DORIS SCHULZ
ICT | TECHNOLOGY OVERVIEW
SCHULZ. PRESSE. TEXT., Korntal – Germany ds@pressetextschulz.de
Cleanliness in submicrometer and atomic percent range
Livello di pulizia nella gamma submicrometrica e atomica
In many industry areas new and enhanced products lead
In molti settori industriali prodotti nuovi e migliorati portano
to very high cleanliness specifications. Due to changed
con sé specifiche di pulizia molto elevate. A causa delle mutate
manufacturing, joining and coating technologies and
tecnologie di produzione, di saldatura e di rivestimento e
more stringent regulatory specifications, there are stricter
di normative più stringenti, vi sono requisiti più severi in
requirements for particulate and film-type part cleanliness.
termini di pulizia dai contaminanti particellari e pellicolari.
To reach these values in series production in a process-
Per soddisfare questi requisiti nella produzione in serie in
reliable and efficient way, not only cleaning and drying
modo affidabile ed efficiente, non solo i processi di lavaggio e
processes meeting demands and suited system technology,
asciugatura con una tecnologia di sistema adatta, ma anche
also software implementation and cleaning environment
l’implementazione di software e l’ambiente di lavaggio devono
must be adapted accordingly.
essere adattati di conseguenza.
W
C
cells, optical systems or metal cutting tools, the requirements for
accumulatori e celle a combustibile, sistemi ottici o utensili per il taglio
performance and reliability are extremely high.
del metallo, i requisiti prestazionali e di affidabilità sono elevatissimi.
hether production equipment for the semi-inductor industry, biotechnology, laser and sensor technology, devices for measuring
and analysis technology, components for accumulators and fuel
he si tratti di apparecchiature di produzione per l’industria dei semiconduttori, biotecnologie, tecnologia laser e dei sensori,
dispositivi di misurazione e tecnologie di analisi, componenti per
© Ecoclean
By combining wet chemical and low-pressure plasma cleaning methods for ultrafine degreasing in a single machine, the surface characteristics required for downstream coating or bonding are efficiently achieved. Combinando il lavaggio chimico e con plasma a bassa pressione per lo sgrassaggio ultrafine in una singola macchina, le caratteristiche superficiali richieste per il successivo rivestimento o incollaggio si ottengono in modo efficiente.
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N. 21 - 2022 APRIL - ipcm Industrial Cleaning Technologies ®
