HSLU T&A – Institut für Architektur – Jahrbuch 2017/2018

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Bildnachweis Fotografien von den Studierenden, ausser: Studierende mit ihren Modellen Die letzte Schlusskritik des Diplomsemesters 2018 war von einem Fotoshooting begleitet. Einige der schönsten Aufnahmen von Lukas Galantay zeigen wir hier. © Die Urheberrechte liegen bei den jeweiligen AutorInnen und / oder deren VertreterInnen.

Kolophon Jahrbuch der Architektur 17 / 18 Hochschule Luzern – Technik & Architektur Verantwortlich: Prof. Hansjürg Buchmeier Konzeption: Peng Peng / Prof. Hansjürg Buchmeier Gestaltung: Peng Peng (Klaus Fromherz & Martin Geel), www.pengpeng.ch Textredaktion: Dr. Marion Sauter Mitarbeit: Lukas Galantay, Jan Hostettler, Christine Jungo, Markus Käch, Jara Malevez, Ramona Tschuppert Druck: Druckerei Odermatt AG, Dallenwil Bindung: Buchbinderei Burkhardt AG, Mönchaltorf Papiere: Magno Star 135 g/m², Magno Satin 100 g/m² Umschlag: Gmund Colours Pink 300 g/m² Schriften: Metric Auflage: 700 Exemplare © Copyright 2018 Hochschule Luzern – Technik & Architektur und Quart Verlag Luzern Alle Rechte vorbehalten ISBN-Nr.: 978-3-03761-169-2 Quart Verlag GmbH Denkmalstrasse 2, CH–6006 Luzern E-Mail: books@quart.ch, www.quart.ch

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