรอยตอโฮโม การใช p-a-SiC:H เปนชั้น p จะทําใหแสงความยาวคลื่นสั้นเขาไปสูชั้น i ได มากขึ้น
1-76
รูปที่ 1.67 โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H รอยตอเฮเทโร [52-53]
รูปที่ 1.68 แผนภูมิแถบพลังงานของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H รอยตอเฮเทโร [52-53]
1-77
รูปที่ 1.69 สเปกตรัมผลตอบสนองของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H รอยตอเฮเทโร [52] ทําใหการผลิตพาหะเนื่องจากแสงดี จึงสงผลใหประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยสูงขึ้น โดยทั่วไปจะใช p-a-SiC:H ที่มีชองวางพลังงานประมาณ 2.0 eV (เพราะถา p-a-SiC:H มีชองวางพลังงานกวางกวานี้ ความตานทานของ p-a-SiC:H จะเพิ่มขึ้น เปนเหตุใหฟลลแฟกเตอรลดลง) นอกจากนี้ การใช p-a-SiC:H อยางเหมาะสมจะทําใหแรงดันไฟฟาวงจรเปด Voc และฟลลแฟกเตอร FF มีคาเพิ่มขึ้นดวย การที่แรงดันไฟฟาวงจรเปดมีคาเพิ่มขึ้นก็เพราะแรงดันไฟฟาภายใน (built-in potential) เพิ่มขึ้น ถาดูรูปที่ 1.68 จะพบวาอิเล็กตรอนที่ไหลกลับไปที่ชั้น p จะนอยลง และสนามไฟฟาใน ชั้น i ก็จะเพิ่มขึ้น เหตุผลเมื่อใช p-a-SiC:H เปนชั้น p จะทําใหฟลลแฟกเตอรของเซลลแสงอาทิตยดีขึ้นมี 2 ประการ คือ 1. แมมีการไบแอสตาม แตกระแสไฟฟาโฟโตก็ลดลงเพียงเล็กนอย เพราะประสิทธิภาพของการ กวาดเก็บพาหะในชวงแสงคลื่นสั้นนั้นเพิ่มขึ้น เนื่องจากชองวางพลังงานที่กวางขึ้นและโฟตอนในยานคลื่นสั้น จะถูกดูดกลืนทันทีในบริเวณใกลๆ รอยตอ p-i 2. เนื่องจากชองวางพลังงานของชั้น p มีขนาดกวาง ในขณะที่ไบแอสตาม กําแพงศักยจึงกั้นไมให อิเล็กตรอนไหลเขาสูชั้น p แตจะผลักอิเล็กตรอนกลับเขาสูชั้น i และไหลออกสูภายนอก ปจจัยอีกประการหนึ่งที่สําคัญคือ ความหนาที่เหมาะสมของชั้น p-, i- และ n รูปที่ 1.70 แสดง ความสัมพันธระหวางความหนาของชั้น p-a-SiC:H และลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตย โดยที่ ความหนาของชั้น i-a-Si:H และ n-μc-Si:H คงที่เทากับ 5,000 อังสตรอม และ 500 อังสตรอมตามลําดับ [54] กระแสไฟฟาลัดวงจร Jsc และฟลลแฟกเตอร FF มีคาลดลงเมื่อชั้น p หนาขึ้น เปนเพราะคาความ ตานทานอนุกรมมากขึ้น และชั้น p ที่หนาขึ้นจะกั้นแสงที่เขาสูชั้น i ใหนอยลง สวนคา Voc จะลดลงเมื่อชั้น p บางลง เนื่องจากชั้น p กลายเปนชั้นปลอดพาหะ ทําใหไมสามารถสรางแรงดันไฟฟาภายในไดสูงเพียงพอ และอาจมีบริเวณที่ชั้น p ไมเกาะติดเลยก็ได เพราะฉะนั้น ความหนาของชั้น p ที่เหมาะสมในการทดลองนี้คือ 200 ล ซึ่งทําให Voc และประสิทธิภาพมีคาสูงที่สุด รูปที่ 1.71 แสดงความสัมพันธระหวางความหนาของชั้น i-a-Si:H กับลักษณะสมบัติเอาตพุตของ เซลลแสงอาทิตย โดยใหความหนาของชั้น p-a-SiC:H และ n-μc-Si:H คงที่ที่ 200 ล และ 500 ล ตามลําดับ [54] กระแสไฟฟาลัดวงจร Jsc จะเพิ่มขึ้นเมื่อความหนาของชั้น i เพิ่มขึ้น เพราะวาชั้น i ทําหนาที่ ผลิตพาหะจากแสง แตเมื่อชั้น i หนาเกินไป Jsc จะลดลง เนื่องจากสนามไฟฟาในชั้น i นอยลงจนไมสามารถ กวาดเอาพาหะที่เกิดขึ้นออกมาสูภายนอกไดหมด ผลที่ตามมาคือ FF และ Voc จะเริ่มลดลง ดังนั้นคาความ หนาที่เหมาะสมของชั้น i จากรูป คือ 6,000-6,500 ล ซึ่งใหคา Voc, Jsc และประสิทธิภาพสูงสุด สําหรับผลการทดลองการหาความหนาที่เหมาะสมของชั้น n-μc-Si:H แสดงในรูปที่ 1.72 โดยที่ ความหนาของชั้น p-a-SiC:H และ i-a-Si:H คงที่เทากับ 150 ล และ 5,000 ล ตามลําดับ [54] กระแสไฟฟา Jsc จะลดลงเมื่อชั้น n หนาขึ้น เนื่องจากเมื่อชั้น n หนาขึ้น จะทําใหแสงที่สะทอนจากขั้วโลหะ ดานหลังของเซลลแสงอาทิตยไมสามารถทะลุผานชั้น n ไปถึงชั้น i ที่ทําหนาที่ผลิตพาหะได และการที่ชั้น n หนาขึ้น ก็ทําใหคาความตานทานอนุกรมมีคามากขึ้นดวย
1-78
รูปที่ 1.70
ความสัมพันธระหวางลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H และความหนาของชั้น p-a-SiC:H [54]
รูปที่ 1.71
ความสัมพันธระหวางลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H และความหนาของชั้น i-a-Si:H [54]
1-79
รูปที่ 1.72
ความสัมพันธระหวางลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H และความหนาของชั้น n-μc-Si:H [54]
สวนคา Voc และ FF ที่ลดลงก็เปนผลมาจากความตานทานในชั้น n ที่เพิ่มขึ้นเชนกัน แตเมื่อชั้น n บางลงคา Voc และ FF ก็จะลดลง เนื่องจากถาชั้น n บางเกินไปจะไมสามารถสรางสนามไฟฟาไดสูงพอ ดังนั้น คาความหนาของชั้น n ที่เหมาะสมจากรูปคือ 500 ล ซึ่งจะทําใหได Voc, FF และประสิทธิภาพของเซลล แสงอาทิตยสูงที่สุด การหาเงื่อนไขของความหนาที่เหมาะสมของชั้นตางๆ ตัวอยางผลการทดลองโดยหองปฏิบิตการวิจัย สิ่งประดิษฐสารกึ่งตัวนําไดเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ที่ใชชั้น p-a-SiC:H เปนชั้นหนาตางกวางรับแสง มี ลักษณะสมบัติเอาตพุต ดังนี้ Jsc = 12.55 mA/cm2, Voc = 0.84 V, FF = 63.67 %, ประสิทธิภาพ = 6.67 % รูปที่ 1.73 แสดงตัวอยางลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยโดยเปรียบเทียบกรณีเซลล แสงอาทิตยชนิดรอยตอโฮโมและรอยตอเฮเทโร อนึ่งประสิทธิภาพสูงสุดระดับโลกมีคาประมาณ 12% [48-49] ทั้งนี้ความแตกตางอยูที่คุณภาพของ เครื่องมือและระบบกาซที่ใช เชน ในตางประเทศมีการใชระบบพลาสมาซีวีดีแบบ seperated chambers ซึ่ง ประกอบดวยแชมเบอรจํานวนหลายตัว แชมเบอรแตละตัวใชสําหรับปลูกฟลมชั้นใดชั้นหนึ่งโดยเฉพาะ การ แยกปลูกฟลมชนิดหนึ่งดวยแชมเบอรหนึ่งจะสามารถปองกันการปนเปอน (contamination) ของสารเจือปนได เปนอยางดี [78] จากการใช p-a-SiC:H เปนหนาตางกวางรับแสงแทน p-a-Si:H ทําใหประสิทธิภาพของเซลล แสงอาทิตยเพิ่มขึ้นจาก 4.12 % เปน 6.67 % จากกราฟลักษณะสมบัติเอาตพุตพบวาประสิทธิภาพที่เพิ่มขึ้น นี้สืบเนื่องมาจากการเพิ่มขึ้นของกระแสไฟฟาลัดวงจร Jsc และแรงดันวงจรเปด Voc เปนหลัก การวิเคราะห ตอไปถึงสาเหตุของการเพิ่มขึ้นของ Jsc และ Voc เปนสิ่งที่นาสนใจ เนื่องจากหลักการในการออกแบบให
1-80
เซลลแสงอาทิตยมีรอยตอเฮเทโรนั้นเพื่อตองการใหแสงที่มีความยาวคลื่นสั้นวิ่งเขาสูชั้น i ไดดีขึ้น ดังนั้นการ ตรวจวัดสเปกตรัมผลตอบสนองทางแสงของเซลลแสงอาทิตยจึงเปนสิ่งที่ขาดไมได สําหรับการเพิ่มขึ้นของ Voc นั้น เกี่ยวของกับการเพิ่มขึ้นของศักยไฟฟาภายใน (built-in potential) โดยตรง
รูปที่ 1.73
รูปที่ 1.74
ตัวอยางลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ซึ่งมีโครงสรางรอยตอโฮโมและรอยตอเฮเทโร [53]
ตัวอยางผลการวัดสเปกตรัมผลตอบสนองแสงของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ซึ่งมีโครงสรางรอยตอโฮโมและรอยตอเฮเทโร [54]
รูปที่ 1.74 แสดงตัวอยางผลการวัดสเปกตรัมของกระแสไฟฟา Jsc เอาตพุตของเซลลแสงอาทิตย ชนิดรอยตอโฮโมและชนิดรอยตอเฮเทโร [54] จากรูปจะเห็นไดวาผลตอบสนองทางแสงในชวงคลื่นสั้นของ เซลลแสงอาทิตยที่มี p-a-SiC:H เปนหนาตางกวางดีกวาเซลลแสงอาทิตยที่มี p-a-Si:H เปนหนาตางทั้งนี้ เพราะวาชองวางพลังงานของ p-a-SiC:H (2.0 eV) กวางกวาของ p-a-Si:H (1.80 eV) จึงทําใหแสงที่มี ความยาวคลื่นสั้นผานเขาสูชั้น i ไดดีขึ้น ทําให Jsc ของเซลลแสงอาทิตยดีขึ้น และประสิทธิภาพดีขึ้นดวย
1-81
1.7.9 การผลิตเซลลแสงอาทิตยที่ใหแรงดันเอาตพุตสูงดวยโครงสราง อินทิเกรต เซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H มีขอไดเปรียบกวาเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยว Si คือ มีแรงดัน วงจรเปดที่สูงประมาณ 0.7-0.8 V และมีลักษณะเปนฟลมบาง สามารถผลิตใหเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ตออนุกรมกันบนแผนฐาน เชน แผนกระจกแผนเดียวกันไดโดยตรงโดยไมตองใชสายไฟฟาตอเชื่อมเลย จึงทํา ใหลดขั้นตอนการผลิต ลดตนทุน มีความสวยงามและกะทัดรัด บริษัท Sanyo ในประเทศญี่ปุนเปนบริษัทแรก ที่พัฒนาเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ซึ่งตออนุกรมกันโดยตรงบนกระจกแผนเดียวกัน และใหชื่อวา “เซลล แสงอาทิตยโครงสรางอินทิเกรต” (integrated type solar cell) [79] เซลลแสงอาทิตยโครงสรางอินทิเกรตนี้ ใหแรงดันวงจรเปดสูงตามจํานวนของเซลลแสงอาทิตยที่ตอ อนุกรมกัน มีประโยชนในการใชงานหลายอยาง เชน ใชประจุถานไฟฉาย ประจุแบตเตอรี่หรือใชเปนแหลง ผลิตกระแสไฟฟาใหกับเครื่องใชไฟฟาตางๆ เชน นาฬิกา เครื่องคิดเลข โทรศัพท ไฟฉาย ฯลฯ ในหัวขอนี้ จะกลาวถึงการออกแบบและการผลิตเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H โครงสรางอินทิเกรต รูปที่ 1.75 แสดงลักษณะของเซลลแสงอาทิตยโครงสรางอินทิเกรตซึ่งเสนอโดยบริษัท Sanyo และ ปจจุบันมีการใชงานกันแพรหลาย การเชื่อมตอเซลลแสงอาทิตยแตละตัว ทําไดโดยการเคลือบขั้วไฟฟา ITO ของเซลลหนึ่งใหเชื่อมตอกับขั้ว Al ของเซลลถัดไป รูปที่ 1.76 แสดงวงจรสมมูลของเซลลแสงอาทิตยโครงสรางอินทิเกรต แรงดันไฟฟาเปนผลรวมของ แรงดันไฟฟาของเซลลแสงอาทิตยแตละตัว แตกระแสไฟฟาจะถูกกําหนดดวยกระแสไฟฟาของเซลล แสงอาทิตยตัวที่มีคานอยที่สุด D. Kruangam ไดออกแบบเซลลแสงอาทิตยโครงสรางอินทิเกรต ซึ่งแตกตางไปจากของบริษัท Sanyo ดังแสดงในรูปที่ 1.77 ความแตกตางอยูที่ตําแหนงของการเชื่อมตอของขั้ว ITO และ Al ในกรณีรูปที่ 1.77 ขั้ว ITO และ Al เชื่อมตอกันที่ขอบดานนอกของแผนกระจกในลักษณะตัวอักษร L ซึ่งวิธีนี้ชวยใหการจัดวาง (alignment) ในกระบวนการผลิตทําไดงายขึ้นและชวยลดตนทุนการผลิตได [50, 53] ในรูปที่ 1.77 ระยะหางของเซลลแสงอาทิตยแตละตัวเทากับ 1 mm พื้นที่รับแสงของเซลลแสงอาทิตยแตละตัวเทากับ 0.4 cm × 4 cm มีเซลลรวมจํานวน 12 ตัวตออนุกรมกันบนแผนฐานกระจกขนาด 5 cm × 7.5 cm
รูปที่ 1.75 วงจรสมมูลของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H แบบอินทิเกรต
1-82
รูปที่ 1.76
รูปที่ 1.77
โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H แบบอินทิเกรต ซึ่งออกแบบโดยบริษัทซันโย จํากัด ประเทศญี่ปุน
โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H แบบอินทิเกรต ซึ่งออกแบบโดย ดุสิต เครืองาม [50, 53]
ขั้นตอนในการผลิตเซลลแสงอาทิตยโครงสรางอินทิเกรตมีดังนี้ [50-53] 1. เตรียมแผนฐานและจะตองกัด ITO ใหมีรูปรางลวดลายตามตองการ การกัด ITO ใช กระบวนการโฟโตลิโทกราฟดังแสดงในรูปที่ 1.78 2. ขั้นตอนการเคลือบฟลมอะมอรฟสชั้น p-a-SiC:H (200 ล)/i-a-Si:H (6,500 ล)/n-μc-Si:H (500 ล) ในการเคลือบฟลมอะมอรฟสเหลานี้ใชมาสก (mask) ชนิดอะลูมิเนียมหนา 1 mm วางบนแผน ฐานเพื่อเคลือบฟลมชั้นอะมอรฟสใหไดรูปรางตามตองการ 3. ขั้นตอนการเคลือบฟลม Al หนาประมาณ 6,000 ล ใหไปเชื่อมกับ ITO ของเซลลแสงอาทิตยที่ อยูถัดไป มาสกสําหรับการเคลือบอะลูมิเนียมนั้นทําจากแผนเหล็กกลาไรสนิมอยางบางเชนเดียวกับมาสกของ ชั้นอะมอรฟส รูปที่ 1.79 แสดงภาพถายขั้นตอนการผลิตเซลลแสงอาทิตยดังกลาว รูปที่ 1.80 แสดงตัวอยางลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยโครงสรางอินทิเกรต [50] ซึ่ง ประกอบดวยเซลลแสงอาทิตยจํานวนหลายตัวตออนุกรมกัน โดยวัดที่ AM1 40 mW/cm2 จะเห็นไดวา กระแสไฟฟาลัดวงจรจะลดลงเมื่อจํานวนเซลลแสงอาทิตยที่ตออนุกรมเพิ่มขึ้น และแรงดันไฟฟาวงจรเปดจะ เพิ่มขึ้นตามจํานวนของเซลลแสงอาทิตย ตัวอยางขอมูลมีลักษณะสมบัติเอาตพุตที่วัดโดยแสง AM1
1-83
(100mW/cm2) คือ แรงดันไฟฟาวงจรเปด 10.1 V กระแสไฟฟาลัดวงจร 0.81 mA/cm2 ฟลลแฟกเตอร 55.6% และประสิทธิภาพ 4.54 %
รูปที่ 1.78 ขั้นตอนการสรางลวดลายของขั้วไฟฟา ITO [53]
รูปที่ 1.79 ตัวอยางขั้นตอนการผลิตเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H แบบอินทิเกรต [53]
1-84
รูปที่ 1.80
ลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H แบบอินทิเกรต ซึ่งมีเซลลแสงอาทิตยเชื่อมตออนุกรมกันหลายตัว [50]
เพื่อใหไดมอดูลที่มีแรงดันไฟฟาสูงพอที่จะประจุแบตเตอรี่ขนาด 12 V ได ไดมีการนําเซลล แสงอาทิตยหลายๆ แผนมาตออนุกรมกันและบรรจุลงในกรอบที่แข็งแรง โดยมีขั้นตอนดังนี้ 1. ติดมอดูลยอยเขากับแผนกระจกดานหนา ตอสายระหวางเซลลแสงอาทิตยและสายสูภายนอก 2. ติดแผน EVA และ TEDLAR (เปนแผนพลาสติกที่ใชในการทํามอดูลเซลลแสงอาทิตยใน อุตสาหกรรม) 3. ปดดานหลังดวยแผน bakelite 4. ติดกรอบอะลูมิเนียมและอุดชองวางที่ขอบรอบๆ ดวยซิลิโคน 5. ตอบล็อกกิงไดโอด (blocking diode) สําหรับปองกันกระแสไฟฟาไหลยอน รูปที่ 1.81 แสดงผลการประดิษฐเซลลแสงอาทิตยที่ประกอบเซลลหลายแผนบรรจุในกรอบเดียวกัน และจายกระแสไฟฟาใหแบตเตอรี่ขนาด 12 V ตัวอยางการใชงานในเวลาเที่ยง จะไดกระแสไฟฟาประจุเขา แบตเตอรี่ประมาณ 11 mA และแรงดันไฟฟาประมาณ 12 V ในขณะที่แรงดันวงจรเปดประมาณ 26 V การ ใชงานในลักษณะเชนนี้ เปนการชวยปองกันการรั่วของแบตเตอรี่ รูปที่ 1.82 แสดงตัวอยางการนําเซลลแสงอาทิตยโครงสรางอินทิเกรตปอนกระแสไฟฟาใหเครื่องคิด เลข [52]
1-85
รูปที่ 1.81
ตัวอยางมอดูลของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H แบบอินทิเกรต และการใชงานประจุกระแสไฟฟาเขาแบตเตอรี่ [50]
รูปที่ 1.82 ตัวอยางการใชงานเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H แบบอินทิเกรต [52]
1.7.10 การพัฒนาเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ที่ใหแรงดันไฟฟา เอาตพุตสูงดวยโครงสรางทันเดม ขอดีเดนของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ไดแกการผลิตเปนพื้นที่ใหญไดงาย และมีตนทุนถูกกวา เซลลชนิดผลึกเดี่ยว Si และผลึกโพลี Si โครงสรางโดยทั่วไปของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H คือ glass/ITO/SnO2/p-i-n a-Si:H/Al โดยที่ชั้น i เปนชั้นผลิตพาหะ และชั้น p และ n ทําหนาที่สราง แรงดันไฟฟาภายในเพื่อพัดพาพาหะใหไหลออกสูวงจรภายนอก โดยทั่วไปเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H 1 เซลล (p-i-n 1 ชุด) จะใหแรงดันไฟฟาวงจรเปด (Voc) ประมาณ 0.8-0.9 V ซึ่งมีคาสูงกวาของกรณีเซลล ชนิดผลึก Si (Voc = 0.5-0.6 V) ในการที่จะผลิตใหเซลลแสงอาทิตยมีแรงดันไฟฟาวงจรเปดมีคาสูงมากๆ เชน เพื่อใชประจุแบตเตอรี่นั้น อาจทําไดหลายวิธี เชน 1. เลือกใชวัสดุสารกึ่งตัวนําที่มีชองวางพลังงานกวาง 2. ตอเซลลใหตออนุกรมกันในแนวระนาบ ซึ่งอาจตอดวยสายไฟฟาหรือใชเทคนิคฟลมบาง 3. ตอเซลลใหตออนุกรมกันในแนวตั้งและซอนทับกันหลายชั้น ในหัวขอนี้ จะกลาวถึง การออกแบบและการผลิตเซลลแสงอาทิตยใหเคลือบซอนทับกันหลายชั้นใน แนวตั้งโดยมีโครงสราง glass/ITO/SnO2/a-Si:H p-i-n-p-i-n-.../Al ดังแสดงในรูปที่ 1.83 ซึ่งจะทําใหได Voc สูง และเรียกเซลลแสงอาทิตยโครงสรางเชนนี้วา “โครงสรางทันเดม” (tandem structure) เซลล แสงอาทิตยชนิดนี้ผลิตไดงาย เพราะเพียงแตเคลือบฟลมอะมอรฟสชั้น p-i-n ใหซอนทับซ้ํากันหลายชั้น และ เนื่องจากเปนวัสดุอะมอรฟส จึงปลูกเปนฟลมหลายชั้นไดงายดวยวิธีนอนเอพิแทกซี (non-epitaxy)
1-86
รูปที่ 1.83 โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H แบบทันเดม [53]
หลักการทํางานและการออกแบบเซลลแสงอาทิตยโครงสรางทันเดม ลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H p-i-n ขึ้นกับความหนาของชั้น p, i และ n มาก [54] ไดกลาวไวในหัวขอที่ 1.7.9 แลววาความหนาที่เหมาะสมที่สุดของชั้น i อยูในชวง 5,000-6,500 อังสตรอมซึ่งคอนขางจะบางมากเมื่อเปรียบเทียบกับความหนาหลายไมครอนของชั้นปลอดพาหะในรอยตอ p-n ของเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึก Si ความหนาที่เหมาะสมของชั้น i เพียง 5,000-6,500 อังสตรอมนี้มีสาเหตุ มาจากการที่ระยะทางแพรซึม (diffusion length) ของพาหะโดยเฉพาะอยางยิ่งของโฮลมีคาสั้น และยานที่ สนามไฟฟามีคาสูงในชั้น i มีคาสั้น [52] สาเหตุเหลานี้ทําใหประสิทธิภาพของการกวาดเก็บพาหะของเซลล แสงอาทิตยชนิด a-Si:H ลดลงอยางรวดเร็วเมื่อชั้น i มีความหนามากขึ้นดังแสดงดวยเสนไขปลาในรูปที่ 1.84 สนามไฟฟาในชั้น i ที่บริเวณใกลรอยตอ p/i (wp) และ i/n (wn) มีคาสูงกวาตรงกลางของชั้น i ดวยเหตุนี้ ถาเราแบงชั้น i ออกเปนเซลลแสงอาทิตย p-i-n ยอยๆ หลายชุด เชน 3 ชุดดังแสดงในรูปที่ 1.84 (มีชุด d1, d2 และ d3) ก็คาดวาประสิทธิภาพของการกวาดเก็บพาหะจะมีคาสูงสม่ําเสมอตลอดความหนาทั้งหมด ซึ่งจะ ทําใหประสิทธิภาพของการผลิตพาหะสูงขึ้นและไดกระแสไฟฟาโฟโตมากขึ้นและทําใหฟลลแฟก-เตอร (FF) ในเซลลแสงอาทิตยโครงสรางทันเดมมีคาสูงกวาเซลลแสงอาทิตยรอยตอ p-i-n เพียงชุดเดียว เซลลแสงอาทิตยโครงสรางทันเดมที่กําลังกลาวถึงนี้มีรอยตอ กระจก/ITO/a-Si:H ชนิด p-i-n-pi-n-.../Al ดังแสดงในรูปที่ 1.85 (ก) รูปที่ 1.85 (ข) แสดงลักษณะแถบพลังงานของเซลลแสงอาทิตยขณะ ยังไมถูกแสง และรูปที่ 1.85 (ค) แสดงลักษณะแถบพลังงานของเซลลแสงอาทิตยขณะถูกแสงและรูปที่ 1.85 (ง) แสดงวงจรสมมูล เซลลแสงอาทิตยยอยทั้งหมดนี้ เมื่อถูกแสงก็จะผลิตกระแสไฟฟาโฟโตซึ่งจะมีคามากนอยขึ้นกับ ความเขมของโฟตอนฟลักซที่เซลลแสงอาทิตยแตละตัวดูดกลืนได จากวงจรสมมูลในรูป (ง) แรงดันไฟฟา เอาตพุตทั้งหมดจะเทากับผลบวกของแรงดันไฟฟาเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยยอยแตละตัว และ กระแสไฟฟาเอาตพุตจะมีคาเทากับกระแสไฟฟาเอาตพุตที่มีคานอยที่สุดของเซลลแสงอาทิตยยอย [80]
รูปที่ 1.84
ลักษณะการเปลี่ยนแปลงของประสิทธิภาพของการกวาดเก็บพาหะตามความลึกของ เซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H แบบทันเดม
1-87
รูปที่ 1.85
เซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H แบบทันเดม [53-54] (ก) โครงสรางของเซลลแสงอาทิตย (ข) แถบพลังงานขณะไมมีแสง (ค) แถบพลังงานขณะมีแสง และ (ง) วงจรสมมูล
รูปที่ 1.86 แสดงลักษณะสมบัติของไดโอดชนิด a-Si:H ที่มีรอยตอ p-i-n และ p-n จากรูปนี้พบวา รอยตอ p-i-n จะเปนไดโอดที่ดี แตรอยตอ p-n จะไมเปนไดโอดเพราะกระแสไฟฟาไบแอสตามและยอนมี คาใกลกันมาก ดังนั้นรอยตอ p-n ของ a-Si:H จึงทําหนาที่เปรียบเสมือนรอยตอโอหมิก ดวยเหตุนี้ในเซลล แสงอาทิตยชนิดทันเดมของรอยตอ p-i-n-p-i-n-... ดังกลาวจึงไมมีแรงดันไฟฟาภายในที่รอยตอ n-p แต จะมีแรงดันไฟฟาภายในที่รอยตอ p-i-n เทานั้น และรอยตอ n-p ทําหนาที่เปรียบเสมือนตัวตานทานเชื่อม เซลลแสงอาทิตยขางเคียงใหตออนุกรมกันไดเทานั้นนั่นเอง
1-88
รูปที่ 1.86
เปรียบเทียบลักษณะสมบัติกระแสไฟฟาและแรงดันไฟฟาของ a-Si:H รอยตอ p-n และรอยตอ p-i-n
การหาคาแรงดันไฟฟาเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยโครงสรางทันเดม ในเซลลแสงอาทิตยทั่วไป ความสัมพันธระหวางกระแสไฟฟาและแรงดันไฟฟา (I-V) มีรูปดังนี้ [81] ⎧ ⎫ V + IR (V + IR ) I = I s ⎨ exp[ q ] − 1⎬ + − IL ⎩ ⎭ nkT Rsh
โดยที่
I
: IL : n : Rsh :
กระแสไฟฟาเอาตพุต กระแสไฟฟาโฟโตที่เกิดในเซลลแสงอาทิตย แฟกเตอรอุดมคติของไดโอด ความตานทานชันต
V Is R
(1.116)
: แรงดันไฟฟาเอาตพุต : กระแสไฟฟาอิ่มตัว : ความตานทานอนุกรม
ถาสมมติให Rsh มีคาสูงมากใกลอนันต สมการที่ (1.116) จะเขียนไดใหมเปน V + IR =
nkT q
⋅ ln[
I L + Is − I Is
]
(1.117)
ดังนั้นในกรณีที่เซลลแสงอาทิตยมีโครงสรางแบบทันเดมในรูปที่ 1.85 จึงไดวา [81] V + IR =
โดยที่
ILi :
nkT q
⋅ ln[
m
I Li + I s − I
i =1
Is
∏(
กระแสไฟฟาโฟโตที่เกิดขึ้นในเซลลแสงอาทิตยแตละตัว
1-89
)]
(1.118)
m R V
: จํานวนของเซลลแสงอาทิตย (จํานวนของชุด p-i-n) : ความตานทานอนุกรมทั้งหมด : แรงดันไฟฟาเอาตพุตทั้งหมด
จากการคํานวณสมการที่ (1.118) ไดผลวาแรงดันไฟฟาวงจรเปด Voc และกระแสไฟฟาลัดวงจร Isc m
จะมีคาสูงสุด เมื่อกระแสไฟฟาโฟโต
ILi
มีคาเทากับ 1/m ของ IL
และถา
IL =
∑ Li
ดังนั้นคาสูงสุด
i =1
ของ Voc และ Isc คือ Voc = m(
โดยที่ให
IL >> Is
nkT q
)[ln(
IL Is
) − ln( m)]
I sc ≈
และ
(1.119)
IL m
(1.120)
ดังนั้นจากสมการที่ (1.119) และ (1.120) นี้จึงทําใหเราทราบวาแรงดันไฟฟาวงจรเปด Voc แปร ผันตรงกับจํานวน m ของเซลลแสงอาทิตย แตกระแสไฟฟาลัดวงจร Isc แปรผกผันกับจํานวน m ของ เซลลแสงอาทิตย นอกจากนี้ สมการที่ (1.118) สามารถเขียนใหมไดดังนี้ ⎤ ⎡ IL + Is − I ⎥ ⎢ I L + mI s − mI nkT nkT m m ln⎢ ( ) ⎥ = m V + IR = ln[ ] q mI s ⎥ ⎢ q Is ⎥⎦ ⎢⎣ I L + mI s − mI V R nkT + mI 2 = ln[ ] mI s m q m V + I ⋅ Reff =
โดยที่
nkT q
ln[
I L + Is − I Is
V = V / m, I = mI , I s = mI s
]
และ
(1.121) Reff =
R m
2
(1.122)
สมการที่ (1.121) และ (1.122) ทําใหเราทราบวา แมวาการเพิ่มจํานวน m เซลลแสงอาทิตยจะทํา ใหความตานทานอนุกรม R เพิ่ม แตโดยภาพรวมแลว ความตานทานอนุกรมประสิทธิผล Reff (effective series resistance) จะลดนอยลงตามแฟกเตอร 1/m2 ดังนั้นเราจึงคาดหวังไดวา การเพิ่มจํานวนเซลล แสงอาทิตยหลายๆ ชั้นจะทําใหฟลลแฟกเตอรของเซลลแสงอาทิตยดีขึ้นดวย
การออกแบบความหนาของชั้น i ในเซลลแสงอาทิตยแตละตัว ความหนา di ของชั้น i ในเซลลแสงอาทิตยแตละตัวมีอิทธิพลตอกระแสไฟฟาโฟโต ILi รวมทั้ง ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยโดยรวมเปนอยางมาก ในหัวขอนี้จะอธิบายแนวทางการออกแบบความหนา ของชั้น i ในเซลลแสงอาทิตยแตละตัววาควรเปนอยางไร ความหนา di ที่เหมาะสม เริ่มแรกควรจะสอดคลองกับเงื่อนไขที่ทําให
1-90
I Li =
IL m
( i = 1,2, . . . . . . . m)
(1.123)
กลาวคือ เนื่องจากกระแสไฟฟาที่ไหลในเซลลแสงอาทิตยทุกตัวจะถูกกําหนดโดยเซลลแสงอาทิตย ตัวที่ใหกระแสไฟฟาเอาตพุตนอยที่สุด และเนื่องจากเซลลแสงอาทิตยชั้นที่ 1 จะไดรับแสงเขมมากที่สุด ในขณะ ที่เซลลแสงอาทิตยที่อยูลึกเขาไปดานหลังจะไดรับแสงเขมนอยลงอยางเอกซโพเนนเชียล ดังนั้นเราจึง คาดคะเนไดวาความหนาของชั้น di นั้นควรจะเพิ่มขึ้นเมื่อเซลลแสงอาทิตยอยูลึกเขาไปดังแสดงในรูปที่ 1.87 นั่นคือ d1 < d2 < d3 <... dm ถาให Φ ( hω , x ) คือโฟตอนฟลักซของแสง ณ ที่ ตําแหนง x ในเซลลแสงอาทิตย และ Eg คือ ชองวางพลังงานของ a-Si:H (ปกติ Eg = 1.7-1.8 eV) เราจะไดคา ILi ดังนี้ [81] I Li = q
∫E g [ Φ(hω, x 2i ) − Φ(hω, x 2i −1 )] d (hω) ∞
= q[Φ( x 2i ) − Φ( x 2i −1 )]
(1.124)
= qΔΦi
โดยที่
รูปที่ 1.87
d i = x 2i − x 2i − 1 และ Φ( x ) = ∫ Φ( hω , x ) d ( hω ) Eg ∞
(1.125)
การเปลี่ยนแปลงของโฟตอนฟลักซของแสงตามความลึกที่เดินทางเขาสูเซลลแสงอาทิตย ชนิด a-Si:H ที่มีโครงสรางแบบทันเดม ตามระยะทางความลึก
1-91
ตัวอยางการผลิตเซลลแสงอาทิตยโครงสรางทันเดม ในหัวขอนี้จะขอยกตัวอยางผลการวิจัยการประดิษฐเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ที่มีโครงสรางทัน เดมดวยวิธีพลาสมาซีวีดี [81] รูปที่ 1.83 แสดงโครงสรางพื้นฐานของเซลลแสงอาทิตยซึ่งเปนรอยตอ p-in ชั้น p ไดแกวัสดุ p-a-SiC:H (Eg = 2.0 eV) กาซสําหรับชั้น p คือ SiH4 + CH4 + B2H6 กาซสําหรับชั้น i คือ SiH4 และกาซสําหรับชั้น n คือ SiH4 + PH4 แผนฐานคือ glass/ITO/SnO2 ตารางที่ 1.4 แสดงพารามิเตอรคาความหนาของชั้นตางๆ ในเซลล แสงอาทิตย โปรดสังเกตวา ความหนาของชั้น i จะมากขึ้นเมื่อเซลลอยูลึกเขาไป เชน ในกรณีเซลลมี 4 ชุด ความหนาของชั้น i ของ 4 เซลลนี้คือ (เรียงจากดานรับแสง) 200, 370, 930 และ 4,700 ล ตามลําดับ สําหรับความหนาของชั้น p และ n นั้นกําหนดใหคงที่ที่ประมาณ 100 ล ผลการผลิตเซลลแสงอาทิตยทั้ง 4 รุน แสดงในรูปที่ 1.88 และรูปที่ 1.89 [81] โดยรูปที่ 1.88 แสดงลักษณะสมบัติเอาตพุตของกระแสไฟฟาและแรงดันไฟฟาของเซลลแสงอาทิตยที่วัดดวยแสงอาทิตยเทียม (solar simulator) ความเขม AM1 (100 mW/cm2) และรูปที่ 1.89 แสดงความสัมพันธระหวางพารามิเตอร เอาตพุตและจํานวน m ของเซลลแสงอาทิตยที่ซอนทับกัน จากรูปเหลานี้พบวา เมื่อ m
ตารางที่ 1.4 ความหนาของชั้นตางๆ ในเซลลแสงอาทิตยโครงสรางทันเดม รอยตอ
P I N P I N P I N P I N
ความหนาแนนของฟลมแตละชั้น (อังสตรอม) (เรียงลําดับจากแผนกระจก) จํานวนเซลลที่ จํานวนเซลลที่ จํานวนเซลลที่ ซอนทับกัน = 1 ซอนทับกัน = 3 ซอนทับกัน = 2 200 200 200 6,500 440 370 500 100 100 50 50 4,700 840 500 100 50 4ม700 500
1-92
จํานวนเซลลที่ ซอนทับกัน = 4 200 200 100 500 370 100 50 930 100 50 4,700 500
รูปที่ 1.88
ลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ที่มีโครงสรางแบบทันเดม ซึ่งประกอบดวยเซลลแสงอาทิตยซอนทับกันจํานวนหลายเซลล [81]
รูปที่ 1.89 ลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ที่มีโครงสรางแบบ ทันเดมจํานวน 2, 3 และ 4 ตัว [81] มีคามากขึ้นจาก 1 ถึง 4 จะทําใหแรงดันไฟฟาวงจรเปด Voc เพิ่มจาก 0.83 V เปน 2.63 V และ 2 2 กระแสไฟฟาลัดวงจร Jsc ลดลงจาก 12.42 mA/cm เปน 2.37 mA/cm ซึ่งการเปลี่ยนแปลงของทั้ง Voc และ Jsc นี้สอดคลองกับการคาดคะเนที่ไดกลาวมาแลว และฟลลแฟกเตอรก็เพิ่มเล็กนอยและสอดคลองกับ ผลการคาดคะเนเชนกัน อยางไรก็ตาม ในกรณีที่ m = 1 ได Voc = 0.8 V ดังนั้น ถา m = 4 ก็ควรจะได Voc = 4×0.8 V = 3.2 V แตผลการทดลองได Voc เพียง 2.63 V และประสิทธิภาพก็ลดลงจาก 6.6 % ลงไปที่ 4.5 % เมื่อ จํานวนของเซลลแสงอาทิตย m เพิ่มขึ้นจาก 1 เปน 4 ทั้งนี้อาจมีสาเหตุมาจากการที่มีแสงบางสวนถูกดูดกลืน ในชั้น p และ n ดวย เนื่องจากชั้น p และ n มีคาสภาพนําไฟฟาดวยแสงที่ไมดี ดังนั้นจึงไมมีกระแสไฟฟาโฟ
1-93
โตเกิดขึ้นในชั้น p และ n ดังนั้นการดูดกลืนแสงดวยชั้น p และ n จึงอาจเปนสาเหตุที่ทําใหผลการทดลอง คลาดเคลื่อนไปจากการคาดคะเนไดบาง ลักษณะเดนของเซลลแสงอาทิตยโครงสรางทันเดมเชนนี้ไดแกการที่มีแรงดันเอาตพุตสูง ดังนั้นถา ผลิตใหมีพื้นที่ใหญพอเหมาะ ก็จะสามารถใชปอนกระแสไฟฟาใหผลิตภัณฑเครื่องใชไฟฟาอิเล็กทรอนิกสได ตัวอยางขอมูลขางตนไดกําหนดใหชองวางพลังงานของชั้น i เทากันทุกชั้น (1.7 eV) ดังนั้นลักษณะ สเปกตรัมผลตอบสนองแสงของเซลลแสงอาทิตยทุกชั้นจึงเหมือนกันหมด ทําใหไมสามารถดูดกลืนแสงที่มี ความยาวคลื่นยาวไดเลย แตถาใชวัสดุชั้น i ที่มีชองวางพลังงานแคบลง เชน a-Si1-xGex:H เปนชั้น i ในเซลล แสงอาทิตยชั้นที่ 2, 3, 4... โดยควบคุมใหชองวางพลังงานแคบลงจาก 1.7 eV ลงไปถึง 1.1 eV ก็จะ สามารถทําใหประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยโครงสรางทันเดมสูงขึ้นได [82-86] รูปที่ 1.90 แสดงผลการคํานวณของการใชเซลลแสงอาทิตย 2 ตัวซอนทับกัน โดยเซลลตัวที่หนึ่ง ดานรับแสงมีชองวางพลังงาน 1.75 eV และเซลลชั้นที่สองมีชองวางพลังงาน 1.15 eV ผลการคํานวณได ประสิทธิภาพสูงสุด 21% [82] รูปที่ 1.91 แสดงผลการคํานวณของการใชเซลลแสงอาทิตย 3 ตัวซอนทับกัน โดยเซลลแสง-อาทิตย ทั้งสามมีชองวางพลังงานเทากับ 2.0 eV/1.7eV/1.45 eV ตามลําดับ ผลการคํานวณไดประสิทธิภาพสูงสุด เทากับ 24% [82] อยางไรก็ตามในทางปฏิบัติ ประสิทธิภาพจะมีคาไมถึงคาเหลานี้ เพราะวาคุณภาพของ วัสดุอะมอรฟสซิลิคอนอัลลอยโดยเฉพาะอยางยิ่ง a-SiC:H และ a-SiGe:H ที่จะนํามาใชเปนชั้น i นั้นยังมีคา สภาพนําไฟฟาดวยแสงที่ยังไมดีเทาที่ควร ดังนั้นในทางปฏิบัติ จึงมีความจําเปนที่จะตองหาแนวทางการปลูก ฟลม a-SiC:H และ a-SiGe:H ที่มีสภาพนําไฟฟาดวยแสงที่ดีขึ้น ลาสุดบริษัท United Solar System Corp. ประเทศสหรัฐอเมริกาไดรายงานผลการผลิตเซลลแสงอาทิตย 3 ตัวซอนทับกันโดยมีโครงสรางตามที่แสดงในรูปที่ 1.92 ไดประสิทธิภาพสูงถึง 14.6% [85] รูปที่ 1.93 แสดงกราฟลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยนี้ รูปที่ 1.94 แสดงผลการวัดสเปกตรัมของ ผลตอบสนองตอแสง รูปที่ 1.95 แสดงเทคโนโลยีการผลิตของบริษัทนี้ดวยวิธี roll-to-roll กลาวคือ แผน ฐานชนิดเหล็กกลาไรสนิมจะถูกปอนเขาเครื่อง CVD จากทางดานซาย และภายในเครื่อง CVD นี้จะมีชุด CVD ยอยๆ จํานวน 9 เครื่องเพื่อปลูกฟลมอะมอรฟสซิลิคอนอัลลอยชนิดตางๆ แบบตอเนื่อง เซลลแสงอาทิตยที่ ผลิตไดก็จะออกทางดานขวาดและมีเครื่องมวนเก็บไวสําหรับขั้นการประกอบแผงเซลลตอไป [87] รูปที่ 1.96 แสดงหลักการออกแบบโครงสรางของเซลลแสงอาทิตย 3 เซลลซอนทับกัน
รูปที่ 1.90
ผลการคํานวณประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ที่ประกอบดวยเซลลที่ ซอนทับกัน 2 ชั้น (double junctions) ประสิทธิภาพสูงสุดมีคา 21% ไดจากการณีที่ชองวาง พลังงานของเซลลชั้นบนและชั้นลางเทากับ 1.75 eV และ 1.15 eV ตามลําดับ [82]
1-94
รูปที่ 1.91
ผลการคํานวณประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ที่ประกอบดวยเซลลที่ ซอนทับกัน 3 ชั้น (triple junctions) ประสิทธิภาพสูงสุดมีคา 24% ไดจากการณีที่ชองวาง พลังงานของเซลลชั้นบน ชั้นกลางและชั้นลางเทากับ 2.0 eV 1.7 eV และ 1.45 eV ตามลําดับ [82]
รูปที่ 1.92
โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H แบบทันเดมซึ่งซอนทับกัน 3 เซลล จากชั้น บนลงมา เซลลดานบนสุดใชวัสดุ a-Si:H เซลลชั้นที่ 2 และ 3 ใชวัสดุ a-SiGe:H [85]
1-95
รูปที่ 1.93
ลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยในรูปที่ 1.92 มีประสิทธิภาพสูงถึง 14.6 % [85]
รูปที่ 1.94 สเปกตรัมผลตอบสนองตอแสงของเซลลแสงอาทิตยแบบทันเดม ซึ่งซอนทับกัน 3 เซลล [85]
รูปที่ 1.95 แผนภาพเครื่องมือผลิตเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H เชิงอุตสาหกรรมแบบ roll-to-roll [87]
1-96
รูปที่ 1.96 โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยแบบทันเดมซึ่งมีโลหะเปนแผนฐาน [87] การพัฒนาเซลลแสงอาทิตยที่มีโครงสรางแบบตางๆ (1) เซลลอาทิตยซึ่งชั้น p เปนซูเปอรแลตทิซ (superlattice p-layer) ปญหาหนึ่งเกี่ยวกับคุณสมบัติของ a-SiC:H ชนิด p ซึ่งนิยมใชเปนชั้นหนาตางรับแสงคือ มีคาสภาพ นําไฟฟาดวยแสงที่ยังต่ําอยูและชองวางพลังงานก็ยังถูกจํากัดอยูที่ประมาณ 2.0 eV ทั้งนี้เพราะวาถาปลูกฟลม ใหชองวางพลังงานกวางขึ้น จะทําใหทั้งสภาพนําไฟฟามืดและสภาพนําไฟฟาดวยแสงลดลงอยางรวดเร็ว แนวทางหนึ่งที่จะชวยแกปญหาเกี่ยวกับชั้น p ไดแก การประดิษฐใหชั้น p มีโครงสรางเปนซูเปอรแลตทิซ (superlattice) เชน ปลูกฟลมบางของ a-SiC:H และ a-Si:H ที่มีความบางมากๆ เชน 20-50 อังสตรอม สลับกันจํานวนหลายๆ ชั้นในลักษณะมัลติเลเยอร โดปชั้น a-Si:H ใหเปนชนิด p สําหรับชั้น a-SiC:H อาจจะ โดปหรือไมก็ได บริษัท Sanyo จํากัด ประเทศญี่ปุนไดออกแบบและประดิษฐเซลลแสงอาทิตยซึ่งชั้น p เปนซูเปอร แลตทิซดังที่แสดงในรูปที่ 1.97 (ก) ผลการวัดสเปกตรัมของผลตอบสนองตอแสงของเซลลแสงอาทิตยแสดง ในรูปที่ 1.97 (ข) จากรูปนี้จะเห็นไดวา ผลตอบสนองตอแสงยานความยาวคลื่นสั้นของเซลลชนิดซูเปอร แลตทิซนี้ดีกวากรณีของเซลลซึ่งชั้น p ไมไดเปนซูเปอรแลตทิซ [88] (2) เซลลแสงอาทิตยซึ่งใชไมโครคริสตัลไลนซิลิคอนออกไซด (p-μc-SiO:H) เปนชั้น p รับแสง บริษัท Fuji Electric จํากัด ประเทศญี่ปุนไดรายงานผลความสําเร็จในการปลูกฟลมบางของ p-μcSiO:H ดวยวิธี glow discharge plasma CVD โดยใชกาซ SiH4+CO2+H2+B2H6 มีชองวางพลังงานกวาง เทากับ 2.0 eV และมีสภาพนําไฟฟาสูงมาก ทําใหไดเซลลแสงอาทิตยอาทิตยที่มีประสิทธิภาพสูงประมาณ 12% [89] (3) เซลลแสงอาทิตยซึ่งมีโครงสรางรอยตอเฮเทโรของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H และชนิดผลึก โพลี Si คณะวิจัยที่มหาวิทยาลัยโอซากาไดรายงานผลการประดิษฐเซลลแสงอาทิตยที่ประกอบดวยเซลล แสงอาทิตยชนิด a-Si:H รอยตอ p-i-n ซอนทับกับเซลลแสงอาทิตยชนิด n-a-Si:H/p-poly Si ดังโครงสราง ที่แสดงในรูปที่ 1.98 เซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ดานบนทําหนาที่ดูดกลืนแสงความยาวคลื่นสั้น และเซลล ชนิดโพลี Si ดานลางนั้นทําหนาที่ดูดกลืนแสงความยาวคลื่นยาว ประสิทธิภาพที่ไดคือ 12% [2]
1-97
(4) เซลลแสงอาทิตยที่มีโครงสราง “See Through” บริษัท Sanyo จํากัด ประเทศญี่ปุน ไดผลิตเซลลแสงอาทิตยชนิด “See through” ซึ่งมีลักษณะเดนที่มี ความโปรงใสมาก [90] ทําใหสามารถมองทะลุเซลลแสงอาทิตยเห็นดานหลังได รูปที่ 1.99 แสดง โครงสราง ของเซลลชนิดนี้ วิธีการผลิตไดแกการใชเทคนิคเจาะฟลมอะมอรฟสซิลิคอนใหเปนรูจํานวนมากดวยแสงเลเซอร สามารถนําเซลลชนิดนี้ไปใชงานเปนหนาตางและประตูที่ผลิตกระแสไฟฟาไดดังที่แสดงในรูปที่ 1.100 (5) เซลลแสงอาทิตยที่มีโครงสรางอินทิเกรต บริษัท Sanyo จํากัด ไดพัฒนาเซลลแสงอาทิตยที่มีโครงสรางอินทิเกรตซึ่งไดแสดงไวในรูปที่ 1.75 แลว สิ่งที่นาสนใจคือ การใชเทคโนโลยีเลเซอรในการกรีดตัดฟลมชั้นตางๆ ไมวาจะเปน ฟลม ITO ฟลม aSi:H และฟลม Al ตามที่แสดงในรูปที่ 1.101 และ 1.102 การใชแสงเลเซอรดังกลาวทําใหกระบวนการผลิต เปนแบบอัตโนมัติได เปน dry process และมีความเที่ยงตรงสูง รูปที่ 1.103 1.106 แสดงตัวอยางการออกแบบเซลลแสงอาทิตยชนิดอะมอรฟสซิลิคอนในลักษณะ ตางๆ และการนําไปใชงานผลิตกระแสไฟฟาแบบตางๆ เชน ใชงานเปนหลังคาบาน ใชงานเปนหลังคารถยนต ไฟแสงสวางตูไปรษณีย ชุดปกนิก เครื่องใชสํานักงาน เปนตน
รูปที่ 1.97
(ก) โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยซึ่งชั้น p เปนซูเปอรแลตทิซ [88] (ข) ผลการวัดสเปกตรัมของผลตอบสนองตอแสงของเซลลแสงอาทิตย
1-98
รูปที่ 1.98 โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยซึ่งประกอบดวยเซลลชนิด a-Si:H และชนิดโพลี Si
รูปที่ 1.99 โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H แบบ See through ซึ่งมองทะลุได [90]
รูปที่ 1.100 การใชงานเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H ซึ่งมองทะลุไดเปนหนาตางและประตู
1-99
รูปที่ 1.101 การใชเทคโนโลยีเลเซอรสําหรับการกรีดตัดฟลมบางชั้นตางๆ ในการผลิตเซลลแสงอาทิตย
รูปที่ 1.102 การใชแสงเลเซอรในการกรีดตัดชั้นตางๆ ในการผลิตเซลลแสงอาทิตย
รูปที่ 1.103 การใชงานเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H เปนหลังคาบาน
1-100
รูปที่ 1.104 การใชงานเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H เปนหลังคาบาน
รูปที่ 1.105 การใชงานเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H รูปแบบตางๆ เชน หลังคารถยนต ตูไปรษณีย
1-101
รูปที่ 1.106 การใชงานเซลลแสงอาทิตยชนิด a-Si:H กับเครื่องใชสํานักงาน
1-102
1.8 เซลลแสงอาทิตยชนิดสารประกอบกึ่งตัวนํา สารกึ่งตัวนําที่สามารถใชผลิตเปนเซลลแสงอาทิตยนอกจาก Si ซึ่งเปนธาตุตระกูล IV แลว ยังมี สารประกอบกึ่งตัวนําตระกูล III-V ซึ่งประกอบดวยธาตุตระกูล III (เชน Ga, In) และ V (เชน P, As) สราง พันธะเปน GaAs และ InP และยังมีสารประกอบกึ่งตัวนําตระกูล II-VI ซึ่งประกอบดวยธาตุตระกูล II (เชน Zn, Cd) และ VI (เชน S, Se, Te) สรางพันธะเปน CdS, CdTe เปนตน ในอดีต เซลลแสงอาทิตยที่ผลิตจาก วัสดุเหลานี้มรี าคาแพงมาก แตในปจจุบันราคาของเซลลแสงอาทิตยเหลานี้ไดลดลงมากแลว เซลลแสงอาทิตย ชนิด CdS/CdTe ไดมีการผลิตและขายเชิงพาณิชยแลว และเซลลแสงอาทิตยชนิด GaAs และ InP ก็ใชกันมาก ในอวกาศ นอกจากนี้ในปจจุบัน สารประกอบกึ่งตัวนําตระกูลคารโคไพไรตซึ่งประกอบดวยธาตุตระกูล I-IIIVI2 เชน CuInSe2 ก็กําลังไดรับความสนใจมากเชนกัน ตารางที่ 1.5 แสดงตัวอยางรายชื่อสารประกอบกึ่งตัวนําชนิดตางๆ ที่กําลังไดรับความสนใจในการ ประดิษฐเปนเซลลแสงอาทิตยกันมากในปจจุบัน
1.8.1 คุณสมบัติเดนของเซลลแสงอาทิตยชนิดสารประกอบกึ่งตัวนํา คุณสมบัติเดนของเซลลแสงอาทิตยชนิดสารประกอบกึ่งตัวนําเหลานี้ มีดังตอไปนี้ (1) มีศักยภาพที่ทําใหเซลลแสงอาทิตยมีประสิทธิภาพสูง จากการศึกษาทางทฤษฎีพบวา ชองวางพลังงานของสารกึ่งตัวนําที่จะใหประสิทธิภาพสูงที่สุดมีคาอยู ในชวง 1.4-1.5 eV วัสดุสารประกอบกึ่งตัวนําหลายชนิด เชน GaAs (1.41 eV) InP (1.35 eV) และ CdTe (1.44 eV) จึงมีศักยภาพที่จะใหประสิทธิภาพสูงได (2) มีคาสัมประสิทธิ์การดูดกลืนแสงสูงและสามารถผลิตใหเปนฟลมบางได กรณีวัสดุ Si ซึ่งเปนสารกึ่งตัวนําชนิดชองวางพลังงานแบบไมตรง ดังนั้นสัมประสิทธิ์การดูดกลืนแสง ของ Si จึงมีคานอย และการที่จะให Si ดูดกลืนแสงอาทิตยมากๆ ตองใชผลึก Si ที่มีความหนาถึงระดับ 100 μm ในขณะที่สารประกอบกึ่งตัวนําหลายชนิดมีชองวางพลังงานชนิดตรง จึงมีความสามารถดูดกลืนแสงไดดี และดวยความหนาเพียงระดับสิบ μm ก็สามารถดูดกลืนแสงอาทิตยไดมาก [91] รูปที่ 1.107 แสดงการ เปรียบเทียบความสัมพันธระหวางประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยและความหนาของผลึกชนิด Si และชนิด
1-103
ตารางที่ 1.5 วัสดุสารกึ่งตัวนําที่ใชประดิษฐเปนเซลลแสงอาทิตย
เทคนิคการแกะฟลม ผลึกเดี่ยวฟลมบาง เซลลชนิดราคาถูก/น้ําหนักเบา
เทคนิคเอพิแทกซีบน แผนฐานตางๆ ชนิด ตระกูล III-V ผลึกโพลีฟลมบาง
ตระกูล II-VI ชารลโคไพไลต
วัสดุประสิทธิภาพสูง/ รอยตอเดี่ยว
GaAs
วิธีการเอชชิง วิธีการแกะฟลมใหรอน GaAs/Si, InP/Si, GaAs/Ge GaAs, InP/Graphite, Mo, W CdS/CdTe Cu2S/CdS CdZnS/CuInSe2, CuInGaSe2, CuInS2 a-Si/CuInSe2 AlGaAs/GaAs GaAs
InP เซลลชนิดประสิทธิภาพสูง AlGaAs/GaAs มัลติเลเยอร GaAs/Si AlGaAs/GaAs InP
ชนิดรวมแสง
รอยตอหลายชั้น
ซอนแบบกล โมโนลิทิก
AlGaAs/GaAs GaAs/Si, GaAs/Ge, AlGaAs/GaAs, GaAs/CuInSe2 รวมแสง
วัสดุประสิทธิภาพสูง
เซลลสําหรับใชในอวกาศ วัสดุทนรังสีตางๆ
InP
1-104
GaAs/Si, GaAs/InGaAs, GaAs/CuInSe2 AlGaAs/GaAs, GaInP/GaAs GaAs/Si, GaAs/Ge
รูปที่ 1.107 การเปรียบเทียบความสัมพันธระหวางประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยและความหนาของ ผลึกชนิด Si และ GaAs GaAs จากรูปจะเห็นไดวา ถาเราตองการไดประสิทธิภาพประมาณ 15% เซลลแสงอาทิตยชนิด GaAs จะใช ความหนาเพียง 10 μm ในขณะที่เซลลแสงอาทิตยชนิด Si จะตองใชความหนาถึง 100 μm (3) มีความทนทานตอรังสีตางๆ ในอวกาศ เนื่องจากเซลลแสงอาทิตยชนิดสารประกอบกึ่งตัวนําไมใชความหนามาก จึงมีคุณสมบัติทนทานตอ รังสีตางๆ ในอวกาศไดดีกวา Si ในทางปฏิบัติจริงนิยมใชเซลลแสงอาทิตยชนิด GaAs และ InP ในดาวเทียม (4) ทํางานไดดีภายใตแสงที่มีความเขมสูง สารประกอบกึ่งตัวนําเหลานี้ มีชองวางพลังงานกวางกวา Si ดังนั้นแมจะใชงานที่อุณหภูมิสูง กระแสไฟฟามืดจึงเปลี่ยนแปลงนอยกวา จึงยังคงรักษาประสิทธิภาพใหคงไวที่คาสูงไดดีกวา Si ดังแสดงในรูปที่ 1.108 [92] ดังนั้นจึงไดรับผลกระทบตอความรอนขณะใชงานนอย
รูปที่ 1.108 อิทธิพลของอุณหภูมิที่มีตอประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิด Si และ AlGaAs/GaAs
(5) มีศักยภาพในการดูดกลืนแสงในลักษณะสเปกตรัมที่กวางไดดี เราสามารถผลิตเซลลแสงอาทิตยที่ประกอบดวยสารประกอบกึ่งตัวนําที่มีชองวางพลังงานตางๆ ให ซอนทับกันหลายชั้นได ทําใหเซลลแสงอาทิตยแบบหลายชั้นสามารถดูดกลืนแสงอาทิตยไดที่ยานความยาวคลื่น ที่กวาง ทําใหเซลลแสงอาทิตยสามารถดูดกลืนแสงอาทิตยไดอยางมีประสิทธิภาพ
1-105
1.8.2 คุณสมบัติพื้นฐานของสารประกอบกึ่งตัวนําสําหรับการใชงานเปน เซลลแสงอาทิตย 1) คุณสมบัติพื้นฐานทั่วไป ตารางที่ 1.6 และ ตารางที่ 1.7 แสดงคุณสมบัติทางฟสิกสตางๆ ของสารกึ่งตัวนําตระกูล III-V และ II-VI ตามลําดับ คุณสมบัติเดนของสารประกอบกึ่งตัวนําเหลานี้คือ การเปลี่ยนแปลงสวนผสม
ตารางที่ 1.6 คุณสมบัติพื้นฐานของสารประกอบกึ่งตัวนําตระกูล III-V
วัสดุ
โครง สราง
คาคงที่โครงผลึก (nm)
a0 AlP AlAs AlSb
GaN GaP
GaAs GaSb
InN InP InAs
ชอวาง พลังงาน (eV)
ความคลองตัว (cm2/V.s) (300K) อิเล็กตรอน
c0
CB ZB CB ZB CB ZB
0.5463
2.45(X)
80
0.5661
3.11(Γ) 2.13(X) 2.218(Γ) 1.62(X)
180
HEX WZ CB ZB
0.3180
CB ZB CB ZB HEX WZ CB ZB CB ZB
0.6136
200
โฮล
อิเล็กตรอน
โฮล
420
2.6 x 10-9
1.3 x 10-9
380
0.5450
2.78(Γ) 2.24(X)
200
0.5642
1.428
8,500
0.6094
0.72
7,700
1,400 4,800 (77K)
5.692
สัมประสิทธิ์ การดูดกลืน แสง (1/cm)
1.5x105 (hv~4eV)
3.39
0.3533
5.166
เวลาอายุพาหะ (s)
120 1,000 (77K) 420
3x10-9
8 x 10-8
10-5~10-6
2.1 x10-3
1.1x104 (hv=1.6 eV) 1x104 (hv=0.8 eV)
2.4
0.5869
1.351
6,060
150
2x10-3
2.6 x 10-6
6.6058
0.356
33,000
460
10-3
5x10-3
1-106
4x103 (0.5 eV)
ตารางที่ 1.7 คุณสมบัติพื้นฐานของสารประกอบกึ่งตัวนําตระกูล II-VI รายการ คาคงตัวแลตทิซ ความหนาแนน สัมประสิทธิ์ การขยายตัว จุดหลอมเหลว ชองวางพลังงาน การนําไฟฟา ความคลองตัว (cm2V-1s-1) อิเล็กตรอนแอฟฟนิตี คาคงที่ไดอิเล็กทริก ดัชนีหักเหแสง (1 μm)
a0 (ล) c0 (ล) g.cm-3 ⊥c (10-6/°C) // c °C (eV) ชนิด ชนิด อิเล็กตรอน โฮล (eV) ε33/ε0 ε11/ε0 n0 ne
โครงสราง
ZnS 3.822 6.259 4.087 6.5 4.6 1,718 3.6 ตรง n 120 3.9 8.00 8.58 2.356* 2.378* Hexagonal
ZnSe 5.669
ZnTe 6.103
5.262 7.1
5.636 8.4
1,526 2.7 ตรง n, p 530 4.09
1,292 2.23 ตรง p 530 130 3.5
9.25 2.48
Cubic
CdS 4.137 6.716 4.819 4.6
CdSe 4.297 7.006 5.670 4.9
2.6 1,397 2.42 ตรง n 350
2.9 1,258 1.72 ตรง n 650
10.1 2.79
4.5 10.33 9.35 2.336
4.95 10.65 9.70 2.550
Cubic
2.354 Hexagonal
CdTe 6.483 5.849 4.5
1,097 1.44 ตรง p, n 1000 65 4.28 11.0 2.84
2.570 Hexagonal Hexagonal
*ที่ความยาวคลื่น 0.589 μm ทําใหคาพารามิเตอรตางๆ เปลี่ยนแปลงได เชน ชองวางพลังงานและคาคงตัวแลตทิซ ชองวางพลังงานที่ เหมาะสมของสารกึ่งตัวนําที่จะทําใหสารกึ่งตัวนําสามารถดูดกลืนแสงอาทิตยไดดีที่สุดมีคาประมาณ 1.4-1.5 eV สารประกอบกึ่งตัวนําที่มีชองวางพลังงานชวงนี้ไดแก GaAs (1.41 eV), InP (1.35 eV) และ CdTe (1.44 eV) เปนที่นาโชคดีวา สารประกอบกึ่งตัวนําตระกูล III-V มีความบกพรองของโครงสรางนอย เราสามารถ ปลูกผลึกของสารประกอบกึ่งตัวนําตระกูล III-V ใหเปนกอนใหญได และยังสามารถใชเทคโนโลยีเอพีแทกซี ผลิตใหผลึกมีลักษณะเปนฟลมพื้นที่ใหญไดดีและรักษาคา stoichiometry ไวได และที่สําคัญอีกประการหนึ่งคือ สามารถโดปใหเปนชนิด p และ n ได ดานคุณสมบัติทางแสงก็มีชองวางพลังงานแบบตรง มีสัมประสิทธิ์การ ดูดกลืนแสงสูง ทางดานสารประกอบกึ่งตัวนําตระกูล II-VI สวนมากมีชองวางพลังงานแบบตรงและมีสัมประสิทธิ์การ ดูดกลืนแสงสูง โดยเฉพาะอยางยิ่ง CuInSe2 มีสัมประสิทธิ์การดูดกลืนแสงสูงมาก จึงเหมาะสมในการผลิตให เปนฟลมบาง ปญหาของสารกึ่งตัวนําตระกูล II-VI คือการโดป กลาวคือ วัสดุที่สามารถโดปใหเปนทั้งชนิด p และ n ไดมีเฉพาะ CdTe และ CuInSe2 วัสดุ CdS ซึ่งมีชองวางพลังงานกวางประมาณ 2.42 eV นิยมใชเปน ชั้นหนาตางกวางรับแสงอาทิตยในโครงสรางแบบเฮเทโร 2) อิทธิพลของการรวมตัวของพาหะ
1-107
พารามิเตอรที่สําคัญเกี่ยวกับออปโตอิเล็กทรอนิกสของสารประกอบกึ่งตัวนําไดแก ความคลองตัว (μ) สภาพนําไฟฟา (σ) เวลาอายุของพาหะขางนอย (τ) ระยะทางแพรซึมของพาหะขางนอย (L) และ กระบวนการรวมตัวของพาหะ พารามิเตอรเหลาสามารถไดรับผลกระทบจากหลายสาเหตุ เชน สารเจือปน ความบกพรอง เกรนตางๆ และผิวของผลึก ในเซลลแสงอาทิตย พาหะขางนอยที่เกิดจากแสง เมื่อเวลาผานไปจะคอยๆ รวมตัวกับพาหะขางมาก ดวยกระบวนการตางๆ และจํานวนของพาหะขางนอยก็จะลดลง ถาความหนาแนนของศูนยกลางการรวมตัว (Nr) มีคามาก จํานวนของพาหะขางนอยก็จะยิ่งลดลงอยางรวดเร็ว เวลาอายุของพาหะขางนอย τ โดยทั่วไป แปรผกผันกับ Nr ตามสมการดังนี้ τ =
โดยที่
σ v
1
(1.126)
σvN r
: พื้นที่ตัดขวางของศูนยกลางจับพาหะ (capture cross section) และ : ความเร็วเชิงความรอน (thermal velocity) ของพาหะขางนอย
โดยพื้นฐานแลว ลักษณะสมบัติของเซลลแสงอาทิตยไดรับผลกระทบจากการรวมตัวของพาหะในเนื้อ สารกึ่งตัวนํา (ซึ่งมีการรวมตัวของอิเล็กตรอนและโฮล การรวมชนิด Auger และการรวมตัวที่ระดับแทร็ป) รูป ที่ 1.109 แสดงความสัมพันธระหวางระยะทางแพรซึมของพาหะขางนอยและความหนาแนนของการโดปสารกึ่ง ตัวนํา InP ทั้งชนิด n และชนิด p [93] และสามารถเขียนเปนสมการแสดงคาใกลเคียงไดดังนี้
รูปที่ 1.109 ความสัมพันธระหวางระยะทางแพรซึมของพาหะขางนอยและความหนาแนนของการโดป ของสารกึ่งตัวนํา InP ชนิด n และชนิด p [93] กรณีโฮลเปนพาหะขางนอย
1 2 Lh
1 Lh
= =
กรณีอิเล็กตรอนเปนพาหะขางนอย
1 −4 2
( 3 × 10 ) n
+ 4 × 10
−11
( 2.87 × 10 ) Le 1 Le
18
−3
18
−3
เมื่อ
n ≤ 10 cm
เมื่อ
n > 10 cm
เมื่อ
p ≤ 4 × 10 cm
เมื่อ
p > 10 cm
0.908 12
1
n
= =
p
0 .3
( 215 . ) p
17
0.83 10
( 4.77 × 10 )
1-108
17
−3
(1.127) (1.128) −3
(1.129) (1.130)
รูปที่ 1.110 แสดงตัวอยางผลการคํานวณความสัมพันธระหวางลักษณะสมบัติเอาตพุตของ เซลล แสงอาทิตยชนิด CuInSe2 และเวลาอายุของพาหะขางนอย [94] จากรูปนี้ทําใหเราทราบวาเมื่อเวลา อายุ พาหะสั้นลง จะทําใหพารามิเตอรเอาตพุตตางๆ ทั้งแรงดันไฟฟาวงจรเปด กระแสไฟฟาลัดวงจร และ ประสิทธิภาพลดลง ระยะทางการแพรซึมของพาหะขางนอยจะลดอยางชาเมื่อความหนาแนนของการโดป เพิ่มขึ้น แตเมื่อความหนาแนนของการโดปมากกวาประมาณ 5×1017∼1018 cm-3 เวลาอายุของพาหะจะลดลง อยางรวดเร็วซึ่งไดรับอิทธิพลจากการรวมตัวชนิด Auger รูปที่ 1.111 แสดงระดับพลังงานของจุดบกพรองและสารเจือปนในผลึกสารกึ่งตัวนําชนิด GaAs, InP และ CdTe เรามีความจําเปนตองพยายามลดปริมาณของสารเจือปนประเภทโลหะทรานซิชัน ออกซิเจน ชองวาง (vacancy) อะตอมแทรกใหนอยที่สุด เพราะวาความบกพรองเหลานี้เปนสาเหตุของเกิดระดับแทร็ ปที่อยูลึกในชองวางพลังงาน และสามารถจับพาหะขางมากได และเปนศูนยกลางการรวมตัวของพาหะดวย นอกจากนี้ ผิวของสารกึ่งตัวนําก็เปนศูนยกลางของการรวมตัวดวย ทั้งนี้เพราะวาอะตอมที่ผิวจะมีแขน ขาดเกิดขึ้นเสมอ แขนขาดที่ผิวเหลานี้เปนสาเหตุของการเกิดระดับแทร็ปที่ผิวสารกึ่งตัวนําซึ่งจะทําใหพาหะขาง นอยรวมตัวและเปนการสูญเสีย
รูปที่ 1.110 ผลการคํานวณความสัมพันธระหวางลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยชนิด CuInSe2 และเวลาอายุของพาหะขางนอย [94]
รูปที่ 1.111 ระดับพลังงานของจุดบกพรองและสารเจือปนในผลึกสารกึ่งตัวนําชนิด GaAs, InP และ CdTe
1-109
ในกรณีสารกึ่งตัวนําชนิด n กระแสไฟฟา Js ของพาหะขางนอยที่สูญเสียไปอันเนื่องจากการรวมตัวที่ ผิวจะแปรผันตรงกับความหนาแนนของโฮลซึ่งเปนพาหะขางนอยสวนเกิน (excess minority carriers) ดังนี้ J s = qS h Δp n
โดยที่
Sh
(1.131)
คือความเร็วของการรวมตัวของโฮลที่ผิวและมีคาเทากับ S h = σ p vN ss
(1.132)
โดยที่ Nss คือความหนาแนนของศูนยกลางการรวมตัวที่ผิวตอหนวยพื้นที่ นอกจากนี้ การปลูกสารกึ่งตัวนําตางชนิดกันหรือสวนผสมที่ไมเทากันใหซอนทับกัน อาจทําใหเกิด ปญหาความไมตอเนื่องของแถบพลังงานและความไมเทากันของคาคงตัวแลตทิซ และจะเปนสาเหตุที่ทําใหเกิด ระดับแทร็ปและศูนยกลางของการรวมตัวของพาหะจํานวนมากที่รอยตอของสารกึ่งตัวนํา และจะทําให ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยลดลง
1.8.3 โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิดสารประกอบกึ่งตัวนํา เราอาจแบงโครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิดสารประกอบกึ่งตัวนําออกเปนชนิดรอยตอเดี่ยว (single-junction) ซึ่งมีรอยตอ p-n เพียงชุดเดียว และชนิดหลายรอยตอ (multi-junction) ซึ่งมีรอยตอ p-n หลายชุด ดังมีรายละเอียดตอไปนี้ (1) เซลลแสงอาทิตยชนิดรอยตอเดี่ยว รูปที่ 1.112 แสดงโครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิดรอยตอเดี่ยวซึ่งสามารถแบงออกเปนชนิด ยอยๆ ไดดังนี้ 1. รอยตอโฮโม (homo-junction) เชน n+-p-InP, n+-p-GaAs 2. รอยตอซิงเกิลเฮเทโร (single hetero-junction) เชน p-AlGaAs/p-n-GaAs 3. รอยตอดับเบิลเฮเทโร (double hetero-junction) เชน p-InGaP/p-n-GaAs/n-InGaP 4. รอยตอชองวางพลังงานลาด (graded band gap) เชน p-AlGaAs/n-GaAs 5. รอยตอเฮเทโรของวัสดุตางชนิด (hetero-junction) เชน n-CdS/p-InP, n-ITO/p-InP 6. รอยตอ MIS (Metal/Insulator/Semiconductor junction) หรือชอตตกีแบรเรียร (Schottky barrier) เชน p-InP/SiO2/metal โดยทั่วไป ความเร็วของการรวมตัวของพาหะขางนอยที่ผิวของวัสดุ GaAs มีคาสูงมากถึงระดับ 106107cm/s ในยุคแรกๆ ชวง ค.ศ. 1956 ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยรอยตอเดี่ยวมีคาต่ํามากเพียง 6.5% [95] ตอมาจึงมีการเสนอใหชั้นรับแสงบางลง ดังนั้นชั้นดานบนที่รับแสงอาทิตยจะตองออกแบบใหบาง มาก เชน อาจบางกวา 500 ล ทั้งนี้เพราะวาการสรางใหรอยตอบาง จะทําใหชั้นปลอดพาหะขยายไปเกือบถึงผิว ของเซลลแสงอาทิตย และสนามไฟฟาจากชั้นปลอดพาหะจะชวยขับพาหะใหไหลออกสูวงจร ภายนอกไดดี ขึ้น ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยรอยตอโฮโมที่ดีที่สุดมีคาประมาณ 20% [96]
1-110
รูปที่ 1.112 โครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิดรอยตอเดี่ยวแบบตางๆ ตอมาเพื่อแกปญหาลดความเร็วในการรวมตัวของพาหะที่ผิว GaAs นักวิทยาศาสตรที่ IBM จึงเสนอ ใหเคลือบชั้นดานบนดวย AlGaAs ซึ่งปรากฏวาไดผลเปนอยางดี [97] และในปจจุบันการใช AlGaAs ดานบน ถือวาเปนโครงสรางมาตรฐานของเซลลแสงอาทิตยชนิด GaAs มีการใชงานอยางแพรหลายในดาวเทียม ขอดีเดนของชั้น AlGaAs ชั้นบนสุดนี้มีหลายขอ เชน - มีชองวางพลังงานกวาง จึงเปนชั้นหนาตางที่ดี - ความเร็วในการรวมตัวที่ผิวมีคานอยกวา GaAs - ทําใหสามารถออกแบบความลึกของรอยตอไดอิสระขึ้น - ทําหนาที่เปนชั้นคลาย Back Surface Field (BSF) ได ขอเสียบางประการของ AlGaAs คือ เมื่อ AlGaAs สัมผัสกับอากาศจะเกิดปฏิกิริยากับออกซิเจนที่ คอนขางเร็ว ทําใหมีชั้นออกไซดบางๆ ที่มีความตานทานสูงเกิดขึ้นที่ผิวของ AlGaAs ตอมาไดมีการคนพบวา GaInP ทําปฏิกิริยากับออกซิเจนไดชากวาและสามารถผลิตใหเปนชั้นหนาตางไดเชนกัน รูปที่ 1.113 แสดง ลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยที่มีโครงสรางรอยตอเฮเทโรของ InGaP และ GaAs มีประสิทธิภาพ สูงถึง 25.7% [98] ทางดานรอยตอชนิดชองวางพลังงานลาดซึ่งออกแบบใหชองวางพลังงานของชั้น p คอยๆ ลดลงตาม ความลึก ความลาดของชองวางพลังงานเชนนี้จะสรางสนามไฟฟาซึ่งจะชวยขับใหพาหะไมรวมตัวที่ผิวแตจะวิ่ง ไปยังชั้นปลอดพาหะไดดีขึ้น (2) เซลลแสงอาทิตยชนิดหลายรอยตอ คาประสิทธิภาพสูงสุดในทางทฤษฎีของเซลลแสงอาทิตยรอยตอเดี่ยวมีคาประมาณ 26-28% การที่ จะไดประสิทธิภาพสูงกวานี้ เราจําเปนตองออกแบบใหเซลลแสงอาทิตยมีรอยตอ p-n จํานวนหลายชุดซอนทับ กัน บางครั้งอาจเรียกโครงสรางเชนนี้วา “ทันเด็ม” (tandem cell) ขอเดนของโครงสรางทันเด็มไดแก การใช สรางรอยตอ p-n ของสารกึ่งตัวนําที่มีชองวางพลังงานที่กวางอยูดานบนสุด และการใชรอยตอ p-n ของสารกึ่ง ตัวนําที่มีชองวางพลังงานแคบอยูดานลาง ดวยเทคนิคนี้จะทําใหเซลลแสงอาทิตยสามารถดูดกลืนแสงอาทิตยที่
1-111
ความยาวคลื่นหลายๆ คาไดอยางดี รูปที่ 1.114 แสดงตัวอยางโครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิดทันเด็ม จํานวนของขั้วไฟฟาอาจมีเพียง 2 ขั้ว (รูป ก) หรือ 3 ขั้ว (รูป ข) หรือ 4 ขั้ว (รูป ค)
1.8.4 เซลลแสงอาทิตยที่ทนตอรังสีตางๆ เซลลแสงอาทิตยที่ติดตั้งอยูในดาวเทียมที่โคจรอยูรอบโลกหรือในยานอวกาศที่เดินทางไกล ตองมี คุณสมบัติทนทานตอสภาพแวดลอมที่รุนแรง เชน อุณหภูมิสูงและตองรับรังสีตางๆ จากอวกาศ เซลลแสงอาทิตชนิด InP มีการทดลองสรางตั้งแตชวง ค.ศ. 1958 แตยังไมมีจุดเดน จนกระทั่งมีการคนพบใน ค.ศ. 1984 วา InP เปนสารกึ่งตัวนําที่ทนตอรังสีในอวกาศและอุณหภูมิสูงๆ ไดดี รูปที่ 1.115 แสดงผลการ ทดลองผลกระทบของการยิงลําอิเล็กตรอนที่มีตอกําลังไฟฟาเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยชนิดตางๆ [99] จากรูปนี้ไดขอมูลวาเซลลแสงอาทิตยชนิด InP จะทนตอรังสีไดดีกวาชนิด Si และ GaAs และที่นาสนใจคือการ
รูปที่ 1.113 ลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยที่มีรอยตอเฮเทโรของ InGaP และ GaAs [98]
รูปที่ 1.114 ตัวอยางโครงสรางของเซลลแสงอาทิตยชนิดทันเด็มซึ่งมีขั้วไฟฟา 2 ขั้ว -4 ขั้ว
รูปที่ 1.115 ผลการทดลองผลกระทบของการยิงลําอิเล็กตรอนที่มีตอกําลังไฟฟาเอาตพุต ของเซลลแสงอาทิตยชนิดตางๆ [99]
1-112
สองดวยแสงเขาสูเซลลแสงอาทิตยชนิด InP เปนเวลานานๆ จะทําใหเกิดการแอนนีลิง (annealing) และทําให ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิด InP ฟนกลับดีขึ้นมาได (recovery) ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตย ชนิด InP ในปจจุบันสูงถึงระดับ 22% แลว [100]
1.8.5 เซลลแสงอาทิตยชนิด GaAs บนแผนฐานชนิด Si ไดกลาวมาแลววาผลึก Si เปนสารกึ่งตัวนําที่มีราคาถูก แตมีขอเสียตรงที่ชองวางพลังงานเปนชนิดไม ตรง ในขณะที่ผลึก GaAs เปนสารกึ่งตัวนําที่มีชองวางพลังงานเปนชนิดตรงและมีราคาแพงมาก ดังนั้นถาเรา สามารถนําเอาขอดีของผลึกทั้ง 2 ชนิดมาใชใหเปนประโยชนที่สุด ก็อาจทําใหเราไดเซลลแสงอาทิตยที่มีราคา ไมแพงมากนักและประสิทธิภาพสูง ดวยหลักการเชนนี้จึงไดมีความคิดที่จะสรางเซลลแสงอาทิตยชนิด GaAs ซอนทับแผนฐาน Si (นิยมเรียกวา GaAs on Si) รูปที่ 1.116 แสดงตัวอยางโครงสรางและผลการทดลอง ประดิษฐเซลลแสงอาทิตยชนิด GaAs on Si ซึ่งมีประสิทธิภาพ 19.2% [101] ปญหาที่ตองแกไขในเซลลแสงอาทิตยชนิดนี้คือ คาคงตัวแลตทิซของ GaAs แตกตางกับของ Si ถึง 4% ความไมเขาคูของคาคงตัวแลตทิซ (lattice mismatch) ที่มากเชนนี้ ทําใหเกิดจุดบกพรองขึ้นที่รอยตอและ บางครั้งทําให GaAs ถึงกับแตกเสียหาย และเกิดสภาพเคนภายในฟลม GaAs ปญหาเหลานี้ทําใหคุณสมบัติ ออปโตอิเล็กทรอนิกสของ GaAs เลวลง ตัวอยางความพยายามแกปญหาเหลานี้ เชน การปลูกฟลม GaAs ให เปนมัลติเลเยอรหรือเปนชั้นสเตรน (strained layer) เปนตน รูปที่ 1.117 แสดงความสัมพันธระหวาง ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยและความหนาแนนของจุดบกพรองในหนึ่งหนวยพื้นที่ เสนทึบแสดงผลการ คํานวณและจุดตางๆ แสดงผลการทดลอง จากรูปนี้จะเห็นวาความหนาแนนของจุดบกพรองควรมีคานอยกวา 5 5 -2 × 10 cm
รูปที่ 1.116
ตัวอยางโครงสรางและลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยรอยตอเฮเทโรชนิด GaAs/Si ซึ่งมีประสิทธิภาพ 19.2% [101]
รูปที่ 1.117 ความสัมพันธระหวางประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยและความหนาแนนของจุดบกพรอง ในหนึ่งหนวยพื้นที่ เสนทึบแสดงผลการคํานวณและจุดตางๆ แสดงผลการทดลอง
1-113
อนึ่ง ความหนาแนนของจุดบกพรองตอหนวยพื้นที่ ภาษาอังกฤษนิยมเรียกวา EPD ซึ่งยอมาจากคําวา etched pitch density (cm-2) ศัพทคํานี้มีที่มาวาเมื่อตัดผลึกออกเปนแวนผลึก (wafer) แลว ผูผลิตจะทําการ กัด (etch) ผิวผลึกและทําการนับจํานวนจุดบกพรองที่ผิวของแวนผลึก
1.8.6 เซลลแสงอาทิตยชนิด CdTe และ CIS สารประกอบกึ่งตัวนําตระกูล II-VI มีลักษณะเดนที่สามารถผลิตใหเปนพื้นที่ใหญไดงาย และแมวา เกรน (grain) ของผลึกจะมีขนาดเล็กระดับ μm ก็สามารถใหประสิทธิภาพที่สูงได เซลลแสงอาทิตยชนิด CdS/Cu2S ไดรับการพัฒนาขึ้นเมื่อ ค.ศ. 1980 [102] แตมีปญหาเรื่องประสิทธิภาพลดลงเมื่อใชงานนานๆ และไมสามารถแกไขปญหานี้ได ตอมาจึงถึงยุคของเซลลแสงอาทิตยชนิด CdTe และ CuInSe2 (นิยมเรียกสั้นๆ วา CIS) ปจจุบันเซลลแสงอาทิตยทั้ง 2 ชนิดนี้มีประสิทธิภาพสูงถึง 14-15% แลว ขณะนี้ภาคอุตสาหกรรมเริ่ม ผลิตเซลลแสงอาทิตยชนิด CdTe และ CIS ออกขายแลว [103-104]
1.8.7 แนวทางการพัฒนาเซลลแสงอาทิตยใหมีประสิทธิภาพสูง ดังไดกลาวมาแลววาเซลลแสงอาทิตยสามารถประดิษฐไดจากวัสดุสารกึ่งตัวนําชนิดตางๆ ไดมากมาย สารกึ่งตัวนําเปนวัสดุที่นิยมนํามาใชงานมากที่สุดเพราะมีคุณสมบัติทางแสงที่ดีกวาวัสดุชนิดอื่น ประสิทธิภาพ ของเซลลแสงอาทิตยหมายถึงอัตราสวนของพลังงานไฟฟาที่เซลลแสงอาทิตยสามารถผลิตไดสูงสุดตอพลังงาน ของแสงที่ตกกระทบเซลลแสงอาทิตย เหตุผลความจําเปนที่เราตองการเซลลแสงอาทิตยที่มีประสิทธิภาพสูงก็ เพราะจะชวยลดพื้นที่การใชงานลงได ซึ่งจะชวยใหระบบการใชงานเซลลแสงอาทิตยมีราคาถูกลง เซลล แสงอาทิตยจะทํางานไดประสิทธิภาพสูงเพียงไรนั้นมีหลักการที่สําคัญ คือจะตองชักนําใหพลังงานแสงเดิน ทางเขาสูเซลลแสงอาทิตยใหมากที่สุด จะตองผลิตคูอิเล็กตรอนและโฮลดวยพลังงานแสงใหไดปริมาณมากที่สุด และจะตองกวาดอิเล็กตรอนและโฮลเหลานั้นใหไหลออกไปสูวงจรภายนอกใหไดมากที่สุด ตารางที่ 1.8 แสดง กลไกพื้นฐานที่จําเปนและเทคโนโลยีเพื่อปรับปรุงใหประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยสูงขึ้นได [105] ใน หัวขอนี้เราจะสรุปอีกครั้งวาจะมีเทคโนโลยีในการปรับปรุงประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยใหสูงขึ้นไดอยางไร
ตารางที่ 1.8
กลไกพื้นฐานการทํางานของเซลลแสงอาทิตยและเทคโนโลยีพื้นฐานเพื่อปรับปรุง ประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตย
กลไกพื้นฐานที่จําเปน
เทคโนโลยีทางปฏิบัติ
1. ชักนําใหแสงเขาสูสารกึ่งตัวนําใหมากที่สุด และขยายผลตอบสนองเชิงสเปกตรัมใหกวางที่สุด
1.1 เคลือบวัสดุปองกันการสะทอนแสงที่ผิวดานหนา 1.2 ทําผิวใหขรุขระเพื่อเพิ่มระยะทางเดินของแสงใน สารกึ่งตัวนํา 1.3 เพิ่มการสะทอนแสงที่ผิวดานหลัง 2.1 เลือกสารกึ่งตัวนําที่มีสัมประสิทธิ์การดูดกลืนแสงสูงและมี สภาพนําไฟฟาดวยแสงสูง 2.2 ปรับปรุงคุณภาพของสารกึ่งตัวนําโดยพยายามเพิ่มผลคูณของ อายุพาหะและความคลองตัว 2.3 ลดการรวมตัวของคูอิเล็กตรอนและโฮลที่ถูกผลิตดวยแสง โดยลดการรวมตัวที่รอยตอ p-n, p-i และ i-n (เชน ใช รอยตอแบบลาดเพื่อลดความไมเขาคูของแลตทิซ) และที่ ผิวดานหนาและดานหลัง
2. ผลิตคูอิเล็กตรอนและโฮลใหไดมากที่สุด
1-114
3. รวบรวมคูอิเล็กตรอนและโฮลที่ผลิตดวยแสง ใหมากที่สุด
4. ลดการสูญเสียอันเนื่องจากความตานทานอนุกรม ภายในของเซลลแสงอาทิตย 5. ลดการสูญเสียของแรงดันไฟฟา
6. เพิ่มผลตอบสนองทางสเปกตรัมใหมีความกวาง ที่สุด
3.1 ใชปรากฏการณโฟโตโวลทาอิกแบบพัดพา (driff type) เชน ใชรอยตอ p-i-n 3.2 ใชชองวางพลังงานแบบลาด การโดปสารเจือปนแบบลาด และใช back surface field effect (BSF) 3.3 ใชปรากฏการณ minority carrier mirror effect 3.4 ใชโครงสรางซูเปอรแลตทิซ 4.1 ลดความตานทานของขั้วโปรงใสดานหนา 4.2 ออกแบบรูปรางของขั้วโลหะใหเหมาะสมที่สุด 4.3 ใชปรากฏการณ tunneling injection (MIS) 5.1 ลดการรวมตัวของคูอิเล็กตรอนและโฮลโดยใช mirror effect ของรอยตอแบบเฮเทโร 5.2 ใชปรากฏการณโฟโตโวลทาอิกแบบพัดพา 5.3 ใชโครงสราง BSF 6.1 ใชเซลลฯ แบบ stack 4 ขั้ว 6.2 ใชเซลลฯ แบบ stack 2 ขั้ว 6.3 ใชรอยตอแบบเฮเทโร 6.4 ใชชั้นหนาตางที่มีชองวางพลังงานกวาง เชน รอยตอเฮเทโร และซูเปอรแลตทิซ
ในกลไก (1) เราสามารถชักนําใหแสงเดินทางเขาสูสารกึ่งตัวนําไดดีขึ้น ดวยการลดการสะทอนแสงที่ ผิวดานหนาโดยการเคลือบวัสดุปองกันการสะทอนแสง (Anti-Reflective Coating ยอวา AR) ซึ่งมีหลายชนิด เชน ซิลิคอนออกไซด (SiO) ไททาเนียมออกไซด (TiO) อินเดียมทินออกไซด (ITO) วัสดุ AR เหลานี้เตรียม ขึ้นไดหลายวิธี เชน sputtering, evaporation และ Chemical Vapor Deposition (CVD) ในกรณีเซลล แสงอาทิตยชนิดซิลิคอนถาเคลือบผิวหนาดวยซิลิคอนออกไซด จะทําใหกระแสไฟฟาลัดวงจรเพิ่มขึ้นถึง 20 % นอกจากนี้ก็มีการทําผิวของเซลลใหขรุขระ (textured surface) ซึ่งจะชวยเพิ่มระยะทางเดินของแสงในเซลล แสงอาทิตยใหยาวขึ้น ดวยวิธีการทําผิวใหขรุขระนี้ กลุมของมหาวิทยาลัย New South Wales สามารถผลิต เซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกซิลิคอนมีประสิทธิภาพสูงถึง 23 % [32-34] ในกลไก (2) คือ การผลิตคูอิเล็กตรอนและโฮลดวยแสงซึ่งเปนการอาศัยกระบวนการดูดกลืนแสงทาง ควอนตัม สัมประสิทธิ์การดูดกลืนแสงของวัสดุควรมีคาสูงและคูอิเล็กตรอนและโฮลที่เกิดจากการดูดกลืนแสง จะตองไมรวมตัวกันหรือตายกอนที่จะถูกพัดพาออกสูวงจรภายนอก ในทางปฏิบัติเราตองปรับปรุงคุณภาพของ สารกึ่งตัวนําใหดี เชน ลดจํานวนจุดบกพรอง ลดจํานวนแขนขาด ลดความไมเขาคูของแลตทิซ (lattice mismatch) เพื่อเพิ่มเวลาอายุพาหะ (life time) และความคลองตัว (mobility) ตัวอยางการปรับปรุงคุณภาพ ของฟลมบางอะมอรฟสซิลิคอนอาจใชการใชเครื่องมือปลูกฟลมวิธีพิเศษตางๆ เชน ระบบผลิตแบบ crossfield [106], ระบบผลิตแบบ triode, Photo-CVD และ Electron-Cyclotron Resonance Plasma CVD [107] เปนตน เมื่อไดคูอิเล็กตรอนและโฮลแลว ขั้นตอไปจะตองกวาดหรือขับเคลื่อนพาหะเหลานี้ใหไหลออกสูวงจร ภายนอกใหมากที่สุด การขับเคลื่อนพาหะใหไหลออกสูวงจรภายนอกทําไดโดยการใชปรากฏการณแพรกระจาย ของพาหะ และการใชสนามไฟฟาศักยใหเกิดขึ้นภายในเซลลแสงอาทิตยดวยการประดิษฐเซลลแสง-อาทิตยให เปนรอยตอ p-n หรือ p-i-n นี้สิ้นเปลืองถึง 30 % ของคาใชจายทั้งหมด ถึงแมวาปจจุบันเทคนิคการสราง รอยตอชนิดตางๆ เชน เฮเทโร และชอตตกีแบรเรียรจะพัฒนาไปมาก แตเทคนิคการสรางรอยตอแบบพื้นที่ กวางใหญและมีความหนาสม่ําเสมอ ยังจําเปนจะตองมีการปรับปรุงอีกมาก การเพิ่มศักยภายในของเซลล แสงอาทิตยอาจทําไดโดยการสรางใหมีรอยตอเปนแบบตางๆ เชน เฮเทโร ซูเปอรแลตทิซ และ back surface
1-115
field (BSF) และแบบชองวางพลังงานมีความลาด เปนตน ตารางที่ 1.9 แสดงขอมูลประสิทธิภาพสูงสุดของ เซลลแสงอาทิตยชนิดตางๆ ที่ผลิตไดในปจจุบัน [105] แนวทางการเพิ่มประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยที่สําคัญอีกแนวทางหนึ่ง ไดแกการออกแบบให เซลลแสงอาทิตยประกอบดวยเซลลแสงอาทิตยที่มีชองวางพลังงานแตกตางกันซอนทับกันหลายๆ ชั้น ซึ่ง เรียกวา “โครงสรางทันเดม” (tandem structure) โดยทั่วไปจะออกแบบใหชองวางพลังงานของเซลลชั้นบนสุด ที่รับแสงกวางกวาชั้นที่อยูลึกลงไปตามลําดับ การออกแบบเชนนี้จะชวยทําใหสเปกตรัมการตอบสนองกวางขึ้น เพราะเซลลแสงอาทิตยชั้นตางๆ จะชวยกันดูดกลืนแสงอาทิตยในยานความยาวคลื่นแสงที่แตกตางกัน กลาวคือ แสงที่มีความยาวคลื่นสั้นจะถูกดูดกลืนมากดวยเซลลแสงอาทิตยที่อยูชั้นบนๆ และแสงที่มีความยาวคลื่นยาวจะ ถูกดูดกลืนมากดวยเซลลแสงอาทิตยที่อยูชั้นลึกลงไป
ตารางที่ 1.9 ลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยที่มีประสิทธิภาพสูงชนิดตางๆ [105] ชองวาง พลังงาน (eV)
วัสดุ
0.67 0.73 1.0 1.1 1.1 1.1 1.1 1.1 1.2 1.35 1.4 1.42
GaAs/Ge GaAs/GaSb CuInSeS/Cds Si (ใชในอวกาศ) Si Si Si Si Pt. cont. CuxS/Cd(ZnS) InP CdTe/CdS GaAs/Ge (ใชในอวกาศ) GaAs GaAs (ใชในอวกาศ) GaAs/GaInP2 GaAs GaAs a-Si:H AlGaAs
1.42 1.42 1.42 1.42 1.42 1.6 1.93
ลักษณะสมบัติ ความ เขมแสง 238 158 1 1 1 21 1 105 1 1 1 1
η (%) 3.6 8.9 15.2 15.0 20.4 20.4 23.0 26.1 10.2 20.0 15.8 18.5
Voc (V) 0.306 0.48 0.613 0.615 0.654 0.711 0.696 0.80 0.578 0.83 0.843 1.01
1 350
24.0 23.9
1 1050 240 1 1
25.7 26.2 27.8 12.0 16.0
FF 0.69 0.713 0.74 0.809 0.826 0.818 0.81 0.83 0.773 0.80 0.745 0.808
Jsc (mA/cm2 ) 13.2 19.8 32.2 41.2 36.2 26.8 39.3 30.2 22.0 29.0 24.2 31.0
T (°C) 21 21 25 28 25 25 24 24 28.5 21 25 28
1.05 1.18
0.845 0.862
26.0 32.1
25 28
1.04 1.18 1.16 0.891 1.41
0.868 0.89 0.857 0.701 0.82
27.4 19.1 21.5 18.4 13.3
8 28 21 25 25
หมายเหตุ ความเขมแสง หมายถึงจํานวนเทาของแสงปกติ รูปที่ 1.118 แสดงผลการคํานวณประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิดอะมอรฟสซิลิคอนที่ ประกอบดวยเซลลที่ซอนทับกัน 2 ชั้น (double junctions) ถาชองวางพลังงานของเซลลแสงอาทิตยชั้นบนและ ชั้นลางเทากับ 1.75 eV และ 1.15 eV ตามลําดับ ผลการคํานวณจะไดประสิทธิภาพสูงสุด 21% [108]
1-116
รูปที่ 1.119 แสดงผลการคํานวณประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิดอะมอรฟสซิลิคอนซึ่ง ประกอบดวยเซลลแสงอาทิตยจํานวน 3 เซลลซอนทับกัน (triple junctions) ถาชองวางพลังงานของเซลลแสงอาทิตยชั้นบน ชั้นกลางและชั้นลางเทากับ 2.0 eV 1.7 eV และ 1.45 eV ตามลําดับ ผลการคํานวณจะได ประสิทธิภาพสูงสุด 24% [108]
รูปที่ 1.118
ผลการคํานวณประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิดอะมอรฟสซิลิคอนที่ประกอบดวย เซลลที่ซอนทับกัน 2 ชั้น (double junctions) ประสิทธิภาพสูงสุดมีคา 21% ไดจากกรณีที่ ชองวางพลังงานของเซลลแสงอาทิตยชั้นบนและชั้นลางเทากับ 1.75 eV และ 1.15 eV ตามลําดับ [108]
รูปที่ 1.119
ผลการคํานวณประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิดอะมอรฟสซิลิคอนที่ประกอบดวย เซลลที่ซอนทับกัน 3 ชั้น (triple junctions) ประสิทธิภาพสูงสุดมีคา 24% ไดจากกรณีที่ ชองวางพลังงานของเซลลแสงอาทิตยชั้นบน ชั้นกลางและชั้นลางเทากับ 2.0 eV 1.7 eV และ 1.45 eV ตามลําดับ [108]
1-117
ชองวางพลังงานของวัสดุอะมอรฟสซิลิคอน (a-Si:H) มีคาประมาณ 1.7-1.8 eV ถาตองการเพิ่ม ชองวางพลังงานทําไดโดยการใชสารประกอบของอะมอรฟสซิลิคอนคารไบด (a-SiC:H) และถาตองการลด ชองวางพลังงานทําไดโดยการใชสารประกอบของอะมอรฟสซิลิคอนเจอรเมเนียม (a-SiGe:H) อยางไรก็ตาม เทคโนโลยีในภาคปฏิบัตินั้นยังมีปญหาวา คุณภาพของวัสดุอะมอรฟสซิลิคอนอัลลอย เชน a-SiC:H และ aSiGe:H นั้นยังไมดีมากนัก ดังนั้นประสิทธิภาพของเซลลแสงอาทิตยชนิดทันเดมเหลานี้จึงยังไมสูงไปกวาชนิด เซลลเดี่ยวมากนัก กลาวคือยังคงอยูที่ระดับประมาณ 12-13 % เทานั้น [109]
1.9 การใชงานเซลลแสงอาทิตย ปจจุบันเซลลแสงอาทิตยถูกนําไปใชงานในหลายดานหลายสาขา ตารางที่ 1.10 แสดงตัวอยางการ ประยุกตใชงานเซลลแสงอาทิตย ในหัวขอนี้จะกลาวถึงหลักการออกแบบระบบเซลลแสงอาทิตย เพื่อความ สะดวกตอการอธิบาย ในหัวขอนี้จะขอแบงการใชงานเซลลแสงอาทิตยออกเปน 2 ประเภทคือ 1) การใชงานกับ ผลิตภัณฑอิเล็กทรอนิกสซึ่งตองการเซลลแสงอาทิตยที่มีกําลังเอาตพุตไมสูง และ 2) การใชงานกับระบบไฟฟา กําลังซึ่งตองการเซลลแสงอาทิตยที่มีกําลังเอาตพตุ สูงๆ ตั้งแตหลายสิบวัตตขึ้นไปถึงหลายกิโลวัตต
1.9.1 การออกแบบระบบเซลลแสงอาทิตยสําหรับผลิตภัณฑอิเล็กทรอนิกส จุดทํางานของเซลลแสงอาทิตย ในการใชงานเซลลแสงอาทิตยไมวาประเภทใด เริ่มแรกผูใชควรทําความเขาใจเกี่ยวกับจุดทํางานของ เซลลแสงอาทิตย รูปที่ 1.120 แสดงกราฟลักษณะสมบัติเอาตพุตและจุดทํางานของเซลลแสงอาทิตย ปกติ กระแสไฟฟาและแรงดันไฟฟาที่เซลลแสงอาทิตยจะสามารถปอนใหกับโหลดไดนั้น จะอยูบนเสนกราฟ I-V นี้ เสมอ ดังนั้นคําวา “จุดทํางาน” จึงหมายถึงจุดที่กําหนดคากระแสไฟฟาและแรงดันไฟฟาที่เซลลแสงอาทิตย ปอนใหโหลดนั่นเอง ตัวอยางวิธีการกําหนดจุดทํางานมีดังนี้ (1) ในกรณีของการตอเซลลแสงอาทิตยกับโหลด จุดทํางานของเซลลแสงอาทิตยจะถูกกําหนดโดยอิมพิแดนซของโหลดดังแสดงในรูป (ก) เสนตรง ในรูปนี้คือเสนโหลด จุดตัดของเสนโหลดกับกราฟ I-V คือ “จุดทํางาน” จากจุดทํางานนี้ เมื่อเราลากเสน ตรงไปตัดกับแกนกระแสไฟฟา จะไดคากระแสไฟฟาทํางาน (คือกระแสไฟฟาที่ปอนใหโหลด) และเมื่อเรา ลากเสนตรงไปตัดกับแกนแรงดันไฟฟา ก็จะไดคาแรงดันไฟฟาทํางาน (คือแรงดันไฟฟาที่ปอนใหโหลด) (2) ในกรณีของการตอเซลลแสงอาทิตยกับแบตเตอรี่ (เพื่อประจุไฟฟา) ในรูป (ข) จุดทํางานของเซลลแสงอาทิตยจะถูกกําหนดโดยแรงดันไฟฟาที่ประจุแบตเตอรี่ เมื่อเรา ลากเสนตรงจากจุดทํางานไปตัดแกนกระแสไฟฟา จะไดคากระแสไฟฟาที่ประจุเขาแบตเตอรี่ และเมื่อเรา ลากเสนตรงจากจุดทํางานไปตัดแกนแรงดันไฟฟา จะไดคาแรงดันไฟฟาที่ประจุเขาแบตเตอรี่ ในการใชงานจริง จุดทํางานของเซลลแสงอาทิตยในทั้ง 2 กรณี ไมจําเปนจะตองเปนจุดเดียวกับ จุด ที่เซลลแสงอาทิตยจะใหกําลังไฟฟาเอาตพุตไดสูงสุด (Pmax) กราฟลักษณะสมบัติของเซลลแสงอาทิตยใน
1-118
ตารางที่ 1.10 ตัวอยางการใชงานเซลลแสงอาทิตยในดานตางๆ การคมนาคม
ทางทะเล
แสงไฟประภาคาร แสงไฟของทุนลอยน้ํา แสงไฟขางเรือ
ทางบก
ไฟสัญญาณขางถนน ไฟสัญญาณพื้นถนน ไฟสัญญาณใหรถไฟ โคมไฟบนทางดวน โทรศัพทฉุกเฉินบนทางดวน กลองวิดีโอขางถนน พัดลมระบายอากาศที่หนาตาง/หลังคารถยนต
ทางอากาศ
ดวงไฟสิ่งกีดขวางในที่สูง ดวงไฟนํารองขึ้นลง
การสื่อสาร
สถานีถายทอดวิทยุโทรทัศนบนภูเขาสูง เครื่องวัดพยากรณอากาศ วิทยุสื่อสาร กลองตรวจความปลอดภัยที่เขื่อน โทรศัพทมือถือ โทรศัพททหาร
การปองกันการสึกกรอน
ทอน้ํามัน ทอกาซ สะพานเหล็ก เขื่อนกั้นคลื่น แสงไฟทอกาซ
อุปกรณนอกอาคาร
โคมไฟถนน โคมไฟสนามหญา โคมไฟประตูรั้ว โคมไฟปายรถเมล โคมไฟตูโทรศัพท โคมไฟปายประกาศ โคมไฟปายลี้ภัย โคมไฟหอนาฬิกา หอนาฬิกา เครื่องขยายเสียง ปม สูบน้ํา ประตูรั้วไฟฟา ประตูบานไฟฟา ติดผนังอาคารเสริมงานสถาปตยกรรม ติดตั้งที่หลังคาสระวายน้ํา ติดตั้งที่หลังคาสนามกีฬา
การอวกาศ
ดาวเทียม สถานีอวกาศ ยานอวกาศเดินทางไกล
การปศุสัตว
รั้วไฟฟาปองกันสัตวหนี ปมน้ําดื่มน้ําใช แสงไฟจับกบจับแมลงตางๆ
การประมง
เครื่องกระตุนการแพรพันธุสัตวน้ําในทะเลดวยเสียงและแสงไฟ โคมไฟลอปลาในทะเล โคมไฟหาปลาในทะเล หองเย็นเก็บสัตวทะเล เปาลมลงบอเลี้ยงสัตวน้ํากระตุนการแพร พันธุ
การเกษตรกรรม
ปมสูบน้ํา แสงไฟกรีดยางพารา บานชาวสวนยาง หุนไลการองไลนก หองอบพืชใหแหง เครื่องนวดขาวกลางทุงนา การชลประทาน ระบบฉีดพนน้ํา
การวัดและรักษา สภาพแวดลอม
เครื่องวัดอุณหภูมิน้ําทะเล เครื่องวัดความเค็มน้ําทะเล เครื่องวัดความเร็วน้ําทะเล เครื่องวัดความสูงคลื่นทะเล เครื่องวัดฝุนในอากาศ เครื่องวัดระดับเสียง/ควัน เครื่องวัดละอองเกสรดอกไม(ปองกันโรคภูมิแพ) เปาลมลงบอน้ํา/คลอง
การแพทย
ตูเย็นเก็บยาและวัคซีน โคมไฟสถานีอนามัย วิทยุสื่อสาร
การบันเทิง
เรือมอเตอร โคมไฟแคมป วิทยุสื่อสาร โทรทัศน โคมไฟบานพักตากอากาศ เครื่องบิน เครื่องรอน รถยนตไฟฟา ของเลนไฟฟา รถไฟฟาสนามกอลฟ หมวกติดพัดลม
ระบบไฟฟา
ตอเขาระบบของการไฟฟา หมูบานหางไกล โรงเรียนหางไกล สถานีอนามัยหางไกล
ภายในอาคาร
เครื่องคิดเลข นาฬิกาขอมือ ของเลน ประตู-หนาตางผลิตไฟฟาได พัดลมระบายอากาศที่หนาตาง
ติดตั้งบนหลังคาบาน
จายไฟฟาตอนกลางวันใหเครื่องใชไฟฟาตางๆ ในบาน
1-119
รูปที่ 1.120 กราฟลักษณะสมบัติเอาตพุตและจุดทํางานของเซลลแสงอาทิตย รูปที่ 1.120 โดยทั่วไปจะเปลี่ยนแปลงตามความเขมของแสงและอุณหภูมิ ดังนั้นผูใชงานจึงควรทราบ สภาพแวดลอมเหลานี้ใหชัดเจนดวย ตารางที่ 1.11 แสดงตัวอยางผลิตภัณฑอิเล็กทรอนิกสและความเขมของ แสงที่เหมาะสม [110]
ตารางที่ 1.11 ตัวอยางเงื่อนไขความสวางของแสงที่ใชกับเซลลแสงอาทิตยในการใชงานตางๆ อุปกรณ เครื่องคิดเลข
นาฬิกาขอมือ วิทยุ เครื่องประจุแบตเตอรี่
ตนกําเนิดแสง ความสวางของแสง หลอดฟลูออเรสเซนต หรือ ต่ําสุด 50-100 lux แสงภายในหองทํางาน มาตรฐาน 200-800 lux สูงสุด ประมาณ 120,000 lux แสงภายในหอง หรือ มาตรฐาน 3,000-100,000 lux แสงอาทิตย สูงสุด 120,000 lux แสงภายในหอง หรือ มาตรฐาน 3,000-100,000 lux แสงอาทิตย สูงสุด 120,000 lux สวนมากเปนแสงอาทิตย มาตรฐาน 10,000-100,000 lux สูงสุด 120,000 lux
วงจรพื้นฐาน การใชงานเซลลแสงอาทิตยเพื่อปอนพลังงานไฟฟาใหผลิตภัณฑอิเล็กทรอนิกสมี 2 วิธีคือ 1. วิธีใชเซลลแสงอาทิตยเพียงอยางเดียวเปนแหลงกําเนิดพลังงาน เชน การใชเซลลแสงอาทิตยกับ เครื่องคิดเลข ซึ่งเรามักจะใชเครื่องคิดเลขเฉพาะเมื่อมีแสงเทานั้น 2. ใชแบตเตอรี่สําหรับประจุไฟฟาควบคูดวย เชน กรณีนาฬิกาขอมือ ซึ่งบางครั้งเราอาจเก็บนาฬิกา ไวในที่มืด จึงตองมีแบตเตอรี่หรือตัวเก็บประจุเก็บพลังงานไฟฟาไว กรณีการใชเซลลแสงอาทิตยเพียงอยางเดียวเปนตนกําเนิดพลังงานไฟฟา รูปที่ 1.121 แสดงวงจรพื้นฐานการใชเซลลแสงอาทิตยเพียงอยางเดียวเปนตนกําเนิดพลังงานไฟฟา ถาเราใชเซลแสงอาทิตยเพื่อปอนพลังงานไฟฟาใหเครื่องคิดเลขซึ่งมี LSI เปนโหลด ในวงจรจะตองมีไดโอด สําหรับควบคุมแรงดันไฟฟาไมใหสูงเกินขีดจํากัด (นิยมใชซีเนอรไดโอด) และตัวเก็บประจุสําหรับควบคุม
1-120
แรงดันไฟฟาใหคงที่ ตัวเก็บประจุนี้ชวยควบคุมมิใหการเปลี่ยนแปลงของแรงดันไฟฟามากเกินไป (<± 10%) เชน กรณีที่ความเขมแสงเปลี่ยนแปลงมากๆ หรือเกิดแสงไฟกะพริบจามากๆ กรณีใชแบตเตอรี่สําหรับประจุไฟฟาควบคูดวย รูปที่ 1.122 แสดงวงจรการใชงานเซลลแสงอาทิตยซึ่งมีแบตเตอรี่สําหรับประจุไฟฟา จะตองมี ไดโอดที่ทําหนาที่ปองกันมิใหกระแสไฟฟาไหลยอนจากแบตเตอรี่กลับไปสูเซลลแสงอาทิตย และมีตัวตานทาน สําหรับควบคุมไมใหกระแสไฟฟาไหลเกินขีดจํากัด (หรืออาจใชวงจรควบคุมแรงดันไฟฟาแทนก็ได)
รูปที่ 1.121 วงจรพื้นฐานการใชเซลลแสงอาทิตยในกรณีที่มีเซลลแสงอาทิตยเปนตนกําเนิดพลังงาน เพียงอยางเดียว
รูปที่ 1.122 วงจรการใชงานเซลลแสงอาทิตยซึ่งใชแบตเตอรี่สําหรับประจุไฟฟา วงจรควบคุมแรงดันไฟฟาและกระแสไฟฟา ไดโอดสําหรับควบคุมแรงดันไฟฟาครอมโหลดไมใหสูงเกินขีดจํากัด ปกติการปอนพลังงานไฟฟาใหผลิตภัณฑอิเล็กทรอนิกสมักจะตองการใหแรงดันไฟฟาคงที่ หรือ ตองการไมใหแรงดันไฟฟาสูงเกินขีดจํากัด มิฉะนั้นผลิตภัณฑอิเล็กทรอนิกสอาจจะเสียหายได วิธีการควบคุม แรงดันไฟฟามี 2 วิธีคือ (1) วิธีการตอซีเนอรไดโอดแบบไบแอสยอน (กลับทิศทาง) กับเซลลแสงอาทิตย รูปที่ 1.123 แสดง กราฟลักษณะสมบัติ I-V ของซีเนอรไดโอด หลักการทํางานของซีเนอรนี้คือ ในกรณีที่แรงดันไฟฟาจากเซลล แสงอาทิตยสูงเกินแรงดันพังทลายของซีเนอรไดโอด กระแสไฟฟาจะไหลผานซีเนอรไดโอดทันที และ แรงดันไฟฟาที่ครอมโหลดจะไมสูงเกินกวาคาแรงดันพังทลายของซีเนอรไดโอด แรงดันพังทลายของซีเนอร ไดโอดที่มีขายมีหลายชนิด เชน ตั้งแตคาต่ําระดับ 1.5 V ไปจนถึงระดับ 100 V
1-121
(2) วิธีการตอไดโอดแบบไบแอสตามกับเซลลแสงอาทิตย เมื่อมีแรงดันไฟฟาจากเซลลแสงอาทิตย สูงเกินคาแรงดันเทรชโฮลดของไดโอดกระแสไฟฟาก็จะไหลผานไดโอด ตัวอยางกรณีถาใช LED ชนิด GaP เปนไดโอด แรงดันไฟฟาจะถูกจํากัดอยูที่ประมาณ 1.5 V ซึ่งเหมาะสมตอการใชวิธีกับ LSI รูปที่ 1.124 แสดง กราฟ I-V ของ LED ชนิด GaP เมื่อกระแสไฟฟาไหลผาน LED กระแสไฟฟาสวนเกินนี้ก็จะถูกเปลี่ยนเปน แสง จึงชวยกําจัดพลังงานสวนเกินจากเซลลแสงอาทิตยไดดวย เปนการรักษาไมให LSI เสียหาย ไดโอดสําหรับปองกันไมใหกระแสไฟฟาไหลยอนกลับเขาเซลลแสงอาทิตย ในสภาพที่เกิดความมืด เชน ตอนกลางคืนหรือ เซลลแสงอาทิตยวางอยูในที่มืด ถาแรงดันไฟฟา เอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยลดลงต่ํากวาแรงดันของแบตเตอรี่ จะทําใหกระแสไฟฟาไหลยอนจากแบตเตอรี่ ไปสูเซลลแสงอาทิตย วิธีการปองกันไมใหเกิดเหตุการณเชนนี้ จําเปนจะตองมีไดโอดตอเพิ่มเขาไปในวงจรดัง แสดงในรูปที่ 1.122 ไดโอดที่ทําหนาที่นี้เรี่ยกวา “บล็อกกิงไดโอด” (blocking diode) วิธีการตอบล็อกกิง ไดโอดคือ ใหตอแบบอนุกรมกับเซลลแสงอาทิตยโดยใหกระแสไฟฟาจากเซลลแสงอาทิตยไหลไดสะดวกขณะมี แสง (ไบแอสตาม) คุณสมบัติของบล็อกกิงไดโอดที่พึงปรารถนาไดแก กระแสไฟฟาไหลยอนกลับอิ่มตัวควรมี คานอยที่สุด และแรงดันไฟฟาครอมตอนไบแอสตามควรมีคานอยที่สุด รูปที่ 1.125 แสดงตัวอยางกราฟ I-V ของไดโอดชนิด Ge, Si และ ชอตตกีไดโอด เนื่องจากกระแสไฟฟาไหลยอนกลับอิ่มตัวของชนิด Ge คอนขาง มีคามาก ดังนั้นจึงนิยมใชบล็อกกิงไดโอดชนิด Si และชอตตกีแบเรียชนิด Si วงจรควบคุมอัตราการประจุกระแสไฟฟาเขาแบตเตอรี่ไมใหสูงเกินขีดจํากัด ในการประจุกระแสไฟฟาเขาแบตเตอรี่จะตองมีการควบคุมมิใหกระแสไฟฟาไหลเขาแบตเตอรี่ดวย อัตราที่สูงเกินขีดจํากัด อัตราการประจุกระแสไฟฟาเขาแบตเตอรี่มีหนวยเปนแอมแปร-ชั่วโมง (Ah) ตัวอยางเชน ถากําหนดวา อัตราการประจุเทากับ 40 Ah หมายความวาในการประจุเปนเวลา 1 ชั่วโมง จะตอง ควบคุมไมใหกระแสไฟฟาไหลเกิน 40 A วิธีการควบคุมอัตราการประจุกระแสไฟฟาเขาแบตเตอรี่สามารถทํา
ไดโดย
รูปที่ 1.123 กราฟลักษณะสมบัติ I-V ของซีเนอรไดโอด
1-122
รูปที่ 1.124 กราฟลักษณะสมบัติ I-V ของ LED ชนิด GaP
รูปที่ 1.125 กราฟลักษณะสมบัติ I-V ของไดโอดชนิด Ge, Si และ ชอตตกีไดโอด การตอตัวตานทานแบบอนุกรมเขากับแบตเตอรี่ รูปที่ 1.126 แสดงวิธีการกําหนดคาความตานทาน Rc สําหรับ ควบคุมอัตราการประจุกระแสไฟฟา ให A คือเสนกราฟลักษณะสมบัติเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยเมื่อมีแสงความเขมสูงมากที่สุด ให B คือเสนกราฟเมื่อมีการตอบล็อกกิงไดโอด ให Vb คือแรงดันไฟฟาครอมแบตเตอรี่ ดังนั้นกระแสไฟฟาที่ไหลเขาแบตเตอรี่คือ Iout ถาเราตองการลดกระแสไฟฟาที่ประจุเขาแบตเตอรี่ใหเหลือ Ilimit เราสามารถทําไดโดยการตอตัว ตานทาน Rc แบบอนุกรมกับแบตเตอรี่ และจะทําใหกราฟกลายเปนเสน C คา Rc กําหนดไดจากสมการ Rc =
โดยที่
ΔV
ΔV I limit
คือแรงดันไฟฟาที่ลดลงตามที่แสดงในรูป
วงจรปองกันไมใหประจุกระแสไฟฟาเขาแบตเตอรี่นานเกินขีดจํากัด
1-123
(1.133)
การประจุกระแสไฟฟาจากเซลลแสงอาทิตยเขาแบตเตอรี่นานเกินขีดจํากัด กลาวคือ แมวาแบตเตอรี่ จะเต็มแลว ยังปลอยใหกระแสไฟฟาไหลเขาเรื่อยๆ โดยไมสิ้นสุด จะทําใหแบตเตอรี่เสียหายได ดังนั้นจึง จําเปนจะตองมีวงจรที่ทําหนาที่ตัดแบตเตอรี่ออกจากเซลลแสงอาทิตยหรือทําการลัดวงจรของเซลลแสงอาทิตย
รูปที่ 1.126 วิธีการกําหนดคาตัวตานทาน Rc สําหรับควบคุมกระแสไฟฟา
รูปที่ 1.127 ตัวอยางวงจรปองกันการประจุแบตเตอรี่สูงเกินขีดจํากัด รูปที่ 1.127 แสดงตัวอยางวงจรปองกันการประจุแบตเตอรี่สูงเกินขีดจํากัด ถาแรงดันของแบตเตอรี่สูงเกิน ขีดจํากัด วงจรนี้จะทําใหเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยอยูในสภาพลัดวงจร จึงชวยรักษาแบตเตอรี่ไวได
การออกแบบขนาดของมอดูลของเซลลแสงอาทิตย คําวามอดูล หมายถึงชุดที่ประกอบดวยเซลลแสงอาทิตยจํานวนหลายแผนที่ถูกนํามาตอกัน เพื่อใหได แรงดันและกระแสไฟฟาตามที่ตองการ กําลังไฟฟาเอาตพุตที่จะไดจากมอดูลจะแปรผันตรงกับพื้นที่ของมอดูล การออกแบบมอดูลจะตองกําหนดชนิดของเซลลแสงอาทิตย และตองทราบเงื่อนไขสภาพการใชงาน เชน สเปกตรัมของแสง ความเขมของแสง อุณหภูมิการใชงาน กําลังไฟฟา แรงดันไฟฟาและกระแสไฟฟาที่ตองการ ตัวอยางในกรณีของเซลลแสงอาทิตยชนิดอะมอรฟสซิลิคอน สามารถดูดกลืนแสงจากหลอดไฟชนิด ฟลูออเรสเซนตไดดีกวาชนิดผลึกซิลิคอน ดังนั้นจึงนิยมใชเซลลแสงอาทิตยชนิดอะมอรฟสซิลิคอนกับผลิต อิเล็กทรอนิกสที่ใชในหองสํานักงาน
(1) การกําหนดจํานวนของเซลลแสงอาทิตยที่จะตออนุกรม
1-124
เซลลแสงอาทิตยตางชนิดกัน จะใหแรงดันไฟฟาเอาตพุตแตกตางกัน ตัวอยางการใชงานภายใตแสง ความเขม 100 lux - 100,000 lux แรงดันไฟฟาสูงสุดของเซลลแสงอาทิตยชนิดตางๆ จะมีคาโดยประมาณ ดังนี้ ชนิดผลึก Si แรงดันไฟฟาสูงสุด (V) 0.3-0.4
ชนิดอะมอรฟสซิลิคอน (a-Si:H) 0.4-0.6
ชนิดผลึก GaAs 0.6-0.8
กรณีที่ใชเซลลแสงอาทิตยเปนตนกําเนิดไฟฟาใหโหลด จํานวนเซลลแสงอาทิตยที่ตออนุกรม = (แรงดันไฟฟาเอาตพุตที่ตองการ)÷(แรงดันไฟฟาเอาตพุตสูงสุดของ 1 เซลล) (1.134) กรณีที่ใชเซลลแสงอาทิตยประจุกระแสไฟฟาใหแบตเตอรี่ จํานวนเซลลแสงอาทิตยที่ตออนุกรม = (แรงดันไฟฟาที่ตองใช+แรงดันไฟฟาครอมบล็อกกิงไดโอด)÷(แรงดันไฟฟาเอาตพุตสูงสุดของ 1 เซลล) (1.135) (2) การกําหนดพื้นที่ของเซลลแสงอาทิตย กระแสไฟฟาเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยถูกกําหนดดวยพื้นที่ของเซลลแสงอาทิตย ในกรณีที่ความ ตองการกระแสไฟฟาไมสูงมากนัก ไมจําเปนตองตอเซลลแสงอาทิตยแบบขนาน แตถาความตองการแสไฟฟา สูงมาก เราก็จะตองตอเซลลแสงอาทิตยแบบขนานหลายๆ ตัว ถาให S คือพื้นที่ของเซลลแสงอาทิตย และ Imax คือกระแสไฟฟาเอาตพุตสูงสุดของเซลลแสงอาทิตยตอหนวยพื้นที่ I คือความตองการกระแสไฟฟาที่จุดทํางาน ดังนั้นพื้นที่ของเซลลแสงอาทิตยที่ตองใชคือ S =
1 I m I max
(1.136)
โดยที่ m คือแฟกเตอรที่ขึ้นกับชนิดของเซลลแสงอาทิตย (3) การออกแบบขนาดของเซลลแสงอาทิตยที่ตอกับแบตเตอรี่ การประจุกระแสไฟฟาเขาแบตเตอรี่ มีแฟกเตอรหลายขอที่ควรระวัง เชน กําลังไฟฟาที่ประจุจะ เปลี่ยนแปลงตลอดเวลาซึ่งขึ้นกับความจุของแบตเตอรี่ และเวลากลางคืนจะไมมีการประจุกระแสไฟฟา เปนตน ความเขมของแสงอาทิตยในเวลาวันมีคาประมาณ 100,000-200,000 lux และมีแสงประมาณ 5-7 ชั่วโมง คําวา “ความจุของแบตเตอรี่” หมายถึง “ปริมาณของกระแสไฟฟาที่สามารถนําไปใชงานได โดยเมื่อมี การประจุแบตเตอรี่จนเต็มแลวและใชงานดวยอัตรากระแสไฟฟาที่คงที่จนกระทั่งแรงดันของแบตเตอรี่ลดลง จนถึงคาต่ําสุด” มีหนวยคือ แอมแปร-ชั่วโมง (Ah) หรือ วัตต-ชั่วโมง (Wh) โดยทั่วไปนิยมใชหนวย Ah เพื่อปองกันมิใหแบตเตอรี่เสื่อมสภาพเร็ว จะมีการกําหนดคาการประจุกระแสไฟฟาสูงสุดที่ใชในการ ประจุเขาแบตเตอรี่ดวยตัวอักษร C เชน อัตราการประจุกระแสไฟฟาเทากับ 0.1C สําหรับแบตเตอรี่ขนาด 100 mAh หมายความวา จะตองประจุดวยกระแสไฟฟาที่ไมสูงกวา 10 mA (=0.1×100 mAh) ตารางที่ 1.12 แสดงคามาตรฐานของการประจุกระแสไฟฟาเขาแบตเตอรี่ชนิดตางๆ [110] ในกรณีการใชแบตเตอรี่ชนิด Ni-Cd กับวิทยุ การประจุที่อัตรา 0.1C จะทําใหไมเกิดการประจุมาก เกินไป หรือถาพิจารณาวา ความเขมของแสงไมสูงมากนักและมีแสงอาทิตยสั้นเพียง 3-4 ชั่วโมงตอวัน ก็อาจ
1-125
ประจุที่อัตรา 0.2-0.4C ก็ได ในกรณีแบตเตอรี่ชนิด AgCl ซึ่งนิยมใชกับนาฬิกาขอมือนั้น ควรใชอัตราการ ประจุที่นอยมากๆ คือ 0.001C รูปที่ 1.128 แสดงตัวอยางการใชงานเซลลแสงอาทิตยจายกระแสไฟฟาใหอุปกรณอิเล็กทรอนิกสชนิด ตางๆ
รูปที่ 1.128 ตัวอยางการใชงานเซลลแสงอาทิตยจายกระแสไฟฟาใหอุปกรณอิเล็กทรอนิกสชนิดตางๆ
1.9.2 การออกแบบระบบเซลลแสงอาทิตยสําหรับไฟฟากําลัง เซลลแสงอาทิตยที่ใชงานสําหรับไฟฟากําลังในที่นี้หมายถึง การใชงานที่กําลังไฟฟาสูงระดับหลายสิบ วัตตขึ้นไปถึงระดับหลายกิโลวัตตหรืออาจถึงระดับเมกะวัตต เราสามารถแบงประเภทการใชงานออกเปน 2 ประเภท คือ 1) ระบบโดดเดี่ยว (Stand Alone System) และ 2) ระบบตอเขากริดของการไฟฟา (Grid Connected System) เริ่มแรกผูจะใชงานเซลลแสงอาทิตยตองเขาใจกอนวากระแสไฟฟาที่ไดจากเซลลแสงอาทิตยนั้นเปน ชนิดกระแสตรง และเซลลแสงอาทิตยผลิตไฟฟาไดเฉพาะชวงเวลากลางวันขณะมีแสงอาทิตยเทานั้น ถา ตองการใชเซลลแสงอาทิตยจายกระแสไฟฟาใหกับเครื่องใชไฟฟากระแสสลับ จะตองตออินเวอรเตอรดวย และถาตองการใชงานในตอนกลางคืน ก็ตองใชแบตเตอรี่เก็บสะสมไฟฟาไวในตอนกลางวันดวย ดังนั้นวิธีการ ออกแบบระบบเซลลแสงอาทิตยอยางงายๆ พอจะสรุปไดดังตอไปนี้ (สมมติใหวาแสงอาทิตยกระทบเซลล แสงอาทิตยแบบมุมฉาก) 1. ขั้นตอนการกําหนดองคประกอบของระบบ ผูใชตองกําหนดวาจะใชเซลลแสงอาทิตยจายไฟฟาใหเครื่องใชไฟฟาอะไร และตองการใชไฟฟาเวลา กลางวันหรือกลางคืน (ในทุกรูปแบบการใชงานจะตองมีไดโอดตอดังรูป เพื่อปองกันมิใหกระแสไฟฟาไหล ยอนกลับเขาเซลลแสงอาทิตย) ถาจายไฟฟาใหเฉพาะเครื่องใชไฟฟากระแสตรงในเวลากลางวัน เชน หลอดไฟกระแสตรง ระบบจะ เปนดังรูปที่ 1.129 ถาจายไฟฟาใหเครื่องใชไฟฟากระแสสลับในเวลากลางวัน เชน ตูเย็น เครื่องปรับอากาศ ในระบบจะมี อินเวอรเตอรดังรูปที่ 1.130
1-126
ถาตองการใชไฟฟาในเวลากลางคืนดวย จะตองมีแบตเตอรี่เพิ่มเขามาดังรูปที่ 1.131 กลอง ควบคุมการประจุไฟฟาทําหนาที่ 1) เลือกวาจะสงกระแสไฟฟาไปยังอินเวอรเตอรหรือสงไปยังแบตเตอรี่ หรือ 2) ตัดเซลลแสงอาทิตยออกจากระบบและตอแบตเตอรี่ตรงไปยังอินเวอรเตอร
รูปที่ 1.129 วิธีการตอเซลลแสงอาทิตยเพื่อจายไฟฟาใหเครื่องใชไฟฟากระแสตรงในเวลากลางวัน
รูปที่ 1.130 วิธีการตอเซลลแสงอาทิตยเพื่อจายไฟฟาใหเครื่องใชไฟฟากระแสสลับในเวลากลางวัน
รูปที่ 1.131
วิธีการตอเซลลแสงอาทิตยเพื่อจายไฟฟาในเวลากลางคืนดวย จะตองมีแบตเตอรี่สําหรับ เก็บพลังงานไฟฟา
2. ขั้นตอนการกําหนดขนาดของระบบ 1. กําหนดจํานวนของแผงเซลลแสงอาทิตย รายละเอียดจะกลาวถึงในหัวขอที่ 5 2. กําหนดขนาดและจํานวนของแบตเตอรี่ แบตเตอรี่ที่ใชในระบบเซลลแสงอาทิตยจะตองเปนชนิด ที่สามารถประจุกระแสไฟฟาไดหลายครั้ง ซึ่งมีหลายชนิด เชน ชนิดนิกเกิลแคดเมียม (Ni-Cd) ชนิดตะกั่ว (Pb) (นิยมใชในระบบใหญๆ มากที่สุด) และชนิดนิกเกิลไฮไดรด (NiH) เริ่มแรกผูใชตองกําหนดขนาดของ แบตเตอรี่วาควรเปนเทาใด
ตัวอยางที่ 9 ถาตองการใชกระแสไฟฟา 20 Ah แรงดันไฟฟา 100 V ในกรณีแบตเตอรี่ชนิดตะกั่วซึ่งให แรงดัน 12 V จงออกแบบวาจะตองใชแบตเตอรี่ที่มีขนาดความจุเทาไร
1-127
วิธีทํา จํานวนแบตเตอรี่ที่ตองตออนุกรม = 100 V÷12 V= 9 ตัว (ปดเศษขึ้น) ความจุ B ของแบตเตอรี่แตละตัวคือ (B-20 Ah) ÷B = 70% (คา70% คือปริมาณที่ควรเหลือของ แบตเตอรี่) เพราะฉะนั้น แบตเตอรี่แตละตัวควรมีความจุมากกวา 66 Ah ขึ้นไป อนึ่งตารางที่ 1.12 ระบุวากระแสไฟฟาที่ควรใชประจุคือ 0.5-1 เทาของคาความจุของแบตเตอรี่ หมายความวา ถานําแบตเตอรี่ขนาด 66 Ahมาใชประจุ ก็ควรประจุกระแสไฟฟาที่ปริมาณไมเกิน 66×0.5 = 33-66 Ah ถาประจุกระแสไฟฟาดวยอัตรามากกวานี้จะทําใหแบตเตอรี่เสื่อมเร็ว สําหรับจํานวนครั้งของการใช งานนั้น ประมาณ 150-300 ครั้งตอแบตเตอรี่หนึ่งตัว
ตารางที่ 1.12 อัตรามาตรฐานของการประจุกระแสไฟฟาเขาแบตเตอรี่ ชนิดของแบตเตอรี่ นิกเกิลแคดเมียม (Ni-Cd) ตะกั่ว (Lead acid) นิกเกิลไฮไดรด (NiH) เงินคลอไรด (AgCl)
ประสิทธิภาพ 0.8-0.9
อัตรากระแสไฟฟา ที่ใชประจุ 0.1C-0.3C
ควรใชงานใหเหลือกี่เปอรเซ็นต ของคาความจุ จึงจะประจุครั้งตอไป 0% (ใชใหหมด)
0.85-0.95 0.7-0.9 0.9-1.0
0.5C-1C 0.1C 0.001C
70% 0% (ใชใหหมด) 70%
3. กําหนดขนาดของอินเวอรเตอร อินเวอรเตอรคืออุปกรณที่ใชสําหรับแปลงไฟฟากระแสตรงใหเปน ไฟฟากระแสสลับ ในการแปลงดังกลาวจะมีการสูญเสียเกิดขึ้นเสมอ โดยทั่วไปประสิทธิภาพของอินเวอร-เตอร มีคาประมาณ 0.85-0.9 หมายความวา ถาเราปอนกําลังไฟฟาเขาอินเวอรเตอร 100 W เราจะไดกําลังไฟฟา เอาตพุตออกจากอินเวอรเตอรมาใชประมาณ 85 -90 W นั่นเอง ดังนั้นถาเราทราบกําลังของไฟฟาที่ตองการ แลว เราจะตองเผื่อขนาดของอินเวอรเตอรไวดวย เชน ถาตองการใชไฟฟา 85-90 W เราควรเลือกใช อินเวอรเตอรที่มีเอาตพุตขนาด 100 W เปนตน ในทางปฏิบัติ อินเวอรเตอรที่มีขายในทองตลาดสําหรับใชกับ เซลลแสงอาทิตยนั้นมีขนาดมาตรฐานรุน 3 kW และ 5 kW เงื่อนไขสําคัญของสถานที่สําหรับติดตั้ง อินเวอรเตอรคือ จะตองอยูในที่รม อุณหภูมิไมสูงมากหรือต่ํามากเกินไป (ควรอยูในชวง -10°C และ 40°C) ความชื้นไมสูงเกิน 60% วางในที่ระบายอากาศไดดี ไมมีสัตว เชน หนู งู ซึ่งอาจกัดสายไฟฟาได มีพื้นที่ให บํารุงรักษาไดเพียงพอ เปนตน 3. ขั้นตอนการกําหนดสถานที่ติดตั้งแผงเซลลแสงอาทิตย สถานที่ติดตั้งแผงเซลลแสงอาทิตยควรเปนที่โลง ไมมีเงามาบังแผงเซลลแสงอาทิตย ไมอยูใกลสถานที่ เกิดฝุนมาก อาจติดตั้งแผงเซลลแสงอาทิตยบนพื้นดินก็ไดหรือบนหลังคาบานก็ได ควรวางใหแผงเซลลแสงอาทิตยมีความลาดเอียงประมาณ 10-15 องศา จากระดับแนวนอนและหันหนาไปทางทิศใต การวางแผงเซลล แสงอาทิตยใหมีความลาดดังกลาวจะชวยใหเซลลแสงอาทิตยรับแสงอาทิตยไดเฉลี่ยมากที่สุดและเกิดการระบาย น้ําฝนไดรวดเร็ว ตองออกแบบใหมีอุปกรณยึดแผงเซลลแสงอาทิตยไดอยางแข็งแรง สามารถทนตอแรงลม และฝนไดเพียงพอ และถาดานลางของแผงมีชองระบายลมไดดวยก็จะดีที่สุด
1-128
4. การใชบล็อกกิงไดโอดและบายพาสไดโอดในระบบไฟฟากําลัง ดังไดกลาวขางตนแลววา การใชเซลลแสงอาทิตยกับแบตเตอรี่นั้น จะตองมีบล็อกกิงไดโอดเพื่อ ปองกันการไหลยอนกลับของกระแสไฟฟาจากแบตเตอรี่สูเซลลแสงอาทิตย ในระบบไฟฟากําลัง เชนเดียวกัน ก็จะตองมีบล็อกกิงไดโอดตออยูเสมอ รูปที่ 1.132 แสดงวิธีการตอบล็อกกิงไดโอดกับเซลล-แสงอาทิตย จํานวนมากๆ ที่ปลายดานหนึ่งของเซลลแสงอาทิตยที่ตออนุกรมแตละแถวจะมีบล็อกกิงไดโอด 1ตัว บางครั้ง ถาเกิดเงาบังเซลลแสงอาทิตยบางตัวหรือบางแถว จะทําใหแรงดันไฟฟาเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยแถวนั้น ลดลง ดังนั้นบล็อกกิงไดโอดจะเปนตัวปองกันมิใหกระแสไฟฟาจากแถวอื่นไหลมาผานแถวที่เกิดเงาซึ่งเปนการ ปองกันมิใหแรงดันไฟฟาเอาตพุตของระบบลดลงดวย
รูปที่ 1.132
วิธีการตอบล็อกกิงไดโอดกับเซลลแสงอาทิตยจํานวนมากๆ โดยมีบล็อกกิงไดโอด 1ตัว ตออยูที่ปลายดานหนึ่งของเซลลแสงอาทิตยในแตละแถว
นอกจากนี้สถานที่และมุมการติดตั้งระบบเซลลแสงอาทิตยก็มีความสําคัญตอกําลังไฟฟาเอาตพุตดวย ตัวอยางถาติดตั้งเซลลแสงอาทิตยในสถานที่มีเงาเปนแถบบังเซลลแสงอาทิตยดังที่แสดงในรูปที่ 1.133 นั้นถือ วาเปนกรณีที่ไมดี เพราะเงาเหลานั้นสามารถบังเซลลแสงอาทิตยจํานวนหลายแถว จะทําใหกําลังไฟฟาเอาตพุต ลดลงแทบจะไมมีเอาตพุตเลย วิธีการแกไขคือ ใหพยายามจัดวางเพื่อใหเงาเหลานั้นบังเซลลแสงอาทิตยเพียงแถวใดแถวหนึ่งดังที่ แสดงในรูปที่ 1.134 ในรูปนี้กําลังไฟฟาที่ลดลงจะมีมีคาเพียง 1/6 ของระบบทั้งหมดเทานั้น นอกจากบล็อกกิงไดโอดแลว การตอบายพาสไดโอดกับเซลลแสงอาทิตยก็มีความสําคัญดวยเชนกัน รูปที่ 1.135 แสดงวิธีการตอบายพาสไดโอดเขากับเซลลแสงอาทิตย บทบาทของบายพาสไดโอดคือ ในแผง หรือมอดูลของเซลลแสงอาทิตยที่ตออนุกรมกันนั้น เชน สมมติวาตออนุกรมกัน 10 เซลล ถามีเงาไปบังเซลล แสงอาทิตยตัวใดตัวหนึ่ง แรงดันไฟฟาจากเซลลที่เหลืออีก 9 เซลลก็จะไปตกครอมเซลลมืดตัวนั้น จะเปน สาเหตุทําใหเซลลที่มืดนั้นเกิดความรอนสูง และในที่สุดก็จะสงผลใหแผงหรือมอดูลทั้งหมดรอนและเสียหายได ดังนั้นบายพาสไดโอดนี้จึงทําหนาที่ใหกระแสไฟฟาจากเซลลอื่นไหลผานไดโอดไดสะดวก
รูปที่ 1.133 การเกิดเงาบนเซลลแสงอาทิตยตามรูปนี้จะทําใหไมไดกําลังไฟฟาเอาตพุตเลย
1-129
รูปที่ 1.134
การเกิดเงาบนเซลลแสงอาทิตยตามรูปนี้จะทําใหกําลังไฟฟาเอาตพุตลดลงเพียง 1/6 ของทั้งหมด
รูปที่ 1.135 วิธีการตอบายพาสไดโอดเขากับเซลลแสงอาทิตย
1.9.3 ตัวอยางการใชงานเซลลแสงอาทิตยในประเทศไทย สําหรับในประเทศไทยเราจากอดีตถึงปจจุบัน (พ.ศ 2546) มีการติดตั้งใชงานเซลลแสงอาทิตยแลว ทั่วประเทศประมาณ 6 MW สวนใหญเปนการติดตั้งในพื้นที่หางไกลที่สายไฟฟาเขาไปไมถึง ตัวอยางการใชงาน เชน ไฟฟาหมูบานหางไกล (โดยการไฟฟาสวนภูมิภาค) สถานีทวนสัญญาณสื่อสาร (โดยองคการโทรศัพทแหงประเทศไทย) ระบบสูบน้ําในที่ทุรกันดาน (โดยกรมโยธาธิการกระทรวงมหาดไทย และกระทรวง กลาโหม) สถานีประจุแบตเตอรี่ (โดยกรมพัฒนาและสงเสริมพลังงาน กระทรวงวิทยาศาสตร เทคโนโลยีและสิ่งแวดลอม และการไฟฟาสวนภูมิภาค) ในโรงเรียนประถมศึกษาพื้นที่หางไกล (โดยกระทรวงศึกษาธิการ) ระบบผลิตไฟฟาตอเขาระบบกริด (โดยการไฟฟาฝายผลิตแหงประเทศไทย) ฯลฯ ระบบเซลลแสงอาทิตยดังกลาวเหลานี้ ไดสรางความเจริญใหกับพื้นที่ไดเปนอยางดี บางพื้นที่ชวยทํา ใหเกิดอาชีพตางๆ เพิ่มขึ้นอันเปนประโยชนตอเศรษฐกิจ และบางพื้นที่ชวยทําใหเด็กไดมีโรงเรียน ในอดีตเมื่อ เกิดเหตุการณน้ําทวมในภาคใต เสาไฟฟาและสายโทรศัพทไดรับความเสียหาย เซลลแสงอาทิตยไดกลายเปน อุปกรณสําคัญในการกําเนิดไฟฟาสําหรับการติดตอวิทยุสื่อสาร ทําใหการชวยเหลือผูประสบอุทกภัยมี ประสิทธิภาพและมีความปลอดภัย
1-130
ผูเขียนไดทดลองนําเซลลแสงอาทิตย 4 แผงไปติดตั้งที่สวนยางพาราในอําเภอสะเดา จังหวัดสงขลา เพื่อใชประจุแบตเตอรี่สําหรับไฟฉายที่ใชในการกรีดยางพาราแทนการใชตะเกียงถานหิน พบวาชาวสวนยางมี ความพอใจ เพราะไมตองดมกลิ่นควันถานหินอีกตอไป และไดแสงสวางที่ดีกวาตะเกียงถานหิน รายละเอียดเกี่ยวกับการใชงานเซลลแสงอาทิตยในประเทศไทย จะกลาวถึงอีกครั้งในบที่ 46 ซึ่งจะ กลาวถึงสถานภาพการวิจัยและพัฒนาสิ่งประดิษฐออปโตอิเล็กทรอนิกสในประเทศไทย
1.9.4 การออกแบบขนาดของระบบเซลลแสงอาทิตยสําหรับติดตั้งบนหลังคาบาน ขั้นตอนที่ 1 การกําหนดกําลังไฟฟาของเซลลแสงอาทิตยที่ควรติดตั้ง กอนจัดหาซื้อเซลลแสงอาทิตยมาใชงาน ผูใชควรพิจารณาวาจะใชเซลลแสงอาทิตยสําหรับผลิต กระแสไฟฟาใหกับเครื่องใชไฟฟาใดบาง ทั้งนี้เพื่อจะไดติดตั้งเซลลแสงอาทิตยไดเพียงพอกับความตองการและ ไมติดตั้งมากจนเกินความจําเปนซึ่งจะทําใหระบบมีราคาแพงโดยไมจําเปน จะขอยกตัวอยางวิธีคํานวณ กําลังไฟฟาของเซลลแสงอาทิตยอยางงายๆ ดังตอไปนี้
ตัวอยางที่ 10 บานหลังหนึ่งมีเครื่องใชไฟฟาและจํานวนชั่วโมงของการใชงานดังตารางขางลางนี้ จงออกแบบระบบเซลลแสงอาทิตย เครื่องใชไฟฟา หลอดฟลูออเรสเซนต โทรทัศน เครื่องปรับอากาศ อื่นๆ
จํานวน (1) 2 1 1
กําลังไฟฟาตอชิ้น (W) (2) 30 100 1,500 100
จํานวนชั่วโมงที่ใชงานใน หนึ่งวัน (3) 6 3 4 1 รวม
Wh (1)×(2)×(3) 360 300 6,000 100 6,760
วิธีทํา จากตารางขางตนนี้ ไดขอมูลวาในหนึ่งวัน บานหลังนี้ใชไฟฟา 6,760 Wh กําลังไฟฟาของเซลลแสงอาทิตยที่ควรติดตั้ง (Pcell) คํานวณไดจากสูตรดังตอไปนี้ Pcell
โดยที่
PL Q
A B C D
=
PL Q× A× B×C/ D
(1.137)
: ความตองการพลังงานไฟฟาในหนึ่งวัน : พลังงานแสงอาทิตยในหนึ่งวัน (Wh/m2) สําหรับประเทศไทยเทากับ 4,000 Wh/m2 โดย ประมาณ : คาชดเชยการสูญเสียของเซลลแสงอาทิตย โดยทั่วไปกําหนดคาประมาณ 0.8 : คาชดเชยการสูญเสียเชิงความรอน โดยทั่วไปกําหนดคาประมาณ 0.85 : ประสิทธิภาพของอินเวอรเตอร โดยทั่วไปกําหนดคาประมาณ 0.85-0.9 : ความเขมแสง โดยปกติความเขมแสงประมาณ 1,000 W/m2
เพราะฉะนั้น บานหลังนี้ตองใชเซลลแสงอาทิตยที่มีกําลังเอาตพุตเทากับ
1-131
Pcell =
6,760 400 × 0.8 × 0.85 × 0.85 / 1,000
= 2,923 W หรือประมาณ 2.9 kW
ขั้นตอนที่ 2 การกําหนดจํานวนแผงของเซลลแสงอาทิตย เมื่อทราบกําลังไฟฟาของเซลลแสงอาทิตยที่จะตองติดตั้งแลว ขั้นตอนตอไปคือ จะตองคํานวณวา จะตองใชเซลลแสงอาทิตยกี่แผง จํานวนแผงของเซลลแสงอาทิตยคํานวณไดโดยใชกําลังไฟฟาของระบบหาร ดวยกําลังไฟฟาที่เซลลแสงอาทิตยหนึ่งแผงผลิตได เมื่อทราบคาจํานวนแผงแลว ขั้นตอนตอไปคือ จะตอง คํานวณวา จะตองนําเซลลแสงอาทิตยจํานวนหลายเซลลมาตออนุกรมหรือขนานกันอยางไร จึงจะได แรงดันไฟฟาที่เพียงพอตอการใชงาน จํานวนของแผงเซลลแสงอาทิตยที่จะตองตออนุกรมกันนั้น คํานวณได โดยการใชคาแรงดันไฟฟาที่ตองการหารดวยแรงดันเอาตพุตของเซลลแสงอาทิตยหนึ่งแผง
ตัวอยางที่ 11
จากตัวอยางขางตน ทราบวาจะตองติดตั้งเซลลแสงอาทิตยเทากับ 2.9 kW และ แรงดันไฟฟากระแสตรงที่ตองปอนใหอินเวอรเตอรคือ 200 V ถามวาจะตองใชแผงเซลลแสงอาทิตยกี่แผง และควรตอเรียงกันอยางไร กําหนดใหแผงเซลลแสงอาทิตยมีลักษณะสมบัติดังนี้ กําลังเอาตพุตสูงสุด 50 W แรงดันไฟฟาสูงสุด 17 V กระแสไฟฟาสูงสุด 2.94 A แรงดันไฟฟาวงจรเปด 21.3 V และกระแสไฟฟา ลัดวงจร 3.15 A
วิธีทํา ประมาณการเริ่มแรกของจํานวนของแผงเซลลที่ตองติดตั้งทั้งหมด = 2,900 W ÷50 W = 58 แผง จํานวนของแผงเซลลที่ตออนุกรม = 200 V ÷ 17 V = 12 แผง (ปดเศษขึ้น) จํานวนแถวที่ตองตอขนาน = 58 ÷12 = 5 แถว (ปดเศษขึ้น) ดังนั้น กรณีบานหลังนี้ จะใชแผงเซลลแสงอาทิตยทั้งหมด = 12×5 = 60 แผง โดยตออนุกรมแถวละ 12 แผง และตอขนานจํานวน 5 แถว หมายเหตุ ถาในการใชงาน เมื่อเซลลแสงอาทิตยรับแสงอาทิตยเปนเวลานาน อุณหภูมิของเซลลแสงอาทิตยจะ สูงขึ้น และจะสงผลใหแรงดันไฟฟาลดลง ดังนั้นในการออกแบบ จึงควรใชคาแรงดันไฟฟาเอาตพุตสูงสุด ณ ที่ อุณหภูมิที่ใชงานจริงในการคํานวณ ตัวอยางการติดตั้งระบบเซลลแสงอาทิตยบนหลังคาบานในประเทศไทย การไฟฟาฝายผลิตแหงประเทศไทย (กฟผ.) เปนหนวยงานหนึ่งของประเทศไทยที่มีความสนใจและ กระตือรือรนในการนําเซลลแสงอาทิตยมาใชงานเปนเวลานาน และไดติดตั้งระบบเซลลแสงอาทิตยไปแลวหลาย แหงรวมเกือบ 100 kW “โครงการสาธิตการติดตั้งเซลลแสงอาทิตยบนหลังคาบาน” เปนโครงการที่กฟผ. กําลังใหความสนใจมาก ตัวอยางที่ติดตั้งไปแลวไดแก ที่อําเภอสันกําแพง จังหวัดเชียงใหม มีแผงเซลลแสงอาทิตย 44 แผง รวมกําลังไฟฟาเอาตพุต 2.5 kW เซลลแสงอาทิตยทั้งหมดผลิตไฟฟากระแสตรงในชวง ที่ มีแสงอาทิตยผานอินเวอรเตอรใหเปนกระแสสลับขนาด 220 V ความถี่ 50 Hz และผานระบบปองกันแลวจึง นํามาใชภายในบาน กระแสไฟฟาสวนเกินจะสงขายเขาระบบ สําหรับใน พ.ศ. 2541 นี้ กฟผ. ยังไดรับงบสนับสนุนจากสํานักงานคณะกรรมการนโยบายพลังงานแหงชาติ (สวทช.) ใหดําเนินการติดตั้งเซลลแสงอาทิตยบนหลังคาบานเพิ่มอีก 10 หลังคาเรือนในเขต กรุงเทพมหานคร จากการประกาศรับสมัครประชาชนผูสนใจ มีผูเสนอชื่อขอเขารวมโครงการกวา 200 ราย
1-132
แตตองคัดเลือกเหลือเพียง 10 ราย คาใชจายซึ่งสํานักงานนโยบายพลังงานแหงชาติใหการสนับสนุนหลังละ ประมาณ 2 แสนบาทเศษ และเจาของบานรับผิดชอบเองอีกประมาณ 2 แสนบาทเศษ ลักษณะเดนของ โครงการนี้คือ 1. ไมมีการใชแบตเตอรี่ ทําใหลดราคาของระบบลงไดมาก 2. กระแสไฟฟาที่ผลิตไดจากเซลลแสงอาทิตยจะถูกนําไปใชในบานทันที และถามีไฟฟาเหลือ ไฟฟาที่ เหลือนั้นจะถูกสงออกไปสูระบบของการไฟฟานครหลวงอยางอัตโนมัติ นั่นคือ มีการขายไฟฟาที่เหลือใช 3. มีวัตตมิเตอร ซึ่งสามารถวัดไฟฟาที่ซื้อจากการไฟฟานครหลวง อีกวัดไฟฟาที่ขายใหการไฟฟานคร หลวง ทําใหเจาของบานทราบปริมาณไฟฟาที่ซื้อและที่ขายไดอยางถูกตอง รูปที่ 1.136 แสดงสวนประกอบที่สําคัญของชุดสาธิตระบบเซลลแสงอาทิตยบนหลังคาบานซึ่งมี 5 สวนคือ
รูปที่ 1.136
แผนภูมิแสดงสวนประกอบที่สําคัญของชุดสาธิตระบบเซลลแสงอาทิตยบนหลังคาบาน (ภาพเอื้อเฟอจากการไฟฟาฝายผลิตแหงประเทศไทย)
1. ชุดแผงเซลลแสงอาทิตย (Photovoltaic arrays) ในโครงการนี้ บานจํานวน 8 หลังใชแผงเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอนซึ่งมีกําลังไฟฟา เอาตพุตสูงสุด 75 W/แผง บานแตละหลังใชเซลลแสงอาทิตยจํานวน 30 แผงโดยตออนุกรมกัน 15 แผง จํานวน 2 แถว ทําใหไดกําลังสูงสุดหลังละ 2,250 W แรงดันไฟฟาสูงสุด 255 V กระแสไฟฟาสูงสุด 8.8 A ใชพื้นที่ติดตั้งทั้งระบบ 20 m2 เซลลแสงอาทิตยทั้งหมดมีน้ําหนักรวม 228 kg นอกจากนี้บานอีก 2 หลังใชแผงเซลลแสงอาทิตยชนิดฟลมบางอะมอรฟสซิลิคอนซึ่งมีกําลังไฟฟา เอาตพุตสูงสุด 64 W/แผง บานหนึ่งหลังใชเซลลแสงอาทิตยชนิดอะมอรฟส 45 แผงโดยตออนุกรมกัน 15 แผง จํานวน 2 แถว ทําใหไดกําลังสูงสุดหลังละ 2,880 W แรงดันไฟฟาสูงสุด 240 V กระแสไฟฟาสูงสุด 12 A ใชพื้นที่ติดตั้งเซลลแสงอาทิตยทั้งหมด 46 m2 เซลลแสงอาทิตยทั้งหมดมีน้ําหนักรวม 418 kg 2. กลองรวมสาย (Junction box) กลองรวมสายเปนกลองที่ใชเปนที่พักสายไฟฟาจากแผงเซลลและเปนที่พักสายไฟฟากระแสสลับ กอนที่จะตอเขากับอินเวอรเตอร และภายในกลองจะมีอุปกรณมิเตอรสําหรับวัดแรงดันและกระแสไฟฟา
1-133
กระแสตรงที่ผลิตไดจากเซลลแสงอาทิตย รวมทั้งมีฟวสและสวิตชเบรกเกอร เพื่อปองกันการเกิดไฟฟาลัดวงจร และสามารถปดเมื่อเกิดเหตุการณฉุกเฉิน 3. อินเวอรเตอร (Inverter) อินเวอรเตอรที่ใชในโครงการมีกําลังเอาตพุตสูงสุด 5,000 W แรงดันไฟฟากระแสตรงขาเขา อินเวอรเตอร 170-230 V แรงดันไฟฟากระแสสลับขาออก 220 V ความถี่ 50 Hz ประสิทธิภาพในการแปลง กระแสไฟฟาสูงกวา 90% ฮารมอนิกต่ํากวา 5% มีระบบปองกันใหอินเวอรเตอรหยุดทํางานในกรณีที่ แรงดันไฟฟาอินพุตมีการเปลี่ยนแปลงมากคาที่กําหนด 4. มิเตอรผลิตไฟฟาและมิเตอรขายไฟฟา (Product kWh meter & Export KWh meter) มิเตอรผลิตไฟฟาจะทําหนาที่บันทึกขอมูลที่อินเวอรเตอรจายกําลังไฟฟาที่ผลิตไดออกมาเปน kWh ซึ่ง จะทําใหเราทราบวาใน 1 วันหรือ 1 เดือนสามารถผลิตไฟฟารวมไดเทาไร มิเตอรผลิตไฟฟานี้จะติดตั้งไวที่ กลองรวมสาย มิเตอรขายไฟฟาจะทําหนาที่บันทึกขอมูลที่ไดจากปริมาณการใชไฟฟาที่เหลือใชภายในบาน แลว สงขายผานระบบจําหนายของการไฟฟาฯ (อาจใชมิเตอรเพียง 1 เครื่องที่สามารถหมุนได 2 ทิศทาง) 5. ระบบบันทึกขอมูล (Data acquisition system) การบันทึกขอมูลอยางละเอียดจะกําหนดสําหรับบาน 2 หลัง เพื่อใชประเมินผลตอไป โดยมีการติดตั้ง เครื่องวัดความเขมของแสงอาทิตย (pyrometer) เครื่องวัดอุณหภูมิของแผงเซลลแสงอาทิตยและกําลังผลิตเปน ตน
ผลที่คาดวาจะไดรับจากโครงการสาธิตติดตั้งเซลลแสงอาทิตยบนหลังคาบานนี้ไดแก 1) ชวยผลิตพลังงานทดแทนในชวงเวลากลางวันซึ่งใชไฟฟามาก 2) ทําใหประชาชนมีสวนรวมในการผลิตไฟฟา และสรางจิตสํานึกในการใชไฟฟาอยางประหยัด 3) ลดผลกระทบที่ทําลายสิ่งแวดลอม 4) ชะลอการกอสรางโรงไฟฟาและขยายระบบสายสง 5) ชวยลดการสูญเสียพลังงานไฟฟาในระบบสายสง เปนตน รูปที่ 1.137 แสดงตัวอยางภาพบานที่ติดตั้งแผงเซลลแสงอาทิตยบนหลังคาบานในโครงการ 10 หลังคาแรกของประเทศไทยใน พ.ศ. 2541 บานในรูป (ก) อยูในเขตดอนเมือง กรุงเทพมหานคร ใชเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอน จํานวน 30 แผงใหกําลังไฟฟาเอาตพุตสูงสุด 2.25 kW บานในรูป (ข) อยูในหมูบานเมืองเอก ปทุมธานี ใชเซลลแสงอาทิตยชนิดอะมอรฟสซิลิคอนจํานวน 45 แผงใหกําลังไฟฟาเอาตพุตสูงสุด 2.88 kW
1.9.5 การบํารุงรักษาเซลลแสงอาทิตยและอายุการใชงาน อายุการใชงานเซลลแสงอาทิตยโดยทั่วไปยาวนานกวา 20 ป และบริษัทผูผลิตเซลลแสงอาทิตย รับประกันในระยะเวลาที่นานหลายป ดังนั้นผูใชจึงไมจําเปนตองกังวลเกี่ยวกับอายุการใชงาน การบํารุงรักษา ก็งาย เพียงแตคอยดูแลวามีสิ่งสกปรกตกคางบนแผงเซลลแสงอาทิตยหรือไม เชน ฝุน มูลนก ใบไม ถาพบวามี สิ่งสกปรก ก็ใชน้ําลางทําความสะอาดบางเปนครั้งคราว เชน ปละ 1-2 ครั้งก็เพียงพอ หามใชน้ํายาพิเศษลาง
1-134
หรือใชกระดาษทรายขัดผิวกระจกโดยเด็ดขาด เมื่อฝนตก น้ําฝนจะชวยชําระลางแผงเซลลแสงอาทิตยไดตาม ธรรมชาติ ในบางครั้งเซลลแสงอาทิตยที่ประกอบไมดี เมื่อใชงานไปนานๆ ความชื้นจากอากาศอาจซึมเขาสู ภายในแผง และจะทําใหแผงเซลลแสงอาทิตยมีสีเหลืองน้ําตาลซึ่งเปนสีที่แสดงวาแผนโพลิเมอรในแผงเซลล แสงอาทิตยเสื่อมคุณภาพลง หรือบางครั้งอาจพบวาฉนวนอิปอกซีซึ่งถูกอัดอยูที่ขอบของแผงมีน้ําขังหรือเปราะ ในกรณีเหลานี้ใหผูใชติดตอบริษัทผูผลิตเพื่อขอแลกเปลี่ยนแผงเซลลแสงอาทิตยที่ชํารุด สําหรับในระบบที่มีการใชแบตเตอรี่ชนิดใชน้ํากลั่น (lead acid) หามใชไฟฟาจนแบตเตอรี่หมด แต ควรใชไฟฟาเพียง 30-40% และเริ่มประจุไฟฟาใหมใหเต็มกอนใชงานครั้งตอไป และตองคอยหมั่นเติมน้ํา กลั่นและเช็ดทําความสะอาดขั้วของแบตเตอรี่ ในกรณีที่มีการใชอินเวอรเตอร ก็ควรสังเกตวามีเสียงดังผิดปกติ หรือเกิดความรอนผิดปกติหรือไม ถาพบความผิดปกติที่อินเวอรเตอร ใหตัดหยุดการปอนกระแสไฟฟาเขา อินเวอรเตอรและติดตอบริษัทผูจําหนายหรือผูเชี่ยวชาญ สุดทายนี้ ขอแนะนําตัวอยางแนวความคิดในการประยุกตใชงานเซลลแสงอาทิตยในลักษณะตางๆ ดังที่แสดงในรูปที่ 1.138-1.152
รูปที่ 1.137 ตัวอยางภาพบานที่ติดตั้งแผงเซลลแสงอาทิตยบนหลังคาบานในกรุงเทพมหานคร (ก) อยูในเขตดอนเมือง กรุงเทพมหานคร ใชเซลลแสงอาทิตยชนิดผลึกเดี่ยวซิลิคอน จํานวน 30 แผง ใหกําลังไฟฟาเอาตพุตสูงสุด 2.25 kW (ข) อยูในหมูบานเมืองเอก ปทุมธานี ใชเซลลแสงอาทิตยชนิดอะมอรฟสซิลิคอน จํานวน 45 แผง ใหกําลังไฟฟาเอาตพุตสูงสุด 2.88 kW (ภาพเอื้อเฟอจาก การไฟฟาฝายผลิตแหงประเทศไทย)
1-135
รูปที่ 1.138
ระบบลอปลาดวยแสงไฟพลังงานจากเซลลแสงอาทิตย แผงเซลลวางอยูบนทุนลอยกลางทะเล หลอดไฟอยูใตน้ํา ชาวประมงจะออกไปจับปลาเมื่อเห็นภาพฝูงปลาปรากฏบนจอโทรทัศน
รูปที่ 1.139
ระบบปมอากาศ (ออกซิเจน) ดวยพลังงานจากเซลลแสงอาทิตย เปาลมลงไปใตน้ําเพื่อเลี้ยง สัตวน้ํา เชน ปลา กุง และลอสัตวน้ําใหเขาใกล แผงเซลลวางอยูบนทุนลอยกลางทะเลหรือ กลางบอ
รูปที่ 1.140
ระบบปอนอาหารแบบอัตโนมัติใหสัตวน้ําดวยพลังงานจากเซลลแสงอาทิตย แผงเซลลแสงอาทิตยวางอยูบนทุนลอย กอนปอนอาหาร จะสรางเสียงใตน้ํา เพื่อเรียกปลาใหเขาใกล ทําใหปอนอาหารไดอยางมีประสิทธิภาพ
1-136
รูปที่ 1.141
ระบบการตรวจวัดสภาพแวดลอมแบบอัตโนมัติดวยพลังงานจากเซลลแสงอาทิตย ประกอบดวย เครื่องวัดความเร็วลม เครื่องวัดความเร็วกระแสน้ํา เครื่องวัด อุณหภูมิและความลึก และเครื่องวัดระดับน้ําขึ้นน้ําลง เปนตน
รูปที่ 1.142 ระบบสูบน้ําบาดาลดวยพลังงานจากเซลลแสงอาทิตย มีถังเก็บน้ําไวใชอยางเพียงพอ
รูปที่ 1.143
ระบบชลประทานดวยพลังงานจากเซลลแสงอาทิตย เครื่องสูบน้ําจากคลองใหไหลไป ตามทางสงน้ําขนาดเล็กเพื่อการเพาะปลูก
1-137
รูปที่ 1.144 ระบบฉีดโปรยน้ําดวยพลังงานจากเซลลแสงอาทิตย เพื่อการเพาะปลูกพืชผัก
รูปที่ 1.145
รูปที่ 1.146
การใชงานแบบผสมระหวางระบบทําความรอนและระบบผลิตกระแสไฟฟาดวย เซลลแสงอาทิตยเพื่อการกสิกรรม
ระบบอบแหงธัญพืชดวยพลังงานจากเซลลแสงอาทิตย โดยใชพัดลมเปาอากาศแหง และรอนเขาไปในหองอบที่อยูกลางทุงนา
1-138
รูปที่ 1.147 เครื่องนวดขาวพลังงานเซลลแสงอาทิตย สามารถติดตั้งที่กลางทุงนา
รูปที่ 1.148 สถานีอนามัยทํางานดวยพลังงานจากเซลลแสงอาทิตย ในชนบทหางไกล
รูปที่ 1.149 สถานีผลิตกระแสไฟฟาดวยเซลลแสงอาทิตยสําหรับหมูบานชนบทหางไกล
1-139
รูปที่ 1.150
สถานีสังเกตอุตุนิยมวิทยา ในที่หางไกล เชน วัดปริมาณน้ําฝน วัดความเร็วลม พรอมดวยชุดเตือนอุทกภัย
รูปที่ 1.151 สถานีถายทอดสัญญาณวิทยุโทรทัศนดวยพลังงานจากเซลลแสงอาทิตยบนภูเขาสูงหางไกล
รูปที่ 1.152
ชุดโทรศัพทมือถือพลังงานเซลลแสงอาทิตย จุดเดนอยูที่การใชเซลลแสงอาทิตยชนิด อะมอรฟสซิลิคอนซึ่งผลิตบนแผนโลหะที่เบาและโคงงอได สามารถพับแผนเซลลได ไมแตกหักแมจะทําหลน มีน้ําหนักเบา ทําใหพกติดตัวไดสะดวก [111]
1-140
เอกสารอางอิง [1] [2] [3] [4]
C. Hu and R.M. White, Solar Cells, McGraw-Hill (1983). H.J. Hovel, Semiconductors and Semimetals, 11, Academic Press (1975). B.L. Sharma, R.K. Purohit, Semiconductor Heterojunctions, Pergamon Press (1974). K. Ito and T. Ohsawa, “Photovoltaic Effect at n-CdS/p-InP Heterojunctions”, Jpn. J. Appl. Phys., 14, 1259 (1975). [5] R.L. Anderson, Solid State Electron., 5, 341 (1962). [6] A.L. Farenbruch, J. of Crystal Growth, 39, 73 (1977). [7] A. Rothwarf and A.M. Barnett, “Design Analysis of the Thin-Film CdS-Cu2S Solar Cell”, IEEE Trans. on Electron Devices, ED24, 381 (1977). [8] Z.I. Alferov, V.M. Andrev and D.N. Tretyakov, Sov. Phys. Semicond., 4, 132 (1970). [9] M. Bettini and K.J. Bachmann, “CdS/InP and CdS/GaAs Heterojunctions by Chemical-Vapor Deposition of CdS”, J. Appl. Phys., 49, 865 (1978). [10] K. Ito, “Effect of Lattice Misfit on pn Junction Characteristics”, Appl. Phys. Lett., 36, 577 (1980). [11] M.A. Green, Solar Cells, Prentice-Hall, 88 (1982). [12] A.W. Blakers, A. Wang, A.M. Milne, J. Zhao and M.A. Green, “22.8% Efficient Silicon Solar Cell”, Appl. Phys. Lett., 55, 1363 (1989). [13] W. Shockley and H.J. Queisser, “Detailed Balance Limit of Efficiency of p-n Junction Solar Cells”, J. Applied Physics, 32, 510 (1961). [14] C.T. Sah, “Carrier Generation and recombination in p-n Junctions”, Proc. IRE, 45, 1228 (1957). [15] A.S. Grove, Physics and Technology of Semiconductor Devices, Wiley, New York, 158 (1967). [16] M.A. Green, Solar Cells, Prentice-Hall, 146 (1982). [17] J.G. Fossum et al., “Physics Underlying the Performance of Back-Surface Filed Solar Cells”, IEEE Trans. Electron Devices, ED-27, 785 (1980). [18] A.S. Grove, Physics and technology of Semiconductor Devices, New York, Wiley, 44 (1967). [19] J.C. Tsai, Proc. IEEE-Photovoltaic Specialists Conf., U.S.A., 1499 (1969). [20] J. Lindmayer and J.F. Allison, Proc. 9th IEEE Photovoltaic Specialists Conf., U.S.A. 83 (1972). [21] J.G. Fossum, F.A. Lindholm and M.A. Shibib, “The Importance of Surface recombination and Energy Gap Narrowing in pn Junction Silicon Solar Cells”, IEEE Trans. Electron Devices, ED26, 1294 (1979). [22] H.B. Serreze, “Optimizing Solar Cell Performance by Simultaneous Consideration of Grid Pattern Design and Interconnect Configurations”, Proc. 13th IEEE Photovoltaic Specialists Conf, Washington D.C., 609 (1978). [23] G.A. Landis, “Optimization of Tapered Busses for Solar Cell Contacts”, Solar Energy, 22, 401 (1979). [24] R.S. Scharlack, “The Optimization Design of Solar Cell Grid Lines”, Solar Energy, 23, 199 (1979).
1-141
[25] E.S. Heavens, Optical Properties of Thin Solid Films, Buterworths, London (1955). [26] M.A. Green, Solar Cells, Prentice-Hall, 163 (1982). [27] E.Y. Wang et al., “Optimal Design of Antireflection Coatings for Silicon Solar Cells”, Proc. 10th IEEE Photovoltaic Specialists Conf., Palo Alto, U.S.A., 168 (1973). [28] M.A. Green, Solar Cells, Prentice-Hall, 96 (1982). [29] M.A. Green, A.W. Blakers, J. Shi, E.M. Keler and S.R. Wenham, “19.1% Efficient Silicon Solar Cell”, Appl. Phys. Lett., 44, 1163(1984). [30] M.A. Green, A.W. Blakers and C.R. Osterwald, “Characterization of High-Efficiency Silicon Solar Cells”, J. Appl. Phys., 58, 4402 (1985). [31] M.A. Green, A.W. Blakers, S.R. Wenham, S. Narayanan, M.R. Willison, M. Taouk and T. Szpitalak, “Improvements in Silicon Solar Cell Efficiency”, Proc. 18th IEEE PVSC, 39 (1985). [32] A.W. Blakers and M.A. Green, “20.9% Efficiency Silicon Solar Cells”, Appl. Phys. Lett., 48, 215 (1986). [33] M.A. Green, Z. Jianhua, A.W. Blakers, M. Taouk and S. Narayanan, “25% Efficient Low Resistivity Silicon Concentrator Solar Cells”, IEEE Elec. Dev. Lett., EDL-7, 583 (1986). [34] A. Wang, J. Zhao and M.A. Green, “24% Efficient Silicon Solar Cells”, Appl. Phys. Lett., 57, 602 (1990). [35] C.M. Chong, S.R. Wenham and M.A. Green, “High-Efficiency, Laser Grooved, Buried Contact Silicon Solar Cells”, Appl. Phys. Lett., 52, 407 (1988). [36] A.K. Ghosh, C. Fishman and T. Feng, “Theory of the Electrical and Photovoltaic Properties of Polycrystalline Silicon”, J. Appl. Phys. 51, 44 (1980). [37] Ishikawa, et al., Proc. 3rd High Efficiency Solar cell Workshop, Toyama, Japan, 24 (1992). [38] G.E. Pike and C.H. Seager, “The DC Voltage Dependence of Semiconductor Grain-Boundary Resistance”, J. Appl. Phys., 50, 3414 (1979). [39] P.H. Robinson and R.V. D’Aiello, “The Effect of Atomic Hydrogen Passivation on Polycrystalline Silicon Epitaxial Solar Cells”, Appl. Phys. Lett., 39, 63 (1981). [40] D.S. Ginley and D.M. Haaland, “Observation of Grain Boundary Hydrogen in Polycrystalline Silicon with Fourier Transform Infrared Spectroscopy”, Appl. Phys. Lett., 39, 271 (1981). [41] B.L. Sopori and S. Tsuo, “Hydrogen in Si: Diffusion and Defect Passivation”, Proc. 22nd IEEE Photovoltaic Specialists Conf., Las Vegas, U.S.A., 833 (1991). [42] T. Machida and T. Tsuji, “Efficiency Improvement in Polcrystalline Si Solar Cell with Grooved Surface”, Proc. 22nd IEEE Photovoltaic Specialists Conf., Las Vegas, U.S.A., 1033 (1991). [43] T. Warabisao, K. Matsukuma, S. Kokunai and H. Yagi, Proc. 11th European PVSEC (1992). [44] A. Takayama, Proc. 3rd High Efficiency Solar cell Workshop, Toyama, Japan, 28 (1992). [45] D. E. Carlson and C. R. Wronski, “Amorphous Silicon Solar Cell”, Appl. Phys. Lett., 28, 671(1976). [46] D. E. Carlson and C. R. Wronski, “Amorphous Silicon Solar Cells”, U.S. Patent No. 4,064,521. [47] D. E. Carlson, “Amorphous Silicon Solar cells”, IEEE Trans. Elec. Dev., ED-24, 449 (1977).
1-142
[48] Y. Hattori, D. Kruangam, K. Katoh, Y. Nitta, H. Okamoto and Y. Hamakawa, “Highly Conductive Wide Band Gap p-type a-SiC:H Prepared by ECR CVD and Its Application to High Efficiency a-Si Basis Solar Cell”, Proc. 19th IEEE Photovoltaic Specialists Conf., New Orleans, U.S.A., 689 (1986). [49] Y. Hattori, D. Kruangam, T. Toyama, H. Okamoto and Y. Hamakawa, “High Efficiency Amorphous Heterojunction Solar Cell Employing ECR CVD Produced p-type Microcrystalline SiC Film”, Technical Digest of 3th Int. Photovoltaic Science & Engineering Conf. (PVSEC-3), Tokyo, Japan, 171 (1987). [50] D.Kruangam, P. Siamchai, W. Boonkosum and S. Panyakeow, “Integrated Type a-Si:H Solar Cells Having Simple Configurations”, Technical Digest of 7th Int. Photovoltaic Science and Engineering Conf. (PVSEC-7), Nagoya, Japan, 217 (1993). [51] D. Kruangam and S. Panyakeow, “Study of Hydrogenated Amorphous Silicon for Optoelectronic Devices”, Proc. 2nd Regional Symp. Optoelectronics, Jakarta, Indonesia, 11 (1989). [52] ดุสิต เครืองาม และคณะ, รายงานการวิจัยฉบับสมบูรณเรื่อง “เซลลแสงอาทิตยชนิดอะมอรฟสซิลิคอน”, หองปฏิบัติการวิจัยสิ่งประดิษฐสารกึ่งตัวนํา ภาควิชาวิศวกรรมไฟฟา จุฬาลงกรณมหาวิทยาลัย เสนอสํานักงานคณะกรรมการวิจัยแหงชาติ (1990) 181 หนา. [53] ดุสิต เครืองาม และคณะฯ, รายงานการวิจัยฉบับสมบูรณ, เซลลแสงอาทิตยชนิดอะมอรฟสซิลิคอน, หองปฏิบัติการวิจัยสิ่งประดิษฐสารกึ่งตัวนํา, ภาควิชาวิศวกรรมไฟฟา, คณะวิศวกรรมศาสตร, จุฬาลงกรณมหาวิทยาลัย เสนอศูนยเทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกสและคอมพิวเตอรแหงชาติ (1993) 130 หนา. [54] ดุสิต เครืองาม และคณะฯ, “เซลลแสงอาทิตยชนิดอะมอรฟสซิลิคอน”, การประชุมวิชาการของเนคเทค ครั้งที่ 4, โรงแรมอโนมา, กรุงเทพมหานคร, 190 (1992). [55] Y. Hamakawa, “Recent Advance in PV Technology”, The Japan Industrial Journal, 9, 10(1996). [56] ดุสิต เครืองาม, “สถานภาพเทคโนโลยีและอุตสาหกรรมเซลลแสงอาทิตยในปจจุบัน”, วิศวกรรมสารป ที่ 42 เลมที่ 2, 65 (1989). [57] H. Okamoto, Y. Nitta, T. Adachi and Y. Hamakawa, “Glow Discharge Produced Amorphous Silicon Solar Cells”, Surface Scince, 86, 486 (1979). [58] Y. Hamakawa editor, Japan Annual Reviews in Electronics, Computers & Telecommunications (JARECT), Amorphous Semiconductor, North-Holland-OHM, 134 (1982). [59] D. M. Pai and R. C. Enck, “Onsager Mechanism of Photogeneration in Amorphous Selenium”, Phys. Rev. Lett., 11, 5163 (1975). [60] Y. Hamakawa and H. Okamoto, Report of Special Research Project on Amorphous material and Physics, 2, 196 (1980). [61] I. Mort, A. Troup, M. Morgan, S. Grammatica, J. C. Knights and R. Lujan, “Geminate Recombination in a-Si:H”, Appl. Phys. Lett., 38, 277 (1981). [62] J. Dresner, B. Goldstein and D. Szostak, “Diffusion Length of Holes in a-Si:H by the Surface Photovoltage Method”, Appl. Phys. Lett., 38, 998 (1981).
1-143
[63] R. S. Crandall, “Modeling of Thin Film Solar cells: Uniform Field Approximation”, J. Appl. Phys., 54, 7176 (1983). [64] M. Hack and M. Shur, “Physics of Amorphous Silicon p-i-n Solar cells”, J. Appl. Phys., 58, 997 (1985). [65] R. J. Swartz, J. N. Park and G. B. Turner, “Numerical Modeling of a-Si:H Thin Solar cells”, Technical Digest of 4th PVSEC, Sydney, Australia, 607 (1989). [66] M. Shur, W. Czubatyj and A. Madan, J. Non-Crystalline Solids, 35 & 36, 731 (1980). [67] T. Yamaguchi, H. Okamoto, S. Nonomura and Y. Hamakawa, “Study of Drift Type Photovoltaic Effect in Amorphous Silicon p-i-n Junction Structure”, Proc. 2nd Photovoltaic Sci. & Eng. Conf., Tokyo (1980), and Jpn. J. Appl. Phys., 20-2, 191 (1981). [68] H. Okamoto, T. Yamaguchi and Y. Hamakawa, “A Study of Geminate Recombination Process in Terms of p-i-n Basis Drift Type Photovoltaic Effects”, Proc. 15th Int. Conf. on the Physics of Semiconductors, Kyoto (1980), and J. Phys. Soc. Japan, 49A, 1213 (1980). [69] Electrical Society of Japan, Solar Cell Handbook, 72 (1985). [70] J. H. Thomas and A. Catalano, “AES and XPS Analysis of the a-Si:H/SnO2 Interface: Evidence of Plasma Induced Reaction”, Appl. Phys. Lett., 43, 101 (1983). [71] C. Gianetti et al. “SnO2 Reduction by H-Bombardment and its Effects on SnO2/a-Si Interfaces”, J. Non-Cryst. Solid, 115, 204 (1989). [72] A. Catalano, B. W. Faughnan and A. R. Moore, “Effects of Low Level Boron Doping of the ilayer Performance of a-SiC:H p-i-n Devices”, Solar Energy Materials, 13, 65 (1986). [73] D. Kruangam, K. Hanaki, S. Nonomura, H. Okamoto and Y. Hamakawa, “Characterization of Undoped Microcrystalline Silicon for Solar Cell Application”, Technical Digest of Int. Photovoltaic Science & Engineering Conf. (PVSEC-1), Kobe, Japan, 437 (1984). [74] A. Matsuda, “Formation Kinetics and Control of Microcrystalline in μc-Si:H From Glow Dischrage Plasma”, J. Non-Cryst. Solids, 59&60, 767 (1983). [75] Y. Tawada, M. Kondo, H. Okamoto and Y. Hamakawa, “Hydrogenated Amorphous Silicon Carbide As a Window Material for High Efficiency a-Si Solar Cells”, Solar Energy Materials, 6, 299 (1982). [76] Y. Tawada, M. Kondo, H. Okamoto and Y. Hamakawa, “a-SiC:H as a Window Material for High Efficiency a-Si Solar Cells”, Solar Energy Materials, 6, 299 (1982). [77] Y. Hamakawa and Y. Tawada, “Valency Control of Glow Discharge Produced a-SiC:H and Its Application to Heterojunction Solar Cells”, Int. J. Solar Energy, 1, 125 (1982). [78] Y. Kashima, S. Nonomura, H. Kida, K. Fukumoyo, H. Okamoto and Y. Hamakwa, “High Quality a-Si Film Produced by Horizontal Plasma Furnace”, J. Non-Crys. Solids, 59&60, 755 (1983). [79] Y. Kuwano, “A New Integrated Type Amorphous Si Solar Cell”, Jpn. J. Appl. Phys., supplement 20-2, 213 (1981). [80] Y. Hamakawa, chapter 3 in Current Topics in Photovoltaics, T. H. Coutt, editor, Academic Press, 111 (1985).
1-144
[81] D. Kruangam, W. Boonkosum and P. Siamchai, “Development of Amorphous Si:H High-Voltage Solar Cell Based upon p-i-n MultiLayered Structrues”, Proc. 16th Conf. on Electrical Engineering, King Mongkut Institute of Technology (Ladkrabang), Bangkok, 482 (1993). [82] Y. Kuwano, M. Ohnishi, H. Nishiwaki, S. Tsuda, T. Fukatsu and H. Tarui, “Multi-Gap Amorphous Si Solar Cells Prepared by the Consecutive Seperated Reaction Chamber Method”, Proc. 16th IEEE Photovoltaic Specialists Conf., New York, 1338 (1982). [83] A. Catalano et al., “Research on Stable, High-Efficiency, Amorphous Silicon Multijunction Modules”, SERI/TP-214-4405 (1991). [84] J. Yang and S. Guha, “High Efficiency Multijunction Solar Cells Using a-Si and a-SiGe Alloys”, Proc. 20th IEEE Photovoltaic Specialists Conf., New York, 241 (1988). [85] J. Yang, A. Banerjee and S. Guha, “An Amorphous Silicon Alloy Triple-Junction Solar Cell with 14.6% Initial and 13.0% Stable Efficiencies”, Proc. Materials Research Society, Vol. 467: Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology, San Francisco, 693 (1997). [86] S. Terazono, T. Ishihara and M. Aiga, “Amorphous SiGe Alloy Film and Its Application to High Efficiency Triple Junction Solar Cells”, Optoelectronics-Devices and Technologies-, 2, 115 (1987). [87] S. R. Ovshinsky, “Roll to Roll Mass Production Process for a-Si Solar Cell Fabrication”, Technical Digest of 1st Int. Photovoltaic Science & Engineering Conf. (PVSEC-1), Kobe, 577 (1984). [88] Y. Kuwano, H. Tarui, T. Takahama, M. Nishikuni, Y. Hishikawa, N. Nakamura, S. Tsuda, S. Nakano and M. Ohnishi, “High Effiency a-Si Solar Cell with a Superlattice Structure p-Layer and Stable a-Si Solar Cells with Reduced Si-H2 Bond Density”, J. Non-Crystalline Solids, 97&98, 289 (1987). [89] S. Fujikake, H. Ohta, P. Sichanugrist, M. Ohsawa, Y. Ichikawa and H. Sakai, “a-SiO:H Films and Their Applications to Solar Cells”, Optoelectronics-Devices and Technologies-, 9, 379 (1994). [90] Y. Kishi, H. Inoue, H. Tanaka, M. Morizane, H. Shibuya, M. Ohnishi and T. Yazaki, “Development of See-Through a-Si:H Solar Cell and Its Applications”, Technical Digest of 3rd Int. Photovoltaic Science & Engineering Conf. (PVSEC-3), Tokyo, Japan, 569 (1988). [91] M. Yamaguchi and Y. Itoh, “Efficiency Considerations for Polycrystalline GaAs Thin-Film Solar Cells” J. Appl. Phys., 60, 413 (1986). [92] L.C. Stuerke, Proc. 13th IEEE Photovoltaic Specialists Conf., 551 (1978). [93] T.J. Coutts and M. Yamaguchi, “Current Topics in Photovoltaics”, Vol. 3, J. Coutts and J.D. Meakin editors, Academic Press, 79 (1988). [94] J.R. Tuttle, M. Contreras, D.S. Albin and R. Noufi, “Physical, Chemical and Structural Modifications to Thin Film CuInSe2 Based Phovoltaic Devices”, Proc. 22nd IEEE Photovoltaic Specialists Conf., Las Vegas, U.S.A., 1062 (1991). [95] D.A. Jenny, J.J. Loferski and P. Rappaport, “Photovoltaic Effect in GaAs p-n Junctions and
1-145
Solar Energy Conversion”, Phys. Rev., 101, 1208 (1956). [96] J.C.C. Fan, C.O. Bozler and R.L. Chapman, “Simplified Fabrication of GaAs Homojunction Solar Cells with Increased Conversion Efficiencies”, Appl. Phys., 32, 390 (1978). [97] J.M. Woodall and H.J. Hovel, “High Efficiency GaAlAs/GaAs Solar Cells”, Appl. Phys., 21, 379 (1972). [98] S.R. Kurtz, J.M. Olson and A.E. Kibbler, Proc. 21st IEEE Photovoltaic Specialists Conf., Orlando, U.S.A., 138 (1990). [99] M. Yamaguchi, C. Uemura and A. Yamamoto, “Radiation Damage in InP Single Crystals and Solar Cells”, J. Appl. Phys., 55, 1429 (1984). [100] S.M. Vernon and T.M. Dixon, “III-V Solar Cell Research at Spire Corporation”, Solar Cells, 27, 107 (1989). [101] Y. Kadota, M. Yamaguchi, and Y. Ohmachi, “GaAs-on-Si Solar Cells”, Proc. of 4th Int. Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-4), Australia, 873 (1989). [102] J.A. Bragagnolo, A.M. Barnett, J.E. Philips, R.B. Hall, A. Rothwarf and J.D. Meakin, “The Design and Fabrication of Thin Film CdS/Cu2S Solar Cells of 9.15% Conversion Efficiency”, IEEE Trans. Electron Devices, ED-27, 645 (1980). [103] N. Suyama, N. Ueno, K. Omura, and H. Takada, National Technology Report, Matsushita Techno-Research, 32, 667 (1986). [104] M. Konagai, “Present Status and Perspectives of Thin Film Solar Cells”, 2nd ASEAN Renewable Energy Conf., Phuket, Thailand (1997). [105] ดุสิต เครืองาม, “สถานภาพของเทคโนโลยีเซลลแสงอาทิตย”, วิศวกรรมสาร เลมที่ 2, 65 (1989). [106] D. Kruangam, T. Endo, M. Deguchi, W.G. Pu, H. Okamoto and Y. Hamkawa, “Amorphous Silicon Carbide Thin Film Light Emitting Diodes”, Optoelectronics Devices and Technologies, 11, 67 (1986). [107] Y. Hattori, D. Kruangam, K. Katoh, Y. Nitta, H. Okamoto and Y. Hamakawa, “HighlyConductive Wide Band Gap p-type a-SiC:H Prepared by ECR CVD and Its Application to High Efficiency a-Si Basis Solar Cells”, Proc. 19th IEEE Photovoltaic Specialists Conf., New Orleans, U.S.A., 689 (1987). [108] Y. Kuwano, M. Ohnishi, H. Nishiwaki, S. Tsuda, S. Fukatsu, T. Enomoto, K. Nakashima and H. Tarui, Proc. 16th IEEE Photovoltaic Specialists Conf., New York, U.S.A., 1338 (1982). [109] L.D. Partain editor, Solar Cells and Their Applications, John Wiley & Sons, New York, 173 (1995). [110] Y. Hamakawa and Y. Kuwano editors, Solar Energy Engineering, chapter 6, Baifukan, Japan (1995). [111] D. Kruangam, B. Ratwises, T. Sujaridchai and S. Panyakeow, “Novel Application of Amorphous Silicon Flexible Solar Cell as Battery Charger for Personal Mobile Telephone”, Proc. 9th Int. Photovoltaic Science and Engineering Conf., Japan, 829 (1996).
1-146